Пленки напыленные

Для дальнейшего развития представлений о строении границы раздела электрод — ионная система и о кинетике процессов на этой границе необходимо усовершенствование существующих и разработка новых экспериментальных методов, более широкое применение современной электронно-вычислительной техники. Уже достигнут существенный прогресс в автоматизации электрохимических измерений и развитии разнообразных импульсных методов, позволяющих, в частности, изучать явления, которые протекают за времена порядка 10 с и менее (импульсные гальваностатические методы, метод высокочастотной рефлектометрии и др.). Далеко не исчерпаны возможности метода фотоэмиссии электронов из металла в раствор. Большой интерес представляют оптические методы изучения состояния поверхности электродов, а также воздействие на границу электрод — раствор лазерными импульсами различной длительности и частоты. Ценным дополнением к существующим методам электрохимической кинетики может служить метод изучения фарадеевских шумов — чрезвычайно слабых флуктуаций потенциала или тока, сопровождающих протекание всех электродных процессов и вызванных дискретным характером переноса электронов через границу фаз, дискретностью диффузионного потока и т. д. Использование электродов в виде очень тонких проволок или пленок, напыленных в вакууме на инертные подложки, позволяет делать выводы об адсорбционных явлениях по изменению сопротивления этих электродов. Для изучения состояния поверхности электродов и кинетики электродных процессов еще недостаточно используются такие мощные современные методы, как ЯМР, ЭПР, дифракция медленных электронов и т. п. Новые методы предварительно проверяются на ртутном электроде, на котором строение двойного слоя и кинетика многих электродных процессов исследованы с количественной стороны. По-прежнему актуальна проблема разработки методов очистки исследуемых растворов от посторонних примесей и приготовления чистых электродных поверхностей. [c.391]

Объект, подлежащий напылению, по избежание чрезмерного нагревания располагают на расстоянии 100—120 мм от места соприкосновения электродов. В системе создают вакуум, отвечающий остаточному давлению 10" мм рт. ст., и затем через угольные стержни пропускают переменный ток силой до 40—50 А. Уголь испаряется и конденсируется на поверхности объекта в виде тончайшей пленки. Напыление продолжают 10—15 с. Чтобы судить [c.179]

Часто оказывается, что отношение реальной величины поверхности металла (например, измеренной по адсорбции газа) Н к геометрической поверхности пленки больше единицы. Объясняется это тем, что внешняя поверхность пленки и в атомном, и в более крупном масштабе не гладкая и что из-за наличия щелей между кристаллитами в пленке имеются поры. Ширина таких щелей обычно может достигать примерно 2 нм. Однако при толщине пленки более 50 нм кристаллиты не изолированы полностью друг от друга и почти вся подложка практически покрыта металлом. Толщина пленки обычно отвечает одному кристаллиту (исключение составляют пленки, напыленные при очень низких температурах, очень высокой скорости осаждения, и очень толстые пленки), и поэтому произвольный разрез поликристаллической пленки при наличии щелей между кристаллитами можно представить схематически, как на рис. 21. В каталитических исследованиях в основном используют пленки толщиной [c.139]

Пленки, напыленные на стекло, почти всегда являются поли-кристаллическими. В табл. 2 приведены некоторые характерные свойства поликристаллических пленок с произвольной ориентацией кристаллитов, напыленных на стекло при 273—673 К [69, 70]. Аналогичные данные получены многими исследователями, и условия напыления, указанные в таблице, типичны для боль- [c.140]

Некоторые свойства пленок, напыленных на стекло при давлении 10- Па [c.140]

Прогрев при повышенных температурах пленок, напыленных, например, при 273 К, или напыление на горячую подложку приводит к уменьшению значений к. Температуры подложки, при превышении которых Я уже почти не меняются, составляют для Р1, Р(1 и N1 примерно 470 К, для КН примерно 620 К и для XV более 670 К [80]. На рис. 23 показан поперечный разрез пленок, который, как можно ожидать, они должны иметь в тех случаях, когда напыление проводится при более высоких, чем указанные [c.143]

Кристаллографическая неоднородность поликристаллических пленок, напыленных на аморфные подложки, тем меньше, чем выше температура отжига после напыления или чем выше температура подложки при напылении. Это видно уже из [c.143]

Одна из трудностей использования в качестве катализаторов металлических эпитаксиальных пленок, напыленных на расщепленные или разрезанные грани таких веществ, как щелочные [c.150]

Если ИСХОДИТЬ из механической модели кристаллитов, то можно ожидать, что параметр решетки для небольших металлических частиц меньше, чем для массивного металла, из-за поверхностного натяжения, сжимающего частицы. Однако проверить это экспериментально нелегко, так как на дифракционные картины существенно влияет уширение линий. Тем не менее для пленок, напыленных в СВВ, методом электронографии показано уменьшение параметра решетки на 0,26% для золота [18] и на 0,70% для серебра [19], что связано с величиной их поверхностного натяжения, равного 1,175 и 1,415 Н/м соответственно. Опубликованы также данные [20—22] о форме и структуре ультратонких пленок платины, никеля, палладия, золота и серебра, напыленных в СВВ на расщепленные кристаллы слюды при 370—770 К в таких условиях, когда образуются относительно большие кристаллиты (диаметром 5—20 нм). [c.260]

Образцы ультратонких металлических пленок, напыленных на слюду, можно подготовить для электронно-микроскопических [c.408]

NHs Na, На W (пленка, напыленная на стенки реактора) = 1.42 тор, Ру1 = 8,55 тор, 300—500° С, отмечается образование нитрида вольфрама [823, 824] [c.647]

Этилен Этан Rh (пленка, напыленная в вакууме) [69 - [c.1019]

На рис. 5 представлен спектр СО, хемосорбированной. на платиновой пленке, напыленной на пластинки из СаР,. [c.90]

Серебро 7—полированный образец высокой чистоты 2—полированный коммерческий образец высокой чистоты 5—спектр отражения образца 1 в воздухе. б. Золото /—электроотражение толстой пленки, напыленной на оптически плоскую поверхность 2—отражение идентичной пленки [50]. [c.139]

Рис. 13.24. Электронномикроскопический снимок и дифракционные картины пленки напыленного серебра на поверхности скола слюды после отжига в вакууме (5-10 тор) — снимок внизу и на воздухе — вверху

Воздействие окружающей среды может дать противоположный результат —повышение прочности. Реакция на поверхности граней кристалла с окружающей газовой атмосферой может привести к образованию на поверхности тонких реакционных слоев, которые затрудняют выход дислокаций при деформации и тем самым оказывают упрочняющее действие. Повышение прочности благодаря поверхностным пленкам (напыленным пленкам, слоям продуктов реакции) называется эффектом Роско. [c.386]

Лавсановая пленка, напыленная с дву.х сторон алюминием............ 20 0,25 1,35 [c.120]

Андерсон и Шимомура [182] исследовали превращения метилциклопентана и н-гексана в присутствии Р1-пленки, напыленной в вакууме, при 275—310°С. Считают [182], что гидрогенолиз метилциклопентана проходит через образование промежуточных адсорбированных соединений, строение которых аналогично комплексам А и Б, приведенным на с. 136. Высказывается предположение, что селективность гидрогенолиза в значительной степени зависит от концентрации водорода на поверхности катализатора, что определяет также соотношение адсорбированных комплексов А и Б. Наряду с гидрогено- [c.138]

Адгезия к окислам металлов и металлических пленок, осажденных на окисную подложку, во многом определяется образованием химических соединений [3], в частности окислов [5, 10, 12L При исследовании тонких пленок молибдена и ванадия, напыленных на подложки SiOj и AlaOg, необходимо обратить внимание на возможность обнаружения на межфазной границе пленка — подложка окислов молибдена и ванадия соответственно. Однако в то время как металл обладает максимально возможным коэффициентом поглощения К Ю —10 смг ) в очень широкой области спектра от жесткого ультрафиолета и до радиоволн включительно, окислы в широких спектральных участках обладают значительно меньшим коэффициентом поглощения [14]. Поэтому сравнительно небольшие по интенсивности полосы поглощения окислов практически невозможно обнаружить на фоне мощного поглощения чистого металла. Лишь в определенных участках спектра, в которых начинаются собственные поглощения, обусловленные междузонными переходами, величина поглощения окисла может в какой-то мере приближаться к коэффициенту поглощения металла. Для обнаружения окислов молибдена и ванадия по оптическому пропусканию тонких пленок, напыленных на окисные подложки, необходимо было выбрать такой спектральный интервал, в котором происходит резкое изменение величины коэффициента поглощения окисла молибдена или ванадия) от сравнительно небольших значений до значений, близких к их металлическому поглощению. Только в этом случае можно обнаружить характерные спектральные изменения пропускания, которые будут указывать на наличие того или иного окисла. Так как при высоких температурах, начиная с 800° С и выше, стабильны только [c.19]

Рис. 21. С.хематическое изображение поликристаллической пленки, напыленной

Для поликристаллических пленок, напыленных при низкой температуре (273 К), сложно с высокой точностью установить ориентацию граней, обращенных в газовую фазу. Иногда предполагают, например Бреннан и др. [71], что на поверхности г. ц. к. металла находится одинаковое число граней (111), (100) и [c.141]

Возникает вопрос в какой мере поверхность подложки, на которой находится поликристаллическая пленка, доступна для газообразного реактанта Если пленки напылять на горячую подложку или прогревать после напыления, щелей у них нет и, следовательно, подложка полностью недоступна для реактанта. В случае пленок, напыленных при 273 К, по данньш просвечивающей электронной микроскопии и результатам измерения шероховатости поверхности можно судить, что более 90% поверхности подлол ки находится в непосредственном контакте с металлом по крайней мере у основания межкристаллитных щелей подложка, наверное, покрыта тонким слоем металла. Поэтому такая подложка вряд ли доступна для реактанта. Этот вывод достаточно важен, так как позволяет решить, может ли в таких условиях подложка проявлять каталитическую активность. [c.145]

СОКОЙ температуре работа адгезии разных металлов на керамических носителях колеблется в пределах 0,2—0,9 Дж/м . Если принять количество атомов металла на единице поверхности раздела равным l,8 10 м , работа адгезии составит 8— 30 кДж/моль. Вполне понятно, что этот интервал работы адгезии соответствует только физическому, вандерваальсовому взаимодействию атомов металла с носителем. Однако величина работы адгезии весьма существенно зависит от среды, в которой формируется поверхность раздела металл—носитель, особенно от присутствия кислорода и других реакционноспособных газов. Бенжамин и Уивер [65, 66] исследовали влияние кислорода и показали на примере ряда пленок, напыленных на стекло, что в случае окисления металла, находящегося на поверхности раздела, кислородом в процессе образования пленки или после ее напыления работа адгезии заметно увеличивается. Однако, если носителем служит галогенид щелочного металла, влияние кислорода не столь очевидно. По-видимому, при окислении металла образуется окисел, который способен к взаихмной диффузии только с окисным носителем. [c.281]

Циклогептан (I), Оа Дейтероциклогеп-таны di4, di3, dj, (II) [циклогептаны — dll] W (пленка, напыленная на стенки стеклянного реактора) статическая система, 0—173° С, Оа I = 60 1 (мол.). Глубина обмена не превышает 20%. При 0° С в катализате di4-II —55%, d ,-II — 22%, dia-II — 6,4% при 173° С dj4-II — 38,9%, di3-II — 34%, dia-II — 15,8% I397] [c.535]

Нг, Ог Метанол, Од НдО Окислительно Формальдегид, Н О Rh и его комбинации с Ni, Pd, Pt и Pb 25 С, —80 С, —196 С. Наиболее активен Pt—Rh— Pb на AljOs- Никелевые катализаторы малоактивны [248] Rh (пленка, напыленная при Р = 10 торр). Ряд активности Pd, Rh > Ni > Mo [249] I дегидрирование Платино-родиевый катализатор. Реакция протекает с большей скоростью в восстановительной атмосфере [250] [c.290]

Интересны также работы по исследованию пленок пиролитического углерода обзор [86] по изучению термического разложения метана работа [87], посвященная процессу образования углерода из паров, диффундирующих из графитовой камеры Кнудсена патенты [88], [89] по производству углеродных пленок, содержащих бор. Исследуя процесс образования и свойства пленки, полученной при пиролизе хлористого этила, авторы [90] натолкнулись на интересное отклонение от закона Ома, а именно электропроводность пленки заметно менялась в зависимости от прикладываемого напряжения, тогда как в [83] при работе с пленками, полученными из углеводородов, не было обнаружено такого отклонения. При уменьшении толщины пленок, напыленных в электрической дуге, удельное сопротивление увеличивается [91], Но все же этот вопрос требует дальнейших исследований. [c.291]

Туигг и Райдил [50] показали, что расстояние между атомами катализатора должно быть важным фактором, определяющим активность металлических поверхностей в реакции гидрирования этилена. Они предсказали, что различные кристаллические грани одного и того же металла будут обнаруживать разную каталитическую активность и что различия в активности металлов могут быть приписаны стерическому фактору. Эти предсказания были подтверждены работой Бика, Смита и Уилера [37] и Бика [34], исследовавших активность неориентированных и ориентированных пленок напыленных металлов. Полное обсуждение этих работ читатель найдет в статьях Гриффита и Бика . [c.69]

Однако данные Хик.мотта [33] заставляют принять эти критерии чистоты напыленных. металлических пленок с некоторыми оговорками. Хикмотт получал вольфрамовую пленку напыление.м с вольфрамовой нити, начиная с давления 10 мм рт. ст. в цель-нопаянно.ч стеклянном приборе, предварительно подвергнуто.м тщательному обезгаживанию по методике, которая применяется в ультравысоковакуумных исследованиях. Этот автор обнаружил, что вслед за первоначальным падением давление возра- [c.94]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология