Резисты метакрилатные

Частицы поверхностного слоя позитивного резиста прилипают к шаблону контактной печати при экспонировании, что приводит к дефектам слоя. Для предотвращения этого шаблон покрывают фторированным метакрилатным полимером. Кроме того, между шаблоном и слоем можно оставлять зазор 10—15 мкм. Однако и в этом случае остаются проколы, они сохраняются и при экспонировании без маски. Очевидно, они образуются в результате механических напряжений в слое резиста, вызванных выделяющимся при экспонировании азотом и электростатическими взаимодействиями резиста и поверхности подложки. Последние снимаются добавками в слой небольших количеств солей — олеатов, стеаратов, ацетатов, га-толуолсульфонатов 1-гидроксиэтил-2-алкил(Ст— С 7)-Д -имидазолиниев (Моназолиниев) это приводит к резкому уменьшению числа проколов [пат. США 4142892 франц. пат. 2354578 пат. ФРГ 2626419]. [c.89]

Как показано на рис. 3.95, метакрилатные резисты типа ГВМ-ПО обладают спектром поглощения, несколько смещенным в сторону более коротких волн (максимум коэффициента поглощения находится при 215 нм) по сравнению со спектром ртутных ламп высокого давления экспозиционных устройств, используемых в настоящее время (длина волны около 300 нм). По этой причине при экспонировании ртутными лампами высокого давления нельзя обеспечить требуемую чувствительность вместе с тем при использовании ламп, спектр которых находится в более короткой области длир волн, например ламп на дейтерии (длина волны около 180 нм), чувствительность ГВМ-ПО в 8 раз выше чувствительности ПММА, и если будет реализовано экспозиционное устройство с такой длиной волны, то ГВМ-ПО может использоваться как резист для дальних ультрафиолетовых лучей. Более того, поскольку это соединение обладает чувствительностью к коротким длинам волн, существуют определенные пре=-имущества и с точки зрения микроминиатюризации. [c.244]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология