Пленки уравнение толщины

Хауффе и Илшнером для указанной области толщин плёнок получено уравнение для их роста в форме (8). Модель Хауффе и Илшнера в отличие от модели Кабреры— Мотта основана на учете пространственного заряда в пленке толщиной несколько сотен ангстрем. Уравнение (8) удовлетворительно описывает окисление магния, цезия и железа при комнатной температуре, циркония и титана при температурах ниже 300 °С. В соответствии с представлениями, развитыми Хауффе и Илшнером, [c.396]

В кимической промышленности широко используются пленочные массообменные аппараты, в которых реализуется режим турбулентного движения таза и ламинарного движения стекающей пленки. Чисто ламинарное стека ние жидкости имеет место при числах Рейнольдса Ке = 164-20. В реальных аппаратах, работающих при малых нагрузках по жидкости, то есть при числах Рёйнольдса до Ке = 60 80, происходит переход к волновому режиму стекАния пленки. Однако модель ламин рно стекающей пленки достаточно хорошо описывает процессы массообмена между жидкостью и газом Хатта осуществил теоретический расчет средней концентрации растворяющегося газа в ламинарйо движущейся пленке при допущении, что скорость плёнки по глубине жидкости остается постоянной. Вязовов , Левнч и ряд других исследователей предложили решение уравнения конвективной диффузии в жидкой пленке, считая распределение скоростей по толщине пленки параболическим. Однако в упомянутых выше работах система газ — жидкость в целом не рассматривалась. В работе были получены приближенные значения коэффициентов массоотдачи для ламинарного потока газа и ламинарно стекающей пленки. Настоящая работа посвящена изучению массообмена при противоточном движении ламинарной пленки жидкости и турбулентном потоке газа в трубке. [c.76]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология