Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Наращивание толстых слоев металла

    НАРАЩИВАНИЕ ТОЛСТЫХ СЛОЕВ МЕТАЛЛА [c.101]

    Толщина покрытия больше 100 мкм. В гальванопластике на начальных этапах наращивания толстых слоев металла принято применять небольшую плотность тока (г < 2 А/дм ). Зависимость концентрации кобальта ссо в покрытии от содержания его соли в электролите сначала линейная, затем содержание кобальта в сплаве достигает постоянного значения (при соотношении солей никеля и кобальта в электролите от 3,5 1 до 1 3,5) далее снова отмечена линейная зависимость. [c.163]


    Сульфаминовокислые электролиты применяют для наращивания толстых слоев металла (в гальванопластике) при 4 = 60 °С, поэтому все дальнейшие исследования проводили при указанной температуре. Поляризационные кривые восстановления и окисления спла-N1—Со располагаются между соответствующими кривыми, характеризующими катодный и анодный процессы для никеля и кобальта (рис. 77). Из сульфаминовокислых электролитов никель осаждается при меньшей, а анодно растворяется при большей поляризации, чем кобальт. [c.166]

    Таким образом, показано, что изменения свойств сплавов Со—Ре соответствуют структурным превращениям. Сплавы с содержанием железа 10—20 % можно рекомендовать для наращивания толстых слоев металла в гальванопластике. [c.193]

    Для интенсификации наращивания толстых слоев металлов применяют специальные способы  [c.256]

    Получение композиционных электрохимических покрытий (КЭП) можно отнести к технологии гальванопластики, так как используют характерное для нее наращивание толстых слоев металлов, включающих вторую фазу для получения абразивных или смазывающих материалов (2J. КЭП осаждают из суспензий, содержащих 50—200 кг/м (1—20 %) твердой фазы. Осаждение проводят из никелевых, хромовых, медных и других электролитов при постоянном перемешивании суспензии (воздухом, газом, механической мешалкой и др.). [c.261]

    При наращивании толстого слоя металла (копии) материалы для изготовления копий выбирают в соответствии с принципом 4 (см. с. 9), в котором оговорены и основные условия, и параметры режима электролитического осаждения. Самые важные факторы — тип электролита, способ преодоления диффузионных ограничений (перемешивание, вращение, вибрация, подача электролита в межэлектродное пространство), температура, плотность тока. Параметрами режима осаждения определяются эксплуатационные свойства копии в изделии (см. ниже). [c.275]

    Электроосаждение металла осуществляется в две стадии а) первичная затяжка до полного покрытия проводящего или разделительного слоя осуществляется в слабокислых медных или никелевых электролитах при режимах, обеспечивающих мягкость отлагаемого металла и отсутствия внутренних напряжений в нем, т. е. при небольших плотностях тока б) наращивание толстого слоя металла по первичной затяжке. [c.384]

    Обычно первичное покрытие ведут без перемешивания и при малых плотностях тока. В этих условиях нецелесообразно проводить наращивание толстых осадков металла, так как оно было бы слишком длительным. Поэтому после затяжки формы металлом в первом электролизере, ее переносят во второй с более концентрированным раствором, работающим с перемешиванием, а в некоторых случаях и с подогревом, допускающим более высокую плотность тока. Составы электролитов для наращивания толстых слоев металла практически мало отличаются от составов, применяемых в гальваностегии. [c.215]


    Интенсивное наращивание толстых слоев металла при производстве оригиналов и матриц [c.108]

    Интенсивное наращивание толстых слоев металлов выполняют после нанесения первичного слоя (затяжки). Производительность процесса гальванопластики определяется продолжительностью интенсивного наращивания. Наращивание при высокой плотности тока — ответственный этап, определяющий эксплуатационные свойства копии. Этому этапу должны предшествовать тщательные исследования. Для интенсивного наращивания пригодны в основном кислые электролиты никелирования и меднения, а также электролиты на основе указанных для осаждения сплавов. К ним относятся сернокислые, сульфаминовокислые, борфтористоводородные, кремиефтористоводородиые, хлористые электролиты (последние [c.255]

    Существенное значение имеют такл<е метод подготовки непроводящих поверхностей к покрытию, способ нахгрсения проводящих и разделительных слоев, методы кoнтaктнpoзatjйJ, затяжки и наращивания толстых слоев металла. [c.3]

    Для гальванопластического наращивания толстых слоев металла до сего времени чаще всего применяют холодные электролиты. Эти электролиты допускают лишь невысокие плотности тока — 0,1—0,3 а/дм- и поэтому требуют значительного времени для наращивания. Кроме того, толстые слои железа очень хрупки, что затрудняет их отделение от модели, дальнейщую обработку и эксплуатацию. [c.113]

    Наводороживание электроосажденных никелевых покрытий. При наращивании толстых слоев металла необходимо знать, как распре деляется водород по толщине осадка, тем более, что предполагается тесная взаимосвязь величины внутренч них напряжений с количеством водорода в осадках, И это становится очень важным для гальванопласти ческого получения копий. Изучение распределения водорода по толщине наращиваемого слоя металла [27] проводили при следующих составах (г/л) и режимах  [c.73]


Смотреть страницы где упоминается термин Наращивание толстых слоев металла: [c.217]    [c.273]    [c.94]    [c.143]    [c.217]   
Смотреть главы в:

Гальванопластика в промышленности -> Наращивание толстых слоев металла




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Толстой



© 2025 chem21.info Реклама на сайте