Плазма постоянного тока

D P плазма постоянного тока [c.20]

Какова разница между индуктивно-связанной плазмой и плазмой постоянного тока [c.38]

Первый масс-спектрометр (МС), который был разработан для анализа неорганических веществ, описан в 1950-х гг. в нем в качестве источника ионов использовалась радиочастотная искра. Пределы обнаружения уже тогда были в диапазоне миллионных долей. Впервые использование плазмы в качестве ионного источника описано Греем в 1975 г. Была использована капиллярная дуговая плазма постоянного тока. Пределы обнаружения для этого прибора были уже на уровне менее 10 . Использование индуктивно-связанной плазмы (ИСП) приходится на середину 1980-х гг. Оно дало подъем растущему рынку неорганической масс-спектрометрии. Большое число компаний, производящих приборы для ИСП-МС, является доказательством интереса к этому методу. Неорганическая масс-спектрометрия полезна не только для определения эле-ментов в разнообразных пробах, но и для измерения распространенности природных изотопов, а также в методе изотопного разбавления. [c.132]

Существуют два способа получения аргоновой плазмы. В одном из них энергия высокочастотного переменного тока передается газу посредством магнитной индукции (ИСП, индуктивно связанная плазма), в другом возбуждение происходит под действием постоянного тока. ИСП обладает большей чувствительностью, но плазма постоянного тока значительно дешевле. [c.198]

На рис. 9-5 представлена фотография источника плазмы постоянного тока с тремя электродами. Два нижних являются [c.198]

Целесообразно сравнить возможности спектроскопических методов, основанных на возбуждении в раскаленных газах и плазмах. Сюда относятся методы с применением ИСП и плазмы постоянного тока, пламенная атомно-абсорбционная спектрометрия и пламенная атомно-эмиссионная спектрометрия, непламенная атомно-абсорбционная спектрометрия, атомно-флуоресцентная спектрометрия и методы с использованием дуги и искры. [c.203]

Теперь рассмотрим трехэлектродную систему высокочастотного ионного распыления диэлектриков, В плазму постоянного тока (между термоэлектронным катодом и анодом) введем металлический электрод и между этим электродом и анодом приложи.м напряжение высокой частоты (порядка нескольких мегагерц). Как было сказано ранее, область электрод — плазма функционирует подобно выпрямляющему переходу. Поэтому если в цепь высокой частоты ввести разделительный конденсатор, то в результате зарядки этого конденсатора электрод большую часть времени будет отрицательным относительно плазмы. Далее можно внешний конденсатор заменить внутренним, покрыв диэлектриком метал.тический электрод. При этом поверхность диэлектрика, обращенная к плазме, относительно плазмы (и относительно металлического электрода) зарядится отрицательно и будет распыляться. Поверхности диэлектрика достигают только короткие всплески электронного тока, а большую часть периода ВЧ напряжения к этой поверхности ускоряются положительные ионы. [c.366]

В книге рассмотрены три типа генераторов плазмы высокочастотный плаз-матрон и электродуговой генератор плазмы постоянного тока, которые используются для получения горячей плазмы, а также сверхвысокочастотный плазма-трон, применяемый для генерации холодной плазмы. Эти генераторы плазмы до сих пор пользуются основным вниманием исследователей. Возрастает количество исследований химических синтезов в низкотемпературной плазме высокочастотного и коронного разрядов. Коронный разряд представляет особый тип тлеющего разряда высокого давления и не расс.матривается в этой книге. Генераторы плазмы с дугой постоянного тока и с высокочастотными факелами разработаны до такой стадии, что хорошо известны критерии их моделирования. Электродуговые пла <матроны постоянного тока мощностью свыше 10 Мет выпускаются фирмами уже несколько лет. Работают и высокочастотные плазма-троны меньшей мощности (в диапазоне 100 кет). Сверхвысокочастотные плазма-троны, способные передать плазме примерно несколько киловатт, работают в ряде лабораторий, а выполненные расчеты свидетельствуют о возможности изготовления плазматронов большей мощности. Следовательно, в настоящее время [c.7]

Высокочастотную безэлектродную плазму можно также использовать в технологии металлов совместно с электродной плазмой постоянного тока большой мощности. Высокочастотная плазма, истекающая с более низкой скоростью по сравнению с дуговой плазмой, стабилизирует дугу и является дополнительным источником электронов. Работы в этом направлении проводятся во Франции. [c.45]

Для плазмохимического осаждения пленок применяют установки с тлеющим или ВЧ-разрядом пониженного давления (134-1300 Па). На установке для создания пленок в тлеющем разряде (см. рис. 7.4) при возбуждении плазмы постоянным током наблюдается рост пленки на катоде при плотностях тока несколько миллиампер на 1 см . Если же разряд возбуждается переменным полем частотой 50 Гц или 2 МГц, пленка образуется на обоих электродах. [c.331]

В качестве среды для получения плазмы в атомно-эмиссионной спектроскопии (АЭС) обычно используют аргон, азот или гелий. При сочетании АЭС и хроматографии наиболее оправдано применение трех основных способов получения плазмы (раскаленной смеси электронов, ионов и атомов плазмообразующего газа) возбуждение под действием электрических разрядов между двумя или несколькими электродами — плазма постоянного тока возбуждение под действием энергии высокочастотного переменного тока, передаваемой газу с помощью магнитной индукции, — индуктивно-связанная плазма возбуждение под действием сверхвысокочастотного разряда — СВЧ-плазма. Первые два из названных плазменных источников по ряду причин удобнее устанавливать на выходе колонок жидкостного хроматографа. В атомно-эмиссионных детекторах, предназначенных для газовой хроматографии, наиболее оправданным оказалось применение СВЧ-плазмы, создаваемой в среде высокочистого гелия, используемого обычно в качестве газа-носителя, расходы которого через ячейку при атмосферном давлении могут составлять от 20 до 100 мл/мин [297, 309-311]. [c.329]

Диапазон концентраций. Отклонения от прямолинейной зависимости интенсивности от концентрации, обусловленные са-мопоглощением, столь характерные для методов атомно-эмиссионной спектрометрии и спектрографии с дугой постоянного тока, а также для метода с плазмой постоянного тока, минимальны в методе ИСП, что объясняется физическими особенностями плазменного факела ИСП. Поэтому можно определять методом ИСП очень большой диапазон концентраций, например от 10 нг до 1 мг железа в 1 мл, что позволяет определять на квантометрах одновременно большие, малые и следовые количества компонентов в пробе. [c.205]

Рассмотренная нами картина, конечно, очень упрощенная, предназначена для того, чтобы помочь читателю понять основные явления, происходящие при ионном (особенно при высокочастотном) распылении. При рассмотрении отдельных деталей процессов остается большой простор для дискуссий, измерений и уточнений. Например, мы не можем согласиться с мнением Тумбса [40], который, в отличие от Холлэнда и др. [41], считает, что в вопросе о том, до какого потенциала относительно плазмы заряжается подложка, нет разницы между одноэлектродной и симметричной системами ВЧ распыления. В одноэлектродных системах заземленный держатель подложек является неотъемлемой частью ВЧ схемы и увеличивает площадь анода . В симметричных системах подложка может иметь плавающий потенциал. Если подложка не будет находиться в области ионной оболочки мишени, ее плавающий потенциал должен быть близок к потенциалу плазмы или быть несколько более отрицательным, точно так же, как плавающий потенциал электрода, помещенного в Плазму постоянного тока. Хотя температура электронов в ВЧ плазме низкого давления и весьма высока, однако не следует ожидать, что этот отрицательный потенциал намного превысит порог распыления, если только вторичные электроны, выбиваемые из мишени, не будут попадать на подложку и изменять ее заряд. [c.368]

Книга посвящена физике и химии процессов и принципам моделирования газовых разрядов различного типа, а также методам расчета устойчивых и оптимизированных генератор эв низкотемпературной плазмы (постоянного тока, высокочастотных и сверхвысокочастотных). Рассмотрены методы расчета стабилизированных электрических дуг с учетом переноса излучения и разрыва температур компонент плазмы, влияние нелинейных свойств плазмы на параметры стол5а дуги, турбулентная модель дуги постоянного тока, а также вопросы обобщения характеристик электрических дуг. Специальные разделы посвящены контрагированному индукционному разряду и СВЧ-генераторам плазмы. [c.2]

Схема установки для осаждения пленок в тлеющем разряде приведена на рис. 5.20. На этой установке можно осаждать пленки при давлениях от 10 до 10 торр, плотности тока приблизительно нескольких мА см . При возбуждении плазмы постоянным током наблюдали рост пленки преимущественно на катоде. Если же разряд возбуящается переменным полем частотой 50 Гц или 2 мГц [73], пленка образуется на обоих электродах. [c.278]