Фоторезисты на основе поливинилциннаматов

Фоторезисты на основе поливинилциннаматов, применявшиеся вначале в производстве полупроводниковых приборов поколения 50-х годов, перешли затем в производство печатных плат и полиграфических офсетных. печатных форм. Трудности их удаления [c.163]

ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛЦИННАМАТОВ [c.99]

НЕГАТИВНЫЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛЦИННАМАТОВ И ДРУГИХ ЦИКЛОДИМЕРИЗУЮЩИХСЯ СИСТЕМ [c.161]

Одним из типов негативных фоторезистов, широко используемых в фотолитографической практике с начала 50-х годов, явились составы на основе поливинилциннаматов. Фотолиз а, -нена-сыщенных карбонильных соединений приводит к фотодимеризации с образованием циклобутанового кольца. Эта реакция обусловлена, как было показано МО-расчетами, увеличением в возбужденном состоянии электронной плотности на a, -двoйнoй связи [1—3]. Фотоциклодимеризация характеризуется образованием эк-симера [4]. [c.161]

Далее определяется интенсивность образования фоторельефа в полимере, что находит отражение на графике в координатах d — Ig Я, где d — толщина слоя полимера, а Я =1/5 — экспозиция, т. е. величина, обратная светочувствительности. Мерой интенсивности процесса является коэффициент контрастности, который оценивается по тангенсу угла наклона прямолинейного участка характеристической кривой. Эта методика впервые была предложена Ляликовым с сотр. [5] и нашла признание во всем мире. В настоящее время на основании ее получают ряд дополнительных параметров, характеризующих фототропизм в слоях. Показана зависимость светочувствительности слоя от квантового выхода формирования рельефа, спектральных свойств и концентрации фо-тоактивного хромофора и молекулярно-массового распределения полимера [6]. Установлено по параметрам светочувствительности отсутствие радикальных процессов в исследованных фоторезистах на основе поливинилциннаматов, диазидов, нафтохинондиазидов. [c.96]

Большее значение производные антрахинона имеют в состав негативных фоторезистов. Антрахиноны здесь выступают в роли сен сибилизатора отверждения полимерной основы фоторезиста. Напри мер, 1,5- или 2,6-диазидоантрахиноны под действием света сенсибили зируют отверждение циклокаучука, что широко используется в нега тивных фоторезистных композициях [156]. качестве сенсибилизаторо поливинилциннамата применяют антрон и пирантрон [154]. [c.50]

В качестве полимерной основы для целого ряда негативных фоторезистов используются разнообразные каучуки [41]. Однако циклодимеризация в них за счет этиленовых связей, которая могла бы осуществляться с помощью вводимых сенсибилизаторов, как и у поливинилциннаматов, не приводит к практически ценным резистивным рельефам. Поэтому их фотоструктурирование происходит в результате реакций с фоточувствительными бифункциональными мономерами, дающими многочисленные поперечные связи в полимере после экспонирования. [c.104]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология