Кинетический гистерезис смачивания

Следует учитывать, что для реализации равновесных краевых углов смачивания требуется сравнительно длительное время, и любой неравновесный угол оказывается всегда больше равновесного (так называемый кинетический гистерезис смачивания). Поэтому в реальных технических процессах, протекающих сравнительно быстро, такие вещества, как графит и тальк, следует рассматривать как практически несмачиваемые водой (хотя равновесный угол 0<9О°). [c.78]

Косвенные определения критерия смачивания используются главным образом при изучении порошкообразных материалов. К их числу относятся измерение скорости пропитки порошка испытуемой жидкостью, изучение нестационарной фильтрации и др. При оценке критерия смачивания следует учитывать, что равновесное состояние капли или пузырька газа устанавливается не сразу. Задержка в наступлении равновесия связана с вытеснением молекул воздуха с поверхности и преодолением сил трения и других энергетических препятствий (кинетический гистерезис смачивания). [c.51]

В данной главе в основном рассматриваются закономерности кинетического гистерезиса смачивания и влияние различных особенностей реальной твердой поверхности на краевые углы натекания и оттекания. Как правило, кинетический гистерезис вызывается сопротивлением ( трением ) возле линии смачивания [1]. Пусть сила сопротивления, действующая на единицу длины линии смачивания, равна Ч . Тогда при натекании равнодействующая поверхностных сил, действующих на линии смачивания, равна [c.49]

Гистерезис, наблюдающийся при процессах смачивания, аналогичных указанным выше, т. е. при перемещении периметра смачивания, и зависящий от времени взаимодействия с поверхностью, называется кинетическим гистерезисом смачивания. [c.15]

Описанные измерения позволяют оценивать кинетический гистерезис смачивания и влияние реагентов на его значение. [c.28]

Критерий смачивания можно определить прямыми измерениями краевого угла 6. Для этого пластинку изучаемого материала помещают в жидкость. К плоской поверхности твердого вещества подводят пузырек воздуха. Освещая проекционным фонарем кювету с жидкостью, проектируют изображение пузырька на экран. Косвенные определения критерия смачивания используются главным образом при изучении порошкообразных материалов. Ких числу относятся измерение скорости пропитки порошка испытуемой жидкостью, изучение нестационарной фильтрации и др. При оценке критерия смачивания следует учитывать, что равновесное состояние капли или пузырька газа устанавливается не сразу. Задержка в наступлении равновесия связана с вытеснением молекул воздуха с поверхности (кинетический гистерезис смачивания) и преодолением сил трения (статический гистерезис смачивания). [c.69]

Кинетический гистерезис смачивания [c.46]

I Влияние реагентов на кинетический гистерезис смачивания на твердой поверхности можно оценить двумя способами [c.43]

В отсутствие внешнего механического воздействия (при диспергировании) адсорбционное равновесие между пигментом и раствором ПАВ устанавливается довольно медленно (рис. 2.3). Это связано с кинетическим гистерезисом смачивания, медленной диффузией крупных молекул ПАВ и постепенным распадом агрегатов с обновлением поверхности. [c.54]

Описанные измерения позволяют оценивать величину кинетического гистерезиса смачивания по уравнению (11) и влияние реагентов на его величину. [c.238]

ОПРЕДЕЛЕНИЕ КИНЕТИЧЕСКОГО ГИСТЕРЕЗИСА СМАЧИВАНИЯ И КРИТИЧЕСКОГО УГЛА ОТРЫВА ПУЗЫРЬКА [c.43]

Рис. 2.6. Схема прибора для измерения кинетического гистерезиса смачивания, краевых углов натекания и оттекания и критического угла отрыва пузырька

КИНЕТИЧЕСКИЙ ГИСТЕРЕЗИС СМАЧИВАНИЯ [c.172]

Исследуемые образцы пыли разделены на две группы — гидрофильные и гидрофобные. Фракционные к. п. д. г фр возрастают с увеличением плотности и размера частиц. Некоторые образцы пылей несколько выпадают из ряда, расположенного по возрастанию плотности пыли. Это наблюдается для пористых частиц с большой -удельной поверхностью, а, следовательно, и с повышенными адсорбционными свойствами. Обильная адсорбция тазовых молекул вызывает повышение кинетического гистерезиса смачивания [259]. [c.175]

Кривые Р Н) на рис. 1.6, б иллюстрируют антибатную зависимость между концентрацией с пенообразователя в жидкости и величиной Р при использовании частиц из плексигласа и расходе воздуха 3 л/мин. Поскольку при заданных концентрациях ОПСБ значения краевых углов 0 и кинетического гистерезиса смачивания Л на плексигласе не меняются, можно считать, что снижение Р обусловлено уменьшением поверхностного натяжения а на границе жидкость—газ (пузырьки) при росте с. [c.14]

Из большего числа разработанных методик для исследования механизма процесса пенной сепарации и проверки справедливости различных предположений, возникших на первых этапах применения этого процесса, наиболее информативной и перспективной оказалась методика снятия кривых несущей способности пены с использованием прибора АПОНС (см. рис. 1.4). Эта методика позволила оценить влияние различных факторов, в том числе новых реагентов и их сочетаний, на несущую способность пены и кинетический гистерезис смачивания, а также показать, что при прочих равных условиях [c.33]

Кинетическим гистерезисом смачивания принято называть изменение угла смачивания при передвижении по твердой поверхности трехфазного исриметра смачивания. [c.172]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология