Плазменный нагрев высокочастотные плазменные

В первом способе плазма образуется при пропускании рабочего плазмообразующего вещества через электрическую дугу. Используемое в дуге напряжение невелико (40—100 В), плотность тока достаточно велика (>1 А). В качестве плазмообразующих газов используются обычно азот, водород, гелий, аргон. Изменяя газ, можно изменять химические свойства среды плазмы (окислительные, нейтральные, восстановительные). Плазма может иметь разную температуру (от 5000 до 50000° С). Соответственно степень ионизации может изменяться от 1 до 100%. Дуговые плазменные струи всегда в некоторой степени загрязнены материалом электродов. Поэтому наряду с дуговыми плазмотронами развивается разработка высокачастотных и сверхвысокочастотных плазмотронов, в которых источником плазмы является высокочастотный индукционный нагрев. [c.538]

Электрические виды обогрева аппаратов (кроме индукционного). По способу преобразования электроэнергии в теплоту и с учетом характера передачи теплоты нагреваемому аппарату различают следующие виды электрообогрева косвенный нагрев сопротивления прямой нагрев сопротивления (электро-контактный нагрев) инфракрасный плазменный (дуговой и высокочастотный). [c.15]

Для отверждения применяют резисторный и индукционный нагрев, а также инфракрасные, ультрафиолетовые, электронные, лазерные, плазменные и рентгеновские лучи, лучистую энергию, ультразвук, высокочастотные колебания, нагрев с помощью микроволн [309]. Применение некоторых из перечисленных выше способов нагрева эффективно с точки зрения экономии энергии. Например, в случае электронных и УФ-лу-чей эффективно используется соответственно 5 и 10% энергии, в то время как при отверждении клеев в термостатах только 1% [310]. При выборе способа отверждения клеев необходимо учитывать экономическую целесообразность применения каждого конкретного способа. [c.179]

Перечислить все химические процессы, в которых применяется или может быть применен низкотемпературный индукционный нагрев, не представляется возможным. Применение индукционного нагрева в высоко- и среднетемпературных химических процессах разработано в настоящее время недостаточно. В таких процессах широко применяют различные виды плазменного нагрева плазменно-дуговой, высокочастотный плазменньш и др. [72]. [c.21]

Ж. с. подразделяют на деформируемые и литейные. Макс. уровень технол. характеристик деформируемых Ж.с. достигается применением спец. методов. Необходимой жаропрочности сплавов добиваются регулированием т-ры и продолжительности постадийной термич. обработки, а также скорости охлаждения сплава. Напр., для никелевых сплавов термич. обработка включает гомогенизирующий нагрев до 1050- 1220°С в течение 2 6 ч, охлаждение на воздухе или в вакууме с послед, одно- или многоступенчатым старением при 750 950 °С в течение 5 24 ч. Нагрев при т-ре гомогенизации переводит составляющие сплава в твердый р-р, а старение при умеренной т-ре способствует образованию в этом р-ре мелких частиц интерметаллидов, карбидов, боридов, повышающих жаропрочность сплава. Выплавляют деформируемые сплавы в вакууме метода.ми высокочастотной индукции. Напр., для никелевых Ж. с. применяют вакуумную плавку с послед, вакуумно-дуговым, электроннодуговым или плазменно-дуговым переплавом, а также элек-тродуговую плавку и электрошлаковый переплав. При использовании чистых шихтовых материалов такими методами получают металл с миним. содержанием газов, вредных примесей цветных металлов и неметаллич. включений. Выплавленные слитки подвергают деформации. Изготовляют деформируемые Ж. с. в виде прутков, лент, поковок, проволоки или листа. [c.129]

Существует несколько способов нагрева, использование которых определяется, с одной стороны, физико-химическими свойствами кристаллизуемого вещества, а с другой — методом выращивания монокристаллов. Например, метод Вернейля и газопламенный источник нафева неотделимы друг от друга. Аналогично и метод гарниссажа [103] применяется только с высокочастотным нафевом и т. д. Кроме того, тип источника нафева зачастую неотделим от условий выращивания монокристаллов. В частности, электронно-лучевой нагрев, возбуждаемый только в вакууме, применим лишь при выращивании монокристаллов в вакууме. Использование плазменного нагрева, с характерным для этого способа потоком газов, возможно только при кристаллизации в газовой среде. [c.129]

Известно, что удельное сопротивление хорошо ионизованного газа составляет около 0,01 ом-см, что только незначительно выше удельного сопротивления графита, т. е. такой газ мол<но нагреть и поддерживать в нагретом состоянии, если через него пропускать ток величиной в десятки или сотни ампер. На рис. 111.3 приведена схема индукционной плазменной горелки, состоящей из высокочастотной катушки (индуктора), внутри которой находится кварцевая трубка обычно диаметром 25—40 мм. Газ может быть введен в трубку тангенциально к ее стенкам для осевой стабилизации разряда. От лампсвого генератора к индуктору псдеодится Еысокочастотная мощность (в несколько киловатт или большая в зависимости от кон- [c.40]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология