Поливинилциннамат

V.l. СОСТАВЫ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛЦИННАМАТОВ [c.161]

Эфиры ПВС с кислотами, имеющими объемные заместители, образуются при взаимодействии полимера с хлорангидридами кислот в среде пиридина или на границе раздела фаз. Таким методом получены обладающий противотуберкулезным действием эфир ПВС и и-аминосалициловой кислоты, а также эфир ПВС и коричной кислоты (поливинилциннамат). Реакции этерификации протекают до более высокой степени замещения в среде растворителей, в которых полностью растворяется конечный продукт. [c.119]

Так как рассчитанное значение Eg при условии квантового выхода сшивания, равного примерно 2 и чисто радикального пути структурирования составляет только 10 Дж/см [22], можно считать, что если радикальный процесс в поливинилциннаматах и имеет место, то его эффективность очень невелика. [c.163]

До сих пор интенсивно проводятся работы по увеличению сроков надежности поливинилциннаматов. Так, в а. с. СССР 732786 для повышения стабильности высокосветочувствительных фотодимеризующихся составов рекомендуется использовать производные коричных эфиров поли-р-гидроксиэтилметакрилата следующей общей формулы [c.164]

Фоторезисты на основе поливинилциннаматов, применявшиеся вначале в производстве полупроводниковых приборов поколения 50-х годов, перешли затем в производство печатных плат и полиграфических офсетных. печатных форм. Трудности их удаления [c.163]

Среди негативны хФ. наиб, распространены композиции па основе циклоолефиновых каучуков с диазвдами в качестве сшивающих агентов, а также сенсибилизированные поливиниловый спирт, поливинилциннамат и др. Схема превращения негативного Ф. на основе каучука и диазица представлена р-цией [c.175]

Использование в качестве структурных единиц циануразидов обеспечивает еще большую по сравнению с арилазидами стабильность полимерного состава как при получении его, так и в процессе длительного хранения светочувствительной композиции. Эти композиции рекомендуются для создания масок на ЗЮг/З или 51, при этом их экспонируют коротковолновым УФ-светом, травят плавиковой кислотой, достигая разрешение 0,5 мкм. Полимер используют на медной подложке, травят по рельефу раствором хлорида железа (III). Обычно для получения фоторельефа с помощью азидсодержащих композиций на медной подложке рекомендуется использовать светочувствительный промежуточный слой, например на основе поливинилциннамата, в рассматриваемой разработке удается обойтись без него. [c.159]

НЕГАТИВНЫЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛЦИННАМАТОВ И ДРУГИХ ЦИКЛОДИМЕРИЗУЮЩИХСЯ СИСТЕМ [c.161]

Одним из типов негативных фоторезистов, широко используемых в фотолитографической практике с начала 50-х годов, явились составы на основе поливинилциннаматов. Фотолиз а, -нена-сыщенных карбонильных соединений приводит к фотодимеризации с образованием циклобутанового кольца. Эта реакция обусловлена, как было показано МО-расчетами, увеличением в возбужденном состоянии электронной плотности на a, -двoйнoй связи [1—3]. Фотоциклодимеризация характеризуется образованием эк-симера [4]. [c.161]

В полимерах весьма заметна роль стерических препятствий циклодимеризации при облучении поли-л-винилфенилэтилцинна-мата скорость исчезновения в нем двойных связей значительно больше, чем в поливинилциннамате, выше и интегральная светочувствительность этого полимера [13]. Судя по спектрам фосфоресценции модельных соединений — этилциннамата и фенил-этилциннамата, — время жизни последнего в триплетном состоянии вдвое больше. Различия во временах жизни объясняются тем, что включение фенилэтильной группы между главной цепью полимера и циннамоильным фрагментом снимает нежелательные стерические препятствия в полимере, снижающие реакционную способность циннамоильных групп в поливинилциннамате [3]. [c.162]

Благодаря циннамоильной группе поливинилциннамат поглощает в области 270—320 нм (Хмакс = 275 нм) с длинноволновой границей 330 нм. Желательное в условиях практического применения смещение поглощения в область 360—440 и даже 500 нм, например в составах для проекционной печати, достигается введением сенсибилизаторов. [c.162]

В литературе существуют представления о том, что сшивание поливинилциннаматов может быть обусловлено взаимодействием свободных радикалов, возникающих в результате раскрытия этиленовой связи циннамоильной группы при УФ-облу-чении [20, 21] [c.162]

В СССР и других странах выпускаются серии фоторезистов ФН-5ТК, KPR, KPR-II, П1, IV, KPL, Way oat I , FPR, TPR, OPR, S R и проч., являющихся 10—20 %-ными растворами в органических растворителях поливинилциннаматов с ММ 100000— 200000, включающими сенсибилизатор. Другие добавки, как правило, не вводятся. В самом полимере допускается присутствие ацетатных групп, степень этерификации спирта 60—100 %. Негативные поливинилциннаматные фоторезисты очень стойки в агрессивных средах, обладают адгезией практически к любым подложкам, отличаются малой чувствительностью к уровню освещенности при экспонировании. Их разрешающая способность после травления в пределах 200—600 линий мм [23]. [c.163]

Значительно больший тираж (до 100 тыс. оттисков вместо 35 тыс.) по сравнению с формами без дополнительного слоя был получен [пат. США 4133685] на формах офсетной печати, содержащих диазосмолу и верхний слой поливинилциннамата. Отмечается влияние степени циннамоилирования ПВС на прочность получаемого фоторельефа, для достижения наибольшей прочности желательно 100%-ное замещение. Другой вариант применения циннаматов в качестве верхних покровных слоев — нанесение их по несветочувствительному слою [пат. Великобритании 1600213 Франц, пат. 2442862, 2390760]. [c.167]

Формы плоской печати с тиражестойкостью до 15 тыс. оттисков готовят на подложках из алюминия или биметалла. Первый наносимый слой — гидрофобный полиэфир (ацетат, ацетобутират целлюлозы или ПВС), верхний — поливинилциннамат, поливинилцин-намалиденмалонат или их производные. После проявления фоторельефа на подложке сохраняется подслой, который гидролизуется обработкой водно-спиртовым раствором щелочи для придания ему гидрофильности. Специальная печатная краска в дальнейшем Ложится на гидрофильные участки формы [пат. Великобритании 1600213]. Полученную печатную форму можно использовать даже [c.167]

Выбор светочувствительных компонентов для этого материала чрезвычайно широк. Практически к использованию предлагаются любые светочувствительные системы хинондиазиды солн диазония азиды композиции, генерирующие при фотолизе радикалы, напрнмер, содержащие полигалогениды СНСЦ СВг4, СВгзЗОгСбНв с дифениламином или нафтолом композиции хинонов с комплексами теллура или кобальта коллоиды, очувствленные бихро-матами поливинилциннаматы. В них дополнительно могут быть включены стабилизаторы, увеличивающие срок хранения, красители или промоторы сухого проявления. В качестве полимерных связующих для этих композиций рекомендуются феноло-формальдегидные смолы, ПВБ, поливинилформаль, ПС, полиакриловая кислота, ПММА, ПВА, сополимеры винилиденхлорида, акрилонитрила, винилацетата с малеиновым ангидридом, водорастворимые полимеры — желатина, ПВП, ПВС. Термореактивные полимеры, например эпоксидные смолы, могут быть введены в некотором количестве в термопластичное связующее, но при этом необходимо соблюдать осторожность при нагревании светочувствительного материала. Толщина светочувствительного слоя может быть от 0,5 до 500 мкм, предпочтительно 20—100 мкм. В качестве материала листа, принимающего переносимое изображение, могут быть использованы полиамиды, сополимеры винилиденхлорида, бумага, ламинированная полиэтиленом или полипропиленом. Этот лист [c.201]

Большее значение производные антрахинона имеют в состав негативных фоторезистов. Антрахиноны здесь выступают в роли сен сибилизатора отверждения полимерной основы фоторезиста. Напри мер, 1,5- или 2,6-диазидоантрахиноны под действием света сенсибили зируют отверждение циклокаучука, что широко используется в нега тивных фоторезистных композициях [156]. качестве сенсибилизаторо поливинилциннамата применяют антрон и пирантрон [154]. [c.50]

Особенно интенсивно фотосшивание идет при облучении полимеров, макромолекулы к-рых содержат в основной цепи или в боковых заместителях реакционноспособные группы, напр, двойные связи, диазоние-вые, бензофеноновые, азидные группы. Так, фотосшивание поливинилциннамата обусловлено димеризацией по боковым двойным связям, приводящей к образованию циклобутановых колец [c.387]

Далее определяется интенсивность образования фоторельефа в полимере, что находит отражение на графике в координатах d — Ig Я, где d — толщина слоя полимера, а Я =1/5 — экспозиция, т. е. величина, обратная светочувствительности. Мерой интенсивности процесса является коэффициент контрастности, который оценивается по тангенсу угла наклона прямолинейного участка характеристической кривой. Эта методика впервые была предложена Ляликовым с сотр. [5] и нашла признание во всем мире. В настоящее время на основании ее получают ряд дополнительных параметров, характеризующих фототропизм в слоях. Показана зависимость светочувствительности слоя от квантового выхода формирования рельефа, спектральных свойств и концентрации фо-тоактивного хромофора и молекулярно-массового распределения полимера [6]. Установлено по параметрам светочувствительности отсутствие радикальных процессов в исследованных фоторезистах на основе поливинилциннаматов, диазидов, нафтохинондиазидов. [c.96]

Фирмами Kodak и Fuji выпускаются серии фоторезистов (KPR, KPR-2, KPR-3, KPL, FPR, TPR, OPR), являющихся 10-20% растворами поливинилциннаматов с мол. массой 200 ООО в органических растворителях, содержащих сенсибилизаторы. В самом [c.99]

В качестве полимерной основы для целого ряда негативных фоторезистов используются разнообразные каучуки [41]. Однако циклодимеризация в них за счет этиленовых связей, которая могла бы осуществляться с помощью вводимых сенсибилизаторов, как и у поливинилциннаматов, не приводит к практически ценным резистивным рельефам. Поэтому их фотоструктурирование происходит в результате реакций с фоточувствительными бифункциональными мономерами, дающими многочисленные поперечные связи в полимере после экспонирования. [c.104]

Прототипом второго типа реакций является сшивка поливинилового эфира коричной кислоты [И]. Остатки коричной кислоты в поливинилциннаматах при облучении сшиваются в циклобутано-вые кольца (см. гл. 9) [c.360]

Квантовые выходы циклодимеризации ф для различных производных полимерных эфиров коричной кислоты составляют 0,07— 0,14 [3,4] ниже приведены их значения для поливинилциннамата (I), полиэфиров 4-карбоксикоричной (II) и л-фениленакрило-вой (III) кислот, поливинилциннамалиденацетата (IV), полиэфира [c.161]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология