Нитрены получение фотолизом азидов

Использование в качестве полимерной основы фоторезистов циклизованных полимеров представляется чрезвычайно перспективным— в них эффективен фотолиз азидов и темновые реакции нитренов, структурирующих циклокаучуки, таким образом, интегральная светочувствительность фоторезистов достаточно высока. Циклокаучуки, обладая малой ММ, дают твердые и плотные пленки, они позволяют после экспонирования создать высокоразрешен-ные рельефы. В азидсодержащих фоторезистах для коротковолнового УФ-света ( УР-резистов), полученных на основе циклокаучуков, разрещение достигает субмикронных размеров. Кроме того, именно фоторезисты на основе циклокаучуков и диазидов в настоящее время являются одними из наиболее плазмостойких (например, состав OMR-83, Япония), В циклокаучуки легко вводить раз- [c.146]

Для получения нитренов можно облучать азиды в наиболее длинноволновой полосе поглощения, которая у алкилазидов находится в области 260—290 нм, а у ароматических азидов в области 300—400 нм. Квантовые выходы фотолиза алкилазидов в газовой фазе часто превышают 1 из-за вторичных радикальных реакций. Эти квантовые выходы значительно уменьшаются при добавлении ловушек радикалов. В растворе при облучении в полосе поглощения азида они не зависят от длины волны облучения и почти не отличаются в разных растворителях. [c.189]

Значительно больше информации можно получить при работе с монокристаллическими образцами, в которых все молекулы строго ориентированы, так как при этом получаюгоя спектры с хорошо разрешенной ТС,а иногда - и СТС С8,12,1 ,17,20-24]. Однако эта методика сопряжена с многими трудностями, и одна из основных - получение монокристалличес-ких матриц. Монокр.исталлы выращиваются много дней (иногда недель) из разбавленных растворов вещества-предшественника (например, диазосоединение) и ве-щества-хозяина в летучем растворителе. При этом необходимо подбирать вещество матрицы так, чтобы молекулы предшественника вписались в его кристаллическую структуру. Если не удается подобрать вещества-хозяина, то фотолизу подвергается 1% массы монокристалла исходного вещества - диазосоединения (дня карбенов) или азида (для нитренов). Монокристаллы азидов получают сублимацией в глубоком вакууме, что сопряжено с большими трудностями, и это одна из причин, почему исследований по нитренам в монокристаллах очень мало С 2/, 251 Г53 [c.153]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология