Слои окисные полупроводящие

Исследование кинетики отдельных ступеней электрохимической коррозии металлов и установление характера контроля в различных условиях протекания процесса коррозии. Изучение механизма защитного действия различных антикоррозионных мероприятий путем определения степени торможения ими отдельных ступеней коррозионного процесса. Установление связи коррозионной стойкости металлов и сплавов с электронным строением атома, т. е. с местонахождением данных металлов в Менделеевской таблице. Электрохимическое изучение структурной коррозии сплавов. Приложение теории дислокаций в атомных решетках к явлениям электрохимической коррозии реальных металлов и сплавов. Исследование кинетики электрохимических процессов при наличии на поверхности корродирующего металла тонких полупроводящих окисных или высокополимерных пленок, или других тонких слоев (например, [c.581]

Измерения коэффициента Зеебека могут подтвердить данные о типе носителя, найденные на основании эффекта Холла. Возможно, что эту величину даже целесообразнее определять, чем эффект Холла, так как получаемые при этом данные легче использовать. Шиллинг недавно привел пример их использования, показав, что медь дает полупроводящий окисный слой п-типа, являющийся промежуточным при образовании закиси меди при температурах 900—1000° С и при низких давлениях кислорода. При этом эффект был положительным и равным 700 мкв водном случае и отрицательным и равным 150 ж/се в продолжении другого периода, вследствие чего экспериментальные опгибки были исключены. [c.180]

В отличие от бора, который является полупроводником, алюминий представляет собой истинный металл с высокой электропроводностью, равной 4,0 10 oлi см . При комнатной температуре алюминий имеет характерную для металлов кубическую плотно-упакованную структуру с наименьшим межатомным расстоянием 2,864 А. Остальные три элемента — мягкие металлы серого цвета. Температуры плавления металлов этой группы изменяются не монотонно, а в случае галлия имеется минимум. Аналогичные особенности отмечены у элементов IV группы, но очень низкая температура плавления галлия в сочетании с нормальной температурой кипения приводит к тому, что интервал жидкого состояния галлия шире, чем у любого другого элемента. Все металлы довольно реакционноспособны, хотя поверхность алюминия обычно защищена тонкой, плотно прилегающей пленкой из гидратированного окисла, непроницаемой для кислорода. Эта окисная пленка не проводит электрический ток (в отличие от электролитического полупроводящего слоя на железе) и довольно прозрачна. Для того чтобы алюминий мог участвовать в реакциях, эту пленку иногда необходимо предварительно удалять, что можно осуществить действием водных растворов NaOH и Hg l2 и медленнее с помощью НС1. Галлий и индий устойчивы на воздухе, но таллий легко окисляется, поэтому его следует хранить под слоем масла. Эти три металла реагируют с кислотами с выделением водорода, но нерастворимость солей Т1(1), образующихся на поверхности при первоначальной реакции с серной и соляной кислотами, приводит к тому, что эти кислоты кажутся неспособными к реакциям с таллием. Галлий, так же как и алюминий, реагирует с растворами NaOH. [c.250]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология