Вакуумная система и вспомогательное оборудование

Рис. 72в. Общий вид вакуумной системы и вспомогательного оборудования.

Одним ИЗ основных технологических процессов изготовления электровакуумных приборов, определяющих в значительной мере их качество и долговечность, является процесс вакуумной обработки. Вакуумная обработка приборов преследует цель получения такой степени вакуума внутреннего объема обрабатываемого прибора и таких условий для сохранения достигнутого вакуума, которые должны обеспечить нормальное функционирование и работоспособность обработанного электровакуумного прибора на протяжении заданного срока службы. Вакуумная обработка представляет целый комплекс различных операций, больщинство которых производится при непрерывном удалении газов из внутреннего объема обрабатываемого прибора. В связи с этим вакуумная обработка проводится на специальном оборудовании, базой которого является вакуумная система, снабженная различными вспомогательными устройствами для осуществления отдельных операций технологического процесса вакуумной обработки. В качестве этих вспомогательных устройств используются различного рода печи (вплоть до печей с программным управлением), генераторы высокой частоты, различные источники питания для обработки катода и электронной бомбардировки электродов приборы контроля, измерения и записи результатов измерения вакуума, температуры, токов и т. д. Таким образом, для проведения вакуумной обработки требуется довольно сложное специализированное откачное оборудование, выполненное с учетом характерных особенностей откачиваемых приборов. [c.160]

При монтаже отдельных частей оборудования для перегонки сам перегонный прибор и вспомогательные аппараты следует рассматривать как единую вакуумную перегонную установку, и составные части ее должны быть так сконструированы и иметь такие размеры, чтобы дать в руки химику хороший прибор. Очень часто бывает так, что умело сконструированный вакуумный перегонный прибор работает плохо, потому что плохо сконструированная вакуумная система ограничивает производительность перегонного прибора. В задачи настоящей главы не входит дать все правила для конструирования лабораторных вауумных систем. Но в ней будут приведены общие основы и упрощенные правила, которые могут оказаться полезными химику, желающему применить молекулярную или высоковакуумную перегонку для решения стоящих перед ним задач. В большинстве случаев вакуумная система бывает больше, чем сам перегонный прибор, т. е. больше, чем та часть всей установки, которая состоит из испарителя и конденсатора. Примеры этого видны из фотографий на рис. 24 и 28 (часть I) и из схемы на рис. 50 (раздел IX). Поэтому очевидно, что та часть установки, в которой непосредственно протекает перегонка, заслоняется дополнительным вакуумным оборудованием. Причины такого кажущегося несоответствия станут понятными по прочтении главы. [c.455]

Как уже отмечалось выше, современные ускорители электронов, применяемые в качестве источников излучений в исследовательской практике и промышленном производстве, обычно снабжаются вспомогательным оборудованием — системами и устройствами, обеспечиваюш,ими заданную геометрию облучения объектов, а также заданные форму и равномерность распределения плотности тока ускоренных электронов по поверхности (поверхностям) облучаемых объектов при достаточно высокой эффективности использования энергии пучка. В основу действия этих систем положен принцип управления электронными пучками с помопхью электрических и магнитных полей, а сами системы являются неотъемлемой частью любой ускорительной установки, спроектированной как источник излучения. Во многих случаях они имеют общую с ускорителем вакуумную систему, единое конструктивное оформление, а иногда работающую синхронно с блоком инжекции ускорителя электронную схему управления. [c.25]

При производстве тонкопленочньк солнечных элементов большую роль играет вакуумная технология. Вакуумное оборудование необходимо, например, при физическом осалодении из паровой фазы - вакуумном испарении. Вакуумная система содержит диффузионные и вспомогательные форвакуумные насосы и должна обеспечивать давление 10 " -10 Па. Такая система наиболее часто используется для создания тонких пленок в основном благодаря небольшой стоимости, простоте и высокой скорости откачки. При использовании в диффузионных насосах специальных масел (например, полифенилового эфира), криогенных отражателей и полностью металлической конструкции в системе достигается сверхвысокий вакуум с давлением в диапазоне 10 -10 Па. Другая стандартная сверхвысоковакуумная система основана на применении ионно-распьшительного насоса в сочетании с сорбционными и вспомогательными титановыми сублимационными насосами. [c.47]

Рабочее время, затрачиваемое на выполнение технологических операций нанесения покрытия в вакуумном оборудовании со шлюзовыми системами, складывается в большинстве случаев из времени, отведенного на основные (нанесение покрытия) и вспомогательные рабочие операции (нагрев, очистку, травление, охлаждение и т. д.). Кроме того, существуют холостые операции напуск воздуха в камеры загрузка и выгрузка изделий откачка камер перемещение изделий, между шлюзовыми и рабочими камерами, а также между источниками обра ботки изделий. [c.15]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология