Кремний оксигалогениды

Галогениды кремния, серы, углерода, фосфора и азота [129]. Эти соединения так же, как и соответствующие оксигалогениды и хлориды металлов, легко подвергаются гидролизу. Это значительно затрудняет их хроматографирование, но не требует применения только фторированных носителей и неподвижных фаз, на которых анализируются реакционноспособные фториды. Затруднен выбор насадки при хроматографировании легко гидролизуемых галогенидов и оксигалогенидов фосфора и кремния. Подвержены гидролизу все галогениды серы, кроме фторидов, а также некоторые оксигалогениды углерода. Анализ этих соединений невозможен без предварительного удаления влаги из сорбентов, газа-носителя и коммуникаций хроматографа. Особенно труден анализ тетрафторида кремния, который количественно поглощается стерхамолом, активированным углем, окисью алюминия и ситами 5А [130]. Через колонку с тефлоном 51р4 про- [c.77]

Большее значение имеют реакции восстановления кремнийсодержащих веществ многими субгалогенидами или металлами, применяемыми при их получении, особенно теми, которые образуют очень устойчивые силициды, окислы или оксигалогениды. Эти реакции наблюдаются по крайней мере для некоторых из восстанавливаемых галогенидов почти для всех элементов вплоть до шестого периода включительно (плюс переходные металлы), особенно для наиболее тяжелых элементов и большинства вос-станозленных форм галогенидов, которые образуются при высоких температурах. С другой стороны, при более низких температурах образуются галогениды в промежуточных состояниях окисления, причем загрязнения их стеклом не происходит. Непосредственное воздействие твердого металла на стекло обычно очень незначительно вследствие ограниченного контакта между двумя твердыми фазами. Это воздействие усиливается при значительно более низкой температуре, если присутствуют летучий низший галогенид, расплав или другие компоненты, которые могут переносить металл или окись кремния в другую фазу. Так, реакция Та или Nb с окисью кремния свободно протекает при 800—1100° в присутствии галогена, причем газообразный низший галогенид переносит металл или окись кремния реакция не происходит в высоком вакууме при 1100° [138]. [c.35]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология