Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Хромирование микроструктура

    На рис. 34 показана микроструктура молибдена после хромирования циркуляционным методом в иодидной среде при Тг = = 1423 К в течение 6 ч (остальные параметры режима были указаны выше). [c.79]

Рис. 34. Микроструктура молибдена после хромирования циркуляционным методом (У. 300) Рис. 34. Микроструктура молибдена <a href="/info/1626007">после хромирования</a> циркуляционным методом (У. 300)

    Средняя часть диаграммы ограничивает область режимов получения наиболее часто применяемых на практике пористых осадков, так называемых гладких осадков пористого хрома. Диаграмма дает возможность по требуемому характеру пористости установить режим хромирования. В частности, для покрытия поршневых колец (точечный вид пористости) рекомендуются мелкие сетки каналов. Для покрытия гильз двигателей и других деталей наиболее широко применяется пористый хром со средними сетками каналов (канальчатая пористость). Микроструктура пористых хромовых покрытий, полученных при различных режимах, представлена на рис. 10. [c.159]

    В частности, для покрытия поршневых колец (точечный вид пористости) рекомендуются режимы, обеспечивающие получение мелких сеток каналов. Для покрытия гильз двигателей и других деталей наиболее широко применяются режимы пористого хромирования, обеспечивающие получение канальчатой пористости. Микроструктура пористых хромовых покрытий, полученных при различных режимах, показана на рис. 10. [c.19]

    Микроструктура хромированного слоя связей показана на фиг. 142. Она состоит из четко выраженной белой полоски, имеющей резкую границу с основным металлом. [c.220]

Рис. I. Микроструктура хромированного чугуна. Рис. I. Микроструктура хромированного чугуна.
    В данной работе методами съемки поляризационных по- тенциостатических кривых (потенциостат П—5848), определения рассеивающей и кроющей способности электролита (ячейка Хулла), изучения микроструктуры хромовых покрытий (электронный микроскоп УЭМВ-100) была проведена оценка различных электролитов хромирования в присутствии ПАВ. Кроме того, была определена адсорбционная способность этих веществ на границе раствор — ртуть (метод электрокапиллярных кривых) и раствор — воздух (метод продавливания пузырька через капилляр). [c.68]

    Методами съемки потенциостатических поляризационных кривых, определением рассеивающей и кроющей способности электролита на ячейке Хулла, изучением микроструктуры хромовых покрытий была проведена оценка различных электролитов хромирования стандартного саморегулирующегося калиевого, саморегулирующегося с солями редкоземельных, элементов в присутствии ПАВ зеро — мист, хром—протект, хромин. Определена адсорбционная способность этих веществ на границе раствор—ртуть и раствор—воздух. [c.164]


    Чрезвычайно важен тот факт, что микроструктура осадков хрома, полученных при переключении тока через 3—5 мин., не имеет сетки трещин в от.пичие от осадков хрома, полученных при непрерывном хромировании при том же режиме (фиг. 26 29) с увеличением толщины отдельных слоев хрома до 5—8. ик появляется сетка трещин (фиг. 30 и 31). [c.75]

    На рис. 1 приведена микроструктура диффузионного слоя стали до и после легирования ее Мп. Т1, N13, V (каждый из которых вводили в сталь в количестве 0,9 вес.%), полученная после хромирования при 1150° С в течение 6 час. На микроструктуре диффузио1П1Ы11 слой выявляется в виде светлой полосы, отклоненной от сердцевины линией раздела. Последнее указывает на наличие полиморфного превращения на изотерме процесса насыщения стали хромом. [c.107]

    Наиболее заметное влияние на глубину хромирования оказывает ванадий и ниобий. Легирование этими элементами выше 2%, а также титаном выше 1% приводит к изменению характера диффузионного слоя. Отсутствует линия раздела на микроструктуре, обычно возникающая вследствие у а превращения. В случае легирования стали ЫЬ и Т1 диффузионный слой состоит из твердого раствора хрома в железе и интерметаллических соединений РеаХ Ь — для стали с ниобием и РегИ — для стали с титаном. Таким образом, легирование позволяет увеличить толщину диффузионного слоя более чем в 3—4 раза по сравнению с нелегированной сталью. [c.108]

Рис. I. Микроструктура хромированной стали до н после легирования различными элементами а — до легировании б — легирование 0,96% Мп е то же, 0,96% И г —0,96% Nb а —0,92% V. Рис. I. Микроструктура хромированной стали до н после легирования <a href="/info/570821">различными элементами</a> а — до легировании б — легирование 0,96% Мп е то же, 0,96% И г —0,96% Nb а —0,92% V.
Рис. 1. Микроструктура стали 45 после вакуум-диффузионного хромирования, Х100 Рис. 1. <a href="/info/477692">Микроструктура стали</a> 45 <a href="/info/903685">после вакуум</a>-диффузионного хромирования, Х100
    Рнс. 4. Микроструктура хромированного металла после испытания на жаростойкость, Х500 [c.118]


Смотреть страницы где упоминается термин Хромирование микроструктура: [c.113]    [c.80]   
Прикладная электрохимия Издание 3 (1974) -- [ c.187 , c.188 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Хромирование



© 2025 chem21.info Реклама на сайте