Температура радиальные градиенты в кольцевом

Исследование устойчивости каталитических реакторов осложняется наличием радиального градиента температуры. В случае большого перепада температур по радиусу устойчивость реактора необходимо контролировать на основе радиальных температурных профилей, рассчитанных при различных фиксированных осевых температурах. Тепловой баланс для кольцевого элемента объема, в котором осевой градиент температуры равен нулю, можно записать в виде [c.282]

Во-вторых, существенное влияние на валиковую структуру могут оказать даже незначительные неоднородности нагрева снизу и (или) охлаждения сверху. Например, в известных экспериментах [155, 156] осесимметричная система кольцевых валов в круглом резервуаре возникала благодаря наличию радиального градиента температуры в верхнем теплообменнике, поскольку охлаждающая вода поступала в центральную часть теплообменника, а отводилась вблизи его наружного края. [c.93]

Поддержание осесимметричной картины в эксперименте, как правило, требует либо радиального градиента температуры хотя бы на одной из горизонтальных поверхностей слоя, либо достаточно сильного пристеночного вынужцения. Иначе возникает система валов типа изображенной на рис. 19,5, или даже более сложная текстура, состоящая из отдельных упорядоченных фрагментов. Поэтому, если осесимметричная структура реально наблюдается, то ее волновое число может отличаться от предпочтительного. Оно не обязано совпадать и с тем значением f a s которое было найдено для больших расстояний г от оси симметрии с использованием разложения исходных уравнений по 1/г [64, 260] — чем больше радиус резервуара, тем более сильное вынуждающее воздействие требуется для поддержания кольцевых валов. [c.187]

Плазменное напыление схоже с процессом электродугового напыления тем, что для плавления и распыления подаваемого металла используется электрическая дуга постоянного тока. В данном случае дуга представляет собой ионизированную газовую плазму, образующуюся между электродами металла, охлаждаемыми водой. Электроды в этом процессе не расходуются. В плазменном металлизаторе точечный вольфрамовый катод, охлаждаемый водой, установлен концентрически у основания соплообразного охлаждаемого водой медного анода. Подаваемый газ под углом поступает сзади в кольцевой между-электродный зазор, ионизируется и образует дугу. Поток газа выталкивает дугу в отверстие сопла, где спиральный поток создает концентрацию тепла в центре плазменной дуги. Благодаря очень высокому температурному градиенту, образуемому при этом расположении дуги, температура в центре достигает 20000° С. Температура стенки сопла составляет 250° С. Металл для покрытия в виде порошка подается во втором потоке газа и радиально впрыскивается в сопло металлизатора. Частицы металла, проходя через плазменную дугу, плавятся, распыляются и выводятся из сопла под действием потока газа. [c.80]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология