Диаграмма выбора процесса очистки

Диаграмма для выбора процесса очистки гаэа от СО, в отсутствие H S [c.158]

Диаграмма для выбора процесса очистки газа от H,S в отсутствие СОг [c.158]

Очистка газа от HjS и СО (см. рис. 111.22). Наличие HjS и СОа вносит в решение задачи определенные трудности, так как при выборе растворителя необходимо обеспечить требуемую степень очистки газа и благоприятное соотношение H S Og в кислых газах, предназначенных для производства серы, на установках Клауса. Поэтому в данном случае при выборе растворителя могут быть определенные отклонения от варианта, принятого по представленной на рис. И 1.22 диаграмме. Следовательно, при наличии в газе HjS и СО даже на предварительной стадии выбора процесса требуется определенная аналитическая работа, связанная с поиском приемлемого варианта. [c.158]

Опубликованы [21] некоторые результаты исследования четырехкомпонентных систем, проводившегося в предположении, что исследование таких -систем может способствовать лучшему пониманию процессов очистки нефтепродуктов экстракцией парными растворителями . Эти попытки оказались не вполне успешными, частично вследствие трудности наглядного изображения четырехкомпонентных систем па плоской диаграмме, а частично вследствие того, что выбор компонентов пе обеспечивал достаточно точного воспроизведения зависимостей, которые возможны прп очистке нефтепродуктов. [c.234]

При использовании диаграмм Пурбе необходимо иметь ввиду, что они указывают лишь на термодинамическую возможность или невозможность того или иного процесса. В реальных условиях не исключены отклонения, и протекающие процессы могут быть из-за кинетических ограничений иными, чем те, которые следуют из общих термодинамических соотношений. Однако даже упрощенная диаграмма Пурбе позволяет составить представление о том, какие сведения о поведении металлов способен дать термодинамический подход к рассмотрению проблем электрокоагуляционной очистки жидкостей при выборе оптимальных режимов процесса. [c.46]

В результате обобщения опыта работы промышленных установок специалисты фирмы Флюор Корпорейшен [26] разработали диаграммы для выбора процессов очистки газа от НаЗ и (или) СО2 (рис. 111.20—111.23), Рабочие площади на этих рисунках очерчивают области применения процессов очистки газа при различных парциальных давлениях Н25 и (или) СО2 в сыром и очищенном газах. Все диаграммы составлены применительно к условиям очистки газа, в составе которого имеется только Н25 и (или) СО2, т. е. они отражают наиболее простые варианты, встречающиеся в практике. Однако, зная характер других примесей и возможные последствия от взаимодействия их с растворителями, эти диаграммы можно использовать и для ориентировочного выбора процесса очистки газа более сложного химического состава (выбранный таким образом вариант может быть положен в основу детального технико-экономического анализа). Ниже изложены рекомендации по выбору процесса [26]. [c.157]

Анализ структуры участка диаграммы состояния системы основное вещество—примесь вблизи ординаты первого компонента может оказаться полезным не только для прогнозирования эффективности процесса кристаллизации, но и при выборе рациональной технологической схемы сочетания различных методов глубокой очистки. Например, для двух последних вариантов, несмотря на их схожесть, следует рекомендовать различную последовательность методов очистки. Для случая, изображенного на рис. 3, е, целесообразно сначала понизить уровень содержания примеси до значения с < Сцр с привлечением некристаллизационных способов очистки и только потом обращаться к кристаллизации. В случае системы основное вещество—примесь, чья диаграмма состояния соответствует рис. 3, д, разумнее использовать обратную последовательность методов глубокой очистки. [c.24]

Анализируются различные варианты структуры участка диаграммы состояния системы основное вещество—примесь в области малых концентраций второго компонента. Устанавливается взаимосвязь вида диаграммы состояния о коэффициентом распределения и его концентрационной зависимостью при кристаллизации из расплава. Оценивается влияние рассмотренных факторов на эффективность процессов кристаллизационной очистки. Показывается целесообразность учета особенностей взаимного расположения линий фазового равновесия при выборе оптимального сочетания кристаллизации с другими мэтодами глубокой очистки. Иллюстраций 3. Библ. 9 назв. [c.265]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология