Вольфрам испарение в вакууме

Термическое фасетирование часто бывает выражено яснее, если нагревание проводят не в вакууме, а в присутствии реакционноспособных газов. Это вызывается влиянием хемосорбции на ориентационную анизотропность испарения, а также на поверхностную энергию граней и поверхностную диффузию. Наиболее подробно исследовано влияние кислорода, но термическое фасетирование наблюдается также в присутствии галогенов и серы. Термическому фасетированию подвержены самые различные металлы, в том числе Ag, Аи, Си, Ре, N1, Р(1, Р1, Гг и У. Данные по этому вопросу обобщил Мур [56], а в более поздних работах Тейлора [57], а также Ли и Ми [58] подробно исследуется вольфрам. Способность разных граней к фасетированию и тип образующихся граней в присутствии адсорбата могут быть иными, [c.134]

Метод испарения обычно неприложим непосредственно к анализу металлических проб. Характерными затруднениями с технической стороны являются здесь легкая окисляемость металлов, необходимость тонкого чистого измельчения проб и приготовления эталонов, в достаточной степени точно соответствующих анализируемым образцам. Кроме того, летучести многих примесей и основы оказываются у многих металлов близкими. Исключение составляют нелетучие и тугоплавкие рений [457], молибден, вольфрам [107] и другие металлы, допускающие нагревание в вакууме до 1800° С [c.245]

Сравнительные данные по скорости эрозии наиболее применяемых катодных материалов (вольфрам, медь, углерод) показывают, что скорость испарения вольфрама в вакууме при температуре выше точки плавления минимальна по сравнению со скоростями испарения углерода и меди (рис. 2.34). [c.76]

Уран и 238,02 6,2 эВ. Уран, как и вольфрам, относится к числу элементов, для которых характерен чрезвычайно сложный, многолинейчатых спектр и малая летучесть окисных соединений, что обусловливает трудность их атомизации. Несмотря на это, флуоресценцию урана наблюдали при испарении его в вакууме. Цель этих работ — лазерное разделение изотопов (подробно см. [90]). [c.97]

Можно получать как одноступенчатые, так и двухступенчатые реплики. В первом случае реплику получают путем отложения материала непосредственно на образец, во втором — на, поверхность образца наносят пластический материал для предварительного отпечатка, воспроизводящего рельеф затем реплику сниыаюг с поверхности этого отпечатка и исследуют в микроскопе. Повышения контрастности реплики добиваются оттенением (отложение на объективе слоя материала с высокой рассеивающей способностью для электронов). Оттеняющий слой наносят под небольшим углом испарением материала в вакууме. Высокой контрастности достигаюг при использовании урана, вольфра(11а, золота, платины и других веществ. Иногда для оттенения применяют углерод. На рис. 136 дана схема двух основных способов получения углеродных реплик. На рис., 137 показана последовательность операций и возникновение изображения на экране при получении реплик с объектов, образованных контактирующими сферическими частицами. Это часто имеет место при исследовании кага лизаторов и носителей глобулярного строения [78]. [c.309]

Наиболее общий способ напыления пленок состоит в омическом нагревании спирали ленты. До напыления их обезгаживают продолжительным нагреванием в высоком вакууме при температуре, достаточно низкой для того, чтобы избежать заметного испарения металла, после чего температуру повышают и получают на стенках содержащего металл сосуда напыленную пленку. Нагревание окружающих стенок лучистой энергией может приводить к десорбции примесей, которые затем загрязняют пленку этого можно избежать, применяя импульсный нагрев металла. Металлы, имеющие при температуре плавления слишком низкое давление паров, чтобы можно было достичь подходящих скоростей испарения, наматывают на тугоплавкий металл (например, вольфрам или молибден) или испаряют из тугоплавкого тигля. Большинство напыленных пленок пористые, они имеют относительно высокие площади поверхности чтобы избежать существенных изменений площади поверхности во время опытов, пленки необходимо до исследования прокалить для спекания при самой высокой из намеченных д.ля пос.ледующих опытов температуре. [c.258]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология