Фоторезисты состав и свойства

Только немногие полимерные светочувствительные материалы отвечают столь многообразным и иногда противоречивым требованиям, поэтому их отбор представляет собой весьма трудоемкую и часто самостоятельную научную задачу. Приходится учитывать условия формирования пленки и ее свойства до экспонирования, ее светочувствительность, эффективность фотопроцесса в полимере, число дефектов в проявленном и подвергшемся травлению слое, прямо связанное с условиями формирования пленки и адгезией. Поэтому среди большого числа предложенных светочувствительных композиций на основе полимеров в практику фотолитографии вошли только немногие. В простейшем варианте исходные фоторезистивные композиции представляют собой растворы светочувствительного и пленкообразующего компонент в органическом растворителе. На поверхности твердого тела они способны образовывать пленку, обладающую достаточно высокой адгезией к поверхности подложки. При необходимости изменения технологических свойств как раствора, так и пленки фоторезиста в его состав могут быть введены различные добавки сенсибилизаторы, пластификаторы, смеси различных полимеров, красители, поверхностноактивные вещества, стабилизаторы и др. [c.93]

Состав и свойства негативных фоторезистов разных изготовителей различаются между собой. Очень мало имеется сведений о свойствах фоторезистов фирм Вейкоут и Дайнэкэм , кроме того, что материалы фирмы Дайнэкэм . ка полагают, являются полиэфирами алифатического ряда фталевой кислоты. Материалы фирмы Кодак были подробно исследованы их физические свойства, изученные изготовителем, приводятся в табл 4. Вопросы основных свойств, развития и совершенствования фоторезисТ да> а также предполагаемых областей их применения рассмотрены Бэйтсом [70] и Мартинсоном [55]. [c.591]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология