Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Давление, измерение и контроль в системах высокого давления

    При наружном контроле сосудов высокого давления кипящих -реакторов плакированная внутренняя поверхность используется в качестве зеркала для отражения ультразвуковых импульсов при работе по схеме тандем. При внутреннем контроле (изнутри) сосудов высокого давления реакторов, охлаждаемых водой высокого давления, система контроля акустически подсоединяется по плакированной внутренней поверхности, а зеркалом в этом случае служит наружная поверхность. В обоих случаях распространение звука через аустенитный плакирующий слой значительно нарушаете . Об этом свидетельствуют колебания амплитуды при У-образном прозвучивании, измеренной первым и последним искателями, при перемещении системы искателей (рис. 30.4). Причинами таких колебаний являются особенности структуры поверхности плакирующего слоя, граница раздела плакирующий слой —основной металл и колебания толщины самого плакирующего слоя. Сюда добавляются неровности наружной поверхности и возможные местные колебания структуры плакирующего слоя, а возмол<но, и основного металла. Перечисленные влияющие факторы приводят к колебаниям затухания звука и искажениям и отклонениям звукового поля [1703, 1004, 1641]. Эти колебания при контроле изнутри проявляются меньше, чем при контроле снаружи. Чтобы можно было обобщенно учесть влияние таких помех, измеряют амплитуду при У-образном прозвучивании на представительных участках сосуда высокого давления перед собственно испытанием и статистически оценивают ее (например, определяют среднее значение и сред- [c.579]


    Для проведения измерений с графитовой кюветой служит специальная камера с системами электропитания, высокого давления, контроля температуры и водяного охлаждения. Автором разработано несколько вариантов камер, отличающихся размерами, способом герметизации, конструкцией контактов, между которыми установлена кювета, числом электродов и пр. [30, 31]. Ниже описан один из последних вариантов камеры, которая может эксплуатироваться в широком диапазоне температур и давлений и сравнительно удобна в обращении (рис. 74). [c.274]

    Манометры, установленные на баллонах или редукторах, позволяют следить за расходом газа. Они необходимы при проверке системы на плотность, контроле за работой клапанов безопасности или освобождении баллонов для проведения испытания. Манометры для измерения среднего и высокого давлений обычно бывают анероидного типа, т. е. работают от металлической гармо-никовой мембраны, колеблющейся при изменениях давления. Для измерения давления менее 6,89 кПа используют и-образные жидкостные манометры или специальные манометры низкого давления. [c.191]

    В приводимом ниже примере при пробном наложении тока было установлено, что потенциал расположенного рядом газопровода высокого давления тоже снижается. Это свидетельствует о наличии контакта. На рис. 11.9 представлена схема системы трубопроводов и показаны значения измеренных токов в трубопроводе. Станция регулирования расхода газа может быть успешно использована для подсоединения измерительных кабелей. Поскольку к домовым газовым вводам тоже можно подключить измерительные кабели, участки излмерения тока в трубопроводах газораспределительной сети получаются сравнительно короткими. Измерение тока вдоль трубопровода (см. раздел 3.4.2) хорошо поддается контролю при наложении импульсного тока. Величина и полярность этого тока тоже показаны на рис. 11.9. Можно легко установить, что в районе домов № 22—24 по улице I через разыскиваемый контакт протекал ток 40 А. Соприкосновение произошло с домовым вводом газа в дом № 13. [c.262]

    Все представленные здесь экспериментальные данные получены пэи абсолютных давлениях в камере сгорания 76—127 мм рт. ст. При таких низких давлениях в большинстве случаев возникали тлеюш,ие разряды, а не дуговые, поэтому здесь приводятся только данные, относящиеся к тлеющим разрядам. Из-за отсутствия приборов для измерения энергии не было возможности проводить исследования при более высоких давлениях. Приведенные данные получены на установках двух типов на простой установке, не имеющей приборов для контроля турбулентности, и на установке, где по желанию можно было контролировать турбулентность. В качестве топлива использовалась пропано-воздушная смесь. Эта смесь зажигалась одиночным длительным разрядом зажигательной системы емкостного типа. [c.33]


    Отметим еше ряд особенностей анл.гшзатора В 500. Скорость анализа заметно улучшается при миниатюризации системы хроматографического разделения. Система В 500 рассчитана на работу при высоких давлениях с использованием колонок из нержавеющей стали. Давление в системе может достигать 211 кг/см . Используется одноколоночная методика, причем размеры колонки уменьшаются до 43 см х 1,75 мм, в качестве заполнителя применяют шарики катионообменной смолы диаметром 10 2 мкм. Чтобы полностью реализовать возможности системы с управляющей ЭВМ, применяется восемь линий подачи буфера и окрашивающего реагента и четыре насоса с двойными шприцами и гидравлическим приводом, способные к плавной работе при давлении -211 кг/см . Развитие окраски с нингидрином контролируется при 150 °С, что устраняет необходимость во втором фотометрическом канале для детектирования пиков пролина и оксипролина, что существенно при использовании температуры 50 - 70 °С. Фотометрический блок представляет собой двухлучевой фотометр с модуляцией по длине волны. В качестве датчика в фотометре применяется фотодиод с линейной зависимостью сигнала от коэффициента поглощения в пяти диапазонах 0,1, 0,2, 0,5 1,0 и 2,0 единиц коэффициента поглощения. Чтобы свести к минимуму перекрывание пиков, используется кювета с небольшим оптическим путем /0,5 см). Кювета попеременно освещается излучением 590 нм (измерение) и 690 нм (контроль фона). Сигналы фотодиода подаются параллельно на самописец с диаграммной лентой и в ЭВМ, принимающую 600 точек в минуту. Стабильность фотометра такова, что для 1 нмоля аминокислоты отношение сигнала к щуму равно 30 1. Вследствие этого исходные объемы проб могут быть небольшими, порядка 10—20 мкл. [c.301]


Смотреть страницы где упоминается термин Давление, измерение и контроль в системах высокого давления: [c.26]    [c.127]    [c.173]    [c.173]    [c.645]    [c.332]   
Каталитические, фотохимические и электролитические реакции (1960) -- [ c.53 , c.66 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Давление в системе

Давление измерение

Давление, измерение и контроль в системах

Температура измерение и контроль в системах высокого давления



© 2025 chem21.info Реклама на сайте