Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Испарение химических веществ с открытых поверхностей

    Испарение химических веществ с открытых поверхностей [c.108]

    Практикой эксплуатации вентиляции в химических цехах установлено, что воздухообмены с кратностью более 16—20 ч , как правило, не приводят к заметному снижению концентрации вредных веществ в рабочей зоне. Это объясняется, во-первых, тем, что при больших кратностях воздухообмена снижаются концентрации вредных веществ в верхней зоне, приближаясь к концентрациям в рабочей зоне (см. гл. V) во-вторых, при больших воздухообменах увеличивается подвижность воздуха, что приводит к возрастанию газовыделения в результате увеличения испарения с открытых поверхностей и ухудшения действия местных отсосов (см. гл. IV). [c.141]


    Механизм выхода атома А из кристалла простого вещества А или одновременно по атому А и В из каждой подрешетки кристалла бинарного соединения АВ сравнительно прост. Атомы, лежащие на поверхности, в том числе и на поверхности открытых каверн, трещин и т. п., испаряются и на их место, изнутри, диффундируют атомы лежащего ниже слоя, оставляя после себя вакансии. Эти последние замещаются еще нижележащими атомами, так что имеет место диффузия атомов к поверхности с одновременной диффузией вакансий вглубь кристалла. В случае испарения только одного сорта атомов, например В из кристалла АВ, процесс, столь же простой в термодинамическом отношении, как и предыдущий, усложняется теперь в электрофизическом отношении атомы В в решетке несли заряд р (соответственно доле ионной составляющей химической связи). Испаряясь в виде нейтральных атомов или молекул В , они должны оставить свой заряд возникающим вакансиям, что приведет к изменению электрофизического состояния соединения. [c.390]

    Организованные выбросы осуществляются через трубы и выбросные шахты, неорганизованные - через аэрационные фонари, выхлопы вредных веществ через неплотности оборудования и испарение с открытой поверхности жидкостей. Централизованные выбросы выводятся через одну или две трубы, а децентрализованные через аэрационные фонари, воздушки от химических аппаратов, емкостей, утечки газов и паров через неплотности оборудования и коммуникаций, расположенных на открытых площадках. По режиму работы источники вредных выбросов подразделяются на постоянно действующие с равномерным валовым выбросом или меняющимся по определенному закону, а также источники периферических и залповых выбросов [Вавельский, Чебан, 1990]. При залповых выбросах в воздух за короткий промежуток времени выбрасывается значительное количество вредных веществ. [c.47]

    Авторы работы [57] рассматривают зависимость давления от температуры, определяемую методами эбуллиометрии и изотенископии, только для легколетучих жидкостей. При рассмотрении методов измерения давления пара химических элементов, металлов, неорганических и слаболетучих органических веществ такая классификация, очевидно, требует дополнения. Несмеянов в монографии [66], посвященной исследованию химических элементов, методы измерения давления насыщенного пара классифицирует так 1) статические методы (прямые и косвенные) 2) метод точек кипения 3) метод переноса пара потоком инертного газа (метод струи) 4) метод испарения с открытой поверхности в вакууме — метод Лэнгмюра 5) метод эффузии Кнудсена и 6) метод изотопного обмена. [c.62]


    Для физико-химических исследований процессов испарения и роста кристаллов, кинетики и термодинамики поверхностных реакций, а также для изучения пространственного и энергетического распределения молекулярных потоков с исследуемых поверхностей СКВ Аналитического приборостроения АН СССР совместно с Институтом кристаллографии АН СССР разработало масс-спектрометр МС-1303 (рис. III.18). Масс-спектрометр МС-1303 имеет такие же анализатор и системы регистрации ионных токов, что и прибор МС-1301, однако существенно отличается от него конструкцией ионообразующего узла и испарителей. Источником молекулярного пучка служит открытая поверхность исследуемого вещества (площадью 2 мм ), помещенного в испаритель, который можно нагревать до 2750 К. Испаритель можно поворачивать относительно направления на источник ионов на 90°, что позволяет изучать диаграммы направленности молеку.чярного потока. [c.78]

    Что касается аморфного состояния металлов, то известно два еп вида твёрдое уплотненное вещество, образующееся при полировк или холодной обработке, и открытая, гораздо более рыхлая струк тура, возникающая при быстром испарении и конденсации, или Ж в результате химических реакций на поверхности. Особенно пока зательным является дейстБ,ие аммиака на медные и другие металличе ские трубки при S00°. Через короткий промежуток времени метал, становится губчатым, и его объем увеличивается во много раз npi [c.306]


Смотреть страницы где упоминается термин Испарение химических веществ с открытых поверхностей: [c.131]    [c.96]    [c.433]   
Смотреть главы в:

Вентиляция химических производств -> Испарение химических веществ с открытых поверхностей




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Испарение с открытых поверхностей

Химические поверхности

Химический ое не ная химическая вещества



© 2025 chem21.info Реклама на сайте