Искусственное охлаждение умеренное

Способы получения искусственного холода классифицируются но требуемой температуре охлаждения. Условно различают умеренное охлаждение (диапазон температур от 4-20 до —100"С) и глубокое охлаждение (температуры ниже —100°С). Температуры, близкие к абсолютному нулю (—2К и ниже), получают только в лабораторных условиях. [c.215]

Диапазон температур, достигаемый искусственным охлаждением, велик, поэтому различают область умеренного холода, в которой получают температуру до —100°С, и область глубокого холода, когда температура достигает ниже —100°С пределом является абсолютный нуль —273,2°С. [c.8]

Умеренное искусственное охлаждение широко применяют в различных отраслях народного хозяйства. [c.8]

В настоящем учебнике рассматриваются только машины и устройства для умеренного искусственного охлаждения. [c.8]

Искусственное охлаждение условно делят на умеренное (до 173 К) и глубокое (до температур ниже 173 К). [c.276]

Установки умеренного охлаждения широка применяются в различных отраслях промышленности. Все увеличивается применение холода в химической промышленности для целей сжижения чистых газов (С1, СОг, 50г, МНз), для низкотемпературной ректификации, в производстве воска, парафина, специальных смазочных масел, в производстве синтетического каучука и искусственного шелка, в коксо-химической промышленности. Низкие температуры применяются для повышения износоустойчивости металлических деталей — такая термическая обработка производится при температуре —80--100° С. [c.346]

В курсе Холодильные установки изучаются разделы холодильной техники, относящиеся к промышленному производству искусственного холода и его применению в различных областях промышленности для выполнения технологических процессов при умеренно низких температурах (до —120° С). В задачу курса входит ознакомление с основными положениями рационального проектирования холодильных установок, а также монтажа и эксплуатации холодильного оборудования предприятий, в коЛрых искусственное охлаждение входит как необходимое (а иногда и важнейшее) звено технологического процесса. [c.3]

Значимость этой роли отчетливо показали опыты по искусственному исключению термотропной структурной перестройки липидов из цепи подпороговых изменений, развивающихся в плазматических мембранах возбудимых клеток проростков тыквы при действии постепенного охлаждения. Для этого с помощью процедуры умеренного холодового закаливания проростков, описанной нами ранее в работе [216], смещали протекание структурной перестройки в липидном матриксе плазматических мембран в более низкотемпературную область. О наличии смещения интервала перестройки судили по эксимеризации пирена, связанного с изолированными мембранными везикулами. Было установлено, что у закаленных проростков данная структурная перестройка протекала при 13—14°, в то время как у контрольных незакаленных — при 17—18° (рис. 44). Столь небольшое различие в термотропных свойствах липидного матрикса плазматических мембран существенным образом сказывалось на кинетике подпорогового изменения возбудимых клеток при постепенном охлаждении от 23°. Если подпороговая деполяризация клеток контрольных проростков имела характерный нелинейный вид с перегибом в области 18°, то у большинства закаленных проростков деполяризация развивалась почти линейно, со сравнительно невысоким коэффициентом крутизны (см. рис. 28). Медленное развитие подпороговой деполяризации, обусловленное исключением резкой термотропной структурной перестройки липидов из механизма подпороговых изменений, способствовало тому, что генерация ПД у вoзiбyдимыx клеток закаленных проростков имела место лишь при весьма значительном температурном перепаде. [c.167]

Под охлаждением подразумевается искусственный отвод теплоты от тела, температура которого ниже температуры окружающей среды. Обычно выделяют три области низких-температур умеренных низких теМ ператур 300—120 К (кондиционирова ние воздуха, охлаждение радиоэлектронной аппаратуры и т. п.) низких температур— ниже 120 К (сжижение газов, охлаждение элементов некото- рых приборов и т. д.) сверхнизких температур— ниже 93 К. [c.134]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология