Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

При обычном факторном методе добавление еще одного параметра приводит к необходимости увеличить число опытов в 2 раза. Отметим также другие преимущества симплексного метода. Этот метод не накладывает таких жестких требований на аппроксимацию поверхности отклика гиперплоскостью, как метод Бокса Уилсона в крутом восхождении точность опытов может быть меньше, поскольку неправильное ранжирование результатов лишь удлиняет путь к экстремуму. Кроме того, симплексный метод позволяет учитывать одновременно несколько параметров оптимизации. [c.214]

Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика [c.92]

Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика. Задача оптимизации ставится таким образом необходимо определить экспериментально координаты экстремальной точки Х2° ".....функции y = f(xi, Х2,. .., Xk). Построим контурные сечения г/= onst поверхности отклика для /г = 2 (рис. 29, а). При традиционном эксперименте обычно фиксируют один из фак- [c.174]

Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика. Задача оптимизации ставится таким образом необходимо определить эксперйментально координаты экстремальной точки (Х] , Х2°" ,. .., функции y=f (xi, Х2,, Xk). Построим кон- [c.174]

Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика. Задача оптимизации ставится таким образом необходимо определить координаты экстремальной точки .. ., ж ) [c.200]

Сравнение величины 80,05 bj) со значениями коэффициентов регрессии показывает, что наряду с линейными значимыми являются эффекты взаимодействия и разности между свободными членами и значениями параметра оптимизации в центре плана (Дг/1 = 82,1 —69,4 = 12,7,Ai/2 = 85,4 — 76,9 = 8,5). Это означает, что эксперименты были поставлены в области факторного пространства с высокой кривизной поверхности отклика. Несмотря на это, авторы решили попытаться улучшить значения параметра оптимизации, воспользовавшись методом крутого восхождения. Поскольку коэффициенты Ьщ) и bi ) имеют разные знаки, крутое восхождение было проведено только по двум факторам Z2 и Zs. [c.141]

Смотреть страницы где упоминается термин Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика: [c.176] [c.230] [c.349] [c.349] [c.114]

Смотреть главы в:

Оптимизация эксперимента в химической технологии -> Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

Методы оптимизации эксперимента в химической технологии -> Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

Оптимизация эксперимента в химии и химической технологии -> Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

Методы кибернетики в химии и химической технологии -> Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

Оптимизация эксперимента в химии и химической технологии -> Оптимизация методом крутого восхождения по поверхности отклика

ПОИСК

Смотрите так же термины и статьи:

Метод оптимизации

Методы крутого восхождения по поверхности отклика

Отклик

Поверхности отклика оптимизация крутым восхождением

© 2024 chem21.info Реклама на сайте