Метод клина для фотометрического измерения концентраций

В методе определения концентрации по относительным интенсивностям (с внутренним стандартом) точность составляет 10— 15% от фактического содержания определяемого элемента. Однако точность можно повысить, если вместо приблизительной оценки интенсивности меньше и больше устанавливать, насколько больше или меньше интенсивность гомологических линий. Такие измерения можно проводить с помощью фотометрического клина. [c.170]

Для определения тонкости отсева (размера наиболее крупных частиц в фильтрате) может быть применен оптический метод, основанный на принципе осаждения. Очевидно, что оптическая плотность суспензии на некоторой глубине должна оставаться неизменной пока не осядут наиболее крупные частицы твердой фазы. После, прохождения через слой крупных частиц оптическая плотность суспензии начнет уменьшаться. С окончанием осаждения наиболее мелких частиц оптическая плотность достигает неизменного минимального значения. Время от начала осаждения, в течение которого оптическая плотность остается неизменной, является искомым временем для определения размера наиболее крупных частиц в суспензии. По времени от начала осаждения до момента достижения минимальной оптической плотности можно определить размеры наиболее мелких частиц в суспензии. Для определения тонкости отсева материалов по изменению оптической плотности фильтратов может применяться фотокалориметр ФЭК-М, который предназначен для измерения концентрации растворов но интенсивности их окраски. Принципиальная схема фотокалориметра показана на фиг. 16. Здесь источник света / через систему конденсоров, зеркал, теплозащитных стекол и светофильтров 2 посылает световые потоки на два селеновых фотоэлемента 6 вентильного типа. Величина одного светового потока падающего на фотоэлемент регулируется фотометрическими клиньями 4, величина другого светового потока регулируется с помощью щелевой диафрагмы 5. Фотоэлементы включены дифференциально, поэтому при равенстве световых [c.47]