Электронно-вакуумная гигиена

Строгое соблюдение требований электронно-вакуумной гигиены на различных стадиях технологического процесса изготовления изделий микроэлектроники является непреложным законом и обеспечивает надежность отдельных приборов и ИМС, а следовательно, и надежность сложнейших устройств (радиоэлектронной аппаратуры, вычислительных машин, автоматических систем управления и др.). [c.100]

ЭЛЕКТРОННО-ВАКУУМНАЯ ГИГИЕНА [c.100]

Каковы задачи электронно-вакуумной гигиены в производстве полупроводниковых приборов и ИМС [c.106]

Какие требования электронно-вакуумной гигиены предъявляют к обслуживающему персоналу [c.106]

В зависимости от характера технологических операций производственные помещения по предъявляемым к ним требованиям электронно-вакуумной гигиены подразделяют на несколько категорий. Тонкие пленки наносят только в помещениях первой категории, к которым относят так называемые герметичные помещения (полностью изолированные от внешней феды), или гермозоны. В этих помещениях особенно тщатель-100 [c.100]

Для изготовления качественных и надежных полупроводниковых приборов и ИМС необходимо строго соблюдать производственную гигиену, т. е. выполнять мероприятия,обеспечивающие защиту подложек от загрязнений. На предприятиях контроль возлагается на специальную службу производственной гигиены, работники которой ежедневно проверяют состояние электронно-вакуумной гигиены в цехах и на участках. [c.100]

Совокупность высоких требований к чистоте технологической среды и мероприятий по обеспечению этих требований является основой электронно-вакуумной гигиены. Она должна обеспечить заданные параметры производственного микроклимата—чистоту, температуру, влажность и подвижность воздуха, а также очистку технологических газов, воды, поступающих материалов, деталей, устранение загрязнений, возникающих в результате износа оборудования и при проведении технологических процессов. Чем сложнее прибор, тем более строгой вакуумной гигиены необходимо придерживаться при его изготовлении. [c.8]

Таким образом, основные требования электронно-вакуумной гигиены в производстве полупроводниковых приборов и ИМС сводятся к соблюдению строжайшей чистоты на всех операциях технологического процесса и устранению опасностей, которые могут ее нарушить. [c.103]

Топлива высокой чистоты потребуют будущие термоядерные реакторы. Это же требование распространяется и на конструкционные материалы. Уже сейчас в опытах по термоядерному синтезу первостепенное значение придается чистоте плазмы малые следы кислорода в смеси дейтерия с тритием или тяжелые атомы, десорбировавшиеся со стенок камеры, резко снижают температуру, а следовательно, и устойчивость плазменного витка. Поэтому каждый опыт начинается с вакуумной гигиены . Причина тут ясна тяжелые атомы отвлекают часть энергии на свою ионизацию, тепловое движение, электромагнитное излучение, возникающее при торможении электронов тяжелыми ядрами. В присутствии одного тяжелого атома среди тысячи легких дейтериевых температура плазмы снижается в полтора-два раза. Одна из причин вероятных жестких требований к качеству защитных материалов для термоядерных реакторов — борьба с наведенной радиоактивностью от огромных потоков нейтронов. [c.51]