Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Окись углерода тонкая очистка газов

    Процесс глубокой очистки поверхности металлического образца термообработкой и (или) ионной бомбардировкой неизбежно сопровождается удалением некоторого количества металла, который осаждается в вакуумной камере. Даже если его количество мало, это может заметно влиять на исследование адсорбции (и катализа). Например, очень тонкая металлическая пленка (10- г/м ) состоит из отдельных и редко расположенных весьма мелких кристаллитов, однако в пределах заданной удельной поверхности подложки общая поверхность металлической пленки вполне может быть равна поверхности, на которой осаждены кристаллиты. Чтобы воспрепятствовать адсорбции (или каталитической реакции), можно поддерживать достаточно низкую температуру металла. Поскольку адсорбция многих газов, таких, как кислород, водород или окись углерода, на переходных металлах идет с высокой скоростью даже при 77 К, использование указанного способа для подавления нежелательной адсорбционной активности весьма ограниченно чаще его применяют при каталитических исследованиях, так как не многие каталитические реакции быстро протекают при 77 К. Если подавить нежелательную активность за счет разной температуры невозможно, очищенный образец металла необходимо изолировать от металла, осажденного в процессе очистки. С этой целью необходимо перенести через запираемое отверстие в другую часть вакуумной установки или очищенный образец, или осажденный металл. Выбор определяется характером исследуемой реакции и типом металлического образца. Поэтому, [c.344]


    Наличие кислородсодержащих веществ в азото-водородной смеси вызывает обратимое отравление железного катализатора синтеза аммиака, что резко снижает его производительность. Имеются примеси, вызывающие необратимое отравление катализатора, прогрессирующее в процессе его работы. К ним относятся окись и двуокись углерода и кислород. Содержание этих примесей в азото-водородной смеси может колебаться от 50 до 5000 см 1м допустимое содержание их в газе, поступающем на синтез аммиака, 25 см 1м . В связи с этим в схемах синтеза аммиака всегда предусматривается тонкая каталитическая очистка газа от кислородсодержащих примесей (ядов). В большинстве случаев такая очистка осуществляется в одном аппарате. [c.293]

    Выделение гелия из минералов (торианита, клевеита, монацита и др.) производится путем нагревания минерала с разбавленными кислотами или при высокой (до 1000—1200°) температуре, а также путем сплавления его со щелочами. При обработке минералов кислотами или щелочами для равномерного и более полного выделения гелия требуется особенно тщательное измельчение минерала до тонкого порошка. Только путем полного разложения минерала удается выделить все содержащееся в нем количество гелия. Полученный из минералов сырой гелий может содержать в качестве примеси окись и двуокись углерода, водород, кислород, азот, сероводород, водяные пары, инертные газы. Очистку гелия от газообразных спутников можно производить методами абсорбции, сожжения или методом адсорбции на охлажденном до температуры жидкого воздуха древесном угле, который поглощает все газы, за исключением гелия, неона и водорода. [c.41]


Очистка технологических газов (1977) -- [ c.309 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Очистка газа от окиси углерода

тонкой



© 2025 chem21.info Реклама на сайте