Градиент напряжения в столбе дуги

В (4.2) а представляет собой сумму катодного и анодного падений напряжения, не зависящую от тока и длины дуги, р —градиент потенциала в столбе дуги, р/ — падение напряжения в столбе дуги, пропорциональное его длине. [c.183]

Дуга в ВДП имеет слегка восходящую вольт-амперную характеристику и ей присущи относительно большое катодное падение напряжения (15 — 20 В), малое анодное падение напряжения (1,0 — 2,0 В) и малый градиент потенциала в столбе дуги (1,5 — 1,0 В/см). [c.235]

Следующим параметром, хотя и в значительно меньшей степени действующим на температуру дуги, является сила тока. Температура столба дуги, при прочих равных условиях, определяется мощностью тока, реализуемой в единице объёма столба Последняя равна произведению плотности тока у на величину падения напряжения на единице длины столба (градиент столба) Е. С увеличением силы тока плотность тока несколько увеличивается, хотя и значительно медленнее, чем сила тока, так как при увеличении силы тока одновременно увеличивается и диаметр столба. Величина градиента с увеличением силы тока несколько уменьшается. В целом произведение W== а [c.56]

Падение потенциала между электродами дуги складывается из катодного падения анодного падения 7а и падения в положительном столбе. Сумму катодного и анодного падений потенциала можно определить, сближая анод и катод до исчезновения положительного столба и измеряя напряжение между электродами. В случае дуги при низком давлении можно определить значения потенциала в двух точках столба дуги, пользуясь методом зондовых характеристик, вычислить отсюда продольный градиент потенциала и далее подсчитать как анодное, так и катодное падение потенциала. [c.327]

Непосредственно к поверхности катода прилегает область катодного падения напряжения, градиент в которой достигает 10 В/см. Все пространство между электродами занято ярко светящимися газами, в которых протекают химические реакции (как в объеме, так и у электродов). Температура газа в дуговом разряде 5000—50 ООО К, а степень ионизации лежит в пределах от 1°/о до 100%. Столб дуги —он представляет собой ярко светящуюся смесь электронов, положительных ионов и более или менее сильно возбужденных нейтральных атомов —называется плазмой. [c.92]

Исследованию характеристик импульсного разряда посвящены работы К. С. Вульфсона и С. Я. Богданова [263,264] Они изучали импульсный разряд в инертных газах, используя при этом схему с последовательно включенным конденсатором, тиратроном и разрядной трубкой. Эти исследования показали, что импульсный разряд, в отличие от дуги и искры, характеризуется очень большим падением напряжения и, следовательно, большим градиентом потенциала в положительном столбе, достигающим нескольких сотен и даже тысяч вольт на сантиметр. При большой мощности наблюдается полная ионизация. Сразу после пробоя, когда выделение энергии еще мало, ионизованной является небольшая часть атомов. Число ионизованных атомов по мере расходования в разрядном промежутке энергии, запасенной [c.57]

ВИЯ, руднотермические печи), является изменение длины дуги, часто комбинируемое со ступенчатым изменением питающего напряжения. В вакуумных дуговых установках, у которых градиент потенциала столба дуги мал по сравнению с катодно-анодным падением напряжения, такой способ неэффективен и основным способом регулирования тока является плавное изменение напряжения источника питания. В настоящее время некоторые установки питают от источника тока, источника, который поддерживает ток в цепи дуги неизменным при изменениях сопротивления разрядного промежутка. Источник питания такого рода может быть осуществлен либо с помощью обратной связи, воздейетвующей на сопротивления силового контура установки, либо на принципе параметрического резонанса. [c.34]

При обдувке столба дуги потоком тангенциально направленного газа происходит охлаждение внеил-них границ и сильное сжатие столба дуги, что приводит к значительному повышению градиента напряжения в столбе и, следовательно, к большей концентрации в нем энергии, что и является причиной повышения температуры центральной части столба. [c.253]

В случае дуги при изком давлении можно определить зиаче-ния потенциала в двух точках столба дуги, пользуясь методом ондовых характеристик, вычислить отсюда продольный градиент потенциала и далее, зная напряжение между электродами [c.521]

Для практических применений дугового разряда, так же как и тлеющего, наибольшее значение имеет положительный столб, составляющий главную по протяженности часть разряда. При пониженном давлении (миллиметры и десятые миллиметра ртутного столба) положительный столб дуги может не отличаться от столба тлеющего разряда составляющая его плазма также может быть неизотермичной. Однако при увеличивающейся силе и плотности тока возрастает концентрация электронов и вследствие этого появляется возможность ступенчатой ионизации. Поэтому компенсация потерь заряженных частиц в плазме может в этих условиях осуществляться более медленными электронами, иначе при более низкой электронной температуре. Иными словами, для поддержания стационарного состояния плазмы теперь необходимы ускоряющие электроны поля меньшей напряженности, т. е. более низкие градиенты потенциала. Это понижение и ведет к падающей вольт-амперной характеристике дуги (см. рис. 16), т. е. к уменьшению напряжения при увеличении силы тока. С другой стороны, при увеличении силы тока и повышении давления одновременно с понижением температуры электронов происходит повышение температуры газа, что связано с увеличением числа столкновений между электронами и молекулами газа и, следовательно, с все возрастающей отдачей энергии, набираемой электронами в электрическом поле плазмы, [c.47]

Длину дуги ( д)рац согласно формуле (11.19) следует устанавливать после формирования жидкометаллической ванны, т.е. в конце энергетического периода и в период рафинирования металла. При расплавлении твердой металлоишхты целесообразно работать на более длинных плазменных дугах, чтобы увеличить электрическую мощность дуг Р в условиях снижения градиента напряжения в столбе дуги grad IL и соответствующего уменьшения напряжения на дуге (см. рис. 11.5). [c.249]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология