Пропан энтальпия образования

Так, сероводород и вода могут образовывать смешанный димер HjS—H2SO [10] с энтальпией образования 25,54 кДж/моль [II]. Более прочные соединения представляют собой сольваты ионов Н3О+ и SH , Н3О+ с водой и сероводородом [12]. Пропан, пропилен и м-бутан в силу своей неполярности образуют с сероводородом растворы, близкие к идеальным. [c.32]

Метод расчета но групповым инкрементам [18] можно использовать для приближенного расчета энтальпии образования органических соединений из соответствующих значений инкрементов, определенных по разности энтальпий образования исследуемого соединения и его исходного углеводорода. В качестве примера рассмотрим более подробно два соединения пропан (НдС — СНо — СНд) и этантиол (НдС — СНг — 8Н). Каждое из этих соединений содержит метильную и метиленовую группы, образующие общую для обеих молекул этильную группу. Поэтому различие в энтальпиях образования этих двух молекул можно отнести за счет разности в энтальпиях образования метильной и тиольной групп. Эта разность, как видно из табл. VI.3, весьма постоянна для определенного ряда соединений. Замещение метильной группы в исходном углеводороде на тиольную приводит к значению тиолов, отличающемуся [c.169]

Этим аргументировано, что большая стабильность трет-бутильного радикала по сравнению с изопропиль-ным заметно проявляется уже в переходных состояниях, ведущих к их образованию. Конечно, остается недоказанным, что структурные различия не оказывают влияния на энергию основного состояния, напротив, недавно были приведены аргументы [26] в пользу того что грег-бутильный и изопропильный радикалы прак тически не различаются по энтальпии, так что присут ствие дополнительной метильной группы дестабили зует изобутан по сравнению с пропаном. С этой точки зрения рис. 14 должен более точно отражать пропорции, так что вклад ААН" , отвечающий более высокой скорости реакции при бромировании изобутана, определяется не различием в структуре, и соотвеФственно анергии переходного состояния, но исключительно разницей в энергии исходных систем. [c.65]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология