Плазменное окисление металлов и полупроводников

ПЛАЗМЕННОЕ ОКИСЛЕНИЕ МЕТАЛЛОВ И ПОЛУПРОВОДНИКОВ [c.343]

ОСНОВНЫЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ ПЛАЗМЕННОГО ОКИСЛЕНИЯ МЕТАЛЛОВ И ПОЛУПРОВОДНИКОВ [c.345]

Влияние температуры образцов. Энергия активации. Скорость плазменного окисления металлов и полупроводников растет с повышением температуры. Соответствуюш,ие экспериментальным зависимостям эффективные энергии активации приведены в табл. 5.3 [26, 27]. Учитывая относительность этих данных, зависяш,их от многих деталей условий эксперимента, следует тем не менее отметить, что энергия активации плазменного окисления суш,ественно ниже, чем для термического окисления как в диффузионной стадии ( д), так и в стадии химического взаимодействия (Ес). [c.346]

МЕХАНИЗМ ПЛАЗМЕННОГО ОКИСЛЕНИЯ МЕТАЛЛОВ И ПОЛУПРОВОДНИКОВ [c.348]

Материалами электродов ТЭ с твердыми электролитами могут служить металлы и полупроводники, в качестве анода часто используется платина, а катода — серебро. В [Л. 119] было показано, что высокую активность в реакции анодного окисления водорода имеют железо, кобальт, медь и никель, нанесенные на твердый электролит методом плазменного напыления. Характеристики могут быть улучшены при использовании комбинации двух металлов, например 90% Со и 10% Ni, 85%Со и 15% Fe. Путем увеличения шероховатости электролита удается повысить активность и стабильность анодов. Авторам удалось также окислить с достаточно высокими скоростями пропан. Так, на медном аноде, нанесенном методом плазменного напыления, получена плотность тока 100 мА/см при умеренной поляризации при окислении пропана из смеси I sHs-f -f З.ГНгОЧ-ТАг. В качестве катодов авторы во всех опытах использовали серебро. [c.162]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология