Искра, влияние параметров контур

Мы рассмотрели влияние параметров контура на структуру отдельных цугов искры весьма существенную роль, однако, играют и законы образования всей последовательности цугов . [c.71]

Рассмотрим теперь, как связана сила тока с параметрами контура. Аналитическое выражение этой связи даётся выражением (13.1). Практически наиболее сильное влияние на силу тока, а следовательно, и на свечение искры оказывает величина включённой в цепь самоиндукции. Уменьшая I, мы, согласно (13.1), увеличиваем силу, а следовательно, и плотность тока. Это проявляется в увеличении температуры факела и канала, т. е. в усилении искровых линий, по отношению к дуговым, усилении линий атмосферы и интенсивности фона ). Аналогичным образом, согласно (13.1), действует увеличение С. При этом, однако, воздействовать на вид спектра практически удобнее изменением I, так как, например, изменяя число витков катушки от нескольких вит- [c.70]

FOB В секунду и т. д. (см. 37). С другой стороны, однако, это сильно осложняет получение достаточно воспроизводимых условий работы, т. е. понижает точность анализов. В практической -работе фиксирование значений самоиндукции и ёмкости не представляет никаких затруднений. Сравнительно легко (хотя это требует применения специальных штативов и приспособлений) удаётся и воспроизведение длины междуэлектродного промежутка. Наиболее трудно контролируемым фактором является характер поверхности электродов — повидимому, здесь и лежит основная ошибка анализа, связанная с искрой. Значительное уменьшение влияния перечисленных выше факторов удаётся получить, с одной стороны, использованием более совершенных схем искры (см. 15), а с другой стороны,—тщательной стандартизацией приёмов обработки и установки электродов и выбором таких параметров контура, при которых перечисленные факторы сказываются наименьшим образом. Мы вернёмся ещё к этому вопросу в 37, [c.75]

Направленное изменение какого-либо параметра разрядного контура одновременно с этим и независимо от нашего желания может так или иначе влиять и на остальные параметры разряда. При этом, если в одном случае это направленное изменение создавало положительный эффект, например при повышении к. п. д. разряда, то в остальных, влияя на другие параметры, оно может создать совершенно противоположный эффект и не только повысить, но даже более или менее снизить его. Так, например, при увеличении емкости контура линейно растет энергия импульса, возрастает амплитуда тока, а также удлиняется искра, но быстро возрастает длительность импульса. Возрастание амплитуды тока и рост длины искры способствуют увеличению к. п. д., но их положительное влияние подавляется быстровозрастающим увеличением длительности импульса. [c.253]

Во втором варианте методики применялся источник типа двойной дуги с дуговым подогревом и искровым возбуждением спектра по схеме Хуан-Бун-Ли [7]. Отличие состоит в том, что нами для цепи зажигания вместо искрового генератора ИГ-3 использован высокочастотный контур генератора ДГ-1. Независимость цепи возбуждения в схеме от цепи подогрева (параллельное соединение) позволяет в широких пределах варьировать параметры каждой в отдельности. Отмечено особенно резкое влияние на интенсивность линий галогенов числа поджигающих искр за полупериод сетевого напряжения (контроль по осциллографу) и величины индуктивности. Кам ера, в которую помещается навеска концентрата, в данном случае изготовляется из угольных стержней диаметром 8 мм. Температура внешней поверхности камеры 1300—1400 °С. Постоянство нагрева контролируется по току подогрева (в наших условиях ток дуги 12 а), дуговой промежуток 0,8 мм при этом поддерживается постоянным по теневому изображению. Полное испарение галогенов происходит за 60 сек. Этот вариант методики по сравнению с первым характеризуется лучшей воспроизводимостью и увеличением чувствительности в три раза. [c.84]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология