Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Работа Установка вакуумного распыления УВР

    Работа Установка вакуумного распыления УВР-2  [c.241]

Рис. 115. Вакуумная установка к лабораторной работе Установка вакуумного распыления УВР-2 . Рис. 115. <a href="/info/62870">Вакуумная установка</a> к <a href="/info/846364">лабораторной работе Установка</a> вакуумного распыления УВР-2 .

    Цель работы. Ознакомиться с различными процессами распыления, совершаемыми при высоком вакууме (термическое испарение веществ и нанесение тонких пленок, катодное распыление и травление металлов). Освоить приемы работы с промышленной установкой вакуумного распыления УВР-2. [c.241]

    Этот способ распыления является наиболее простым, надежным и экономичным, и на нем основана работа ряда выпускаемых промышленных сложных приборов, а также приставок для катодного распыления для вакуумных термических испарителей. Такие приборы, которые работают при энергиях от 1 до 3 кэВ, иногда называют установками для диодного распыления, а также установками для распыления при постоянном токе. Установка для распыления при постоянном токе состоит из небольшого стеклянного колпака, в котором находится мишень — катод и охлаждаемый водой держатель образца — анод и который помещается на контрольном блоке, включающем измеритель вакуума, высоковольтный источник питания, клапан напуска воздуха и небольшое реле времени (рис. 10.10,6). Детальное описание режима работы этого устройства и его использование описано в [292]. Одна из возможных проблем, связанная с распылителем такого типа, заключается в том, что непрочные образцы могут термически повреждаться. [c.201]

    Установка алюминирования, предназначенная для нанесения алюминиевой пленки на экраны специальных ЭЛТ, работает с использованием вакуумного распыления алюминия, и ее электрооборудование аналогично электрооборудованию ранее описанной установки вакуумного напыления. [c.217]

    Одним из условий нормальной работы установки является хорошее распыление масла форсункой. Из форсунок масло должно выходить в виде конуса, состоящего из мельчайших частичек масла. При вакуумной сушке из масла удаляется влага, находящаяся в свободном [c.78]

    Оттенение поверхности образца хромом и получение углеродной реплики методом напыления. Предварительное оттенение поверхности травленой и нетравленой медной фольги, а также получение углеродной реплики проводят в нанылительной вакуумной установке. Кусочек медной фольги (2x4 см) помещают под колокол вакуумной установки, укрепляют в специальной рамке и устанавливают рамку на расстоянии 80—80 мм от испарителя под углом 60° к направлению напыления. В испаритель вносят около 2 мг хрома. Затем включают вакуумный насос. После достижения необходимого вакуума (10 —10 мм рт. ст. остаточного давления) проводят напыление хрома. Затем на медную фольгу напыляют углеродную реплику, напыление проводят под углом 90° к поверхности фольги. Подробно работа на установке вакуумного распыления описана во введении к этой главе (см. стр. 191). [c.200]


    После завершения температурной или газовой обработки трубку с образцом отключают от вакуумной установки и образец вытряхивают в ампулу спектрометра. Ампулу можно отпаять и поместить в резонатор спектрометра. В устройстве на фиг. 7.11 ампула направлена в сторону и образец может быть введен в нее, а затем в резонатор без отпайки трубки, и после измерения вновь подключен к вакуумной установке для дальнейшей обработки. Вакуумную систему можно сконструировать так, чтобы обрабатывать образец непосредственно в резонаторе in situ. Когда работают с порошками, внезапный скачок давления может привести к распылению образца. Образец легко отпаять под вакуумом без его предварительной обработки, если ампулу с образцом подключить к насосам через трехходовой кран и позаботиться об изоляции диффузионного насоса от форвакуумного на время отпайки и на 1—2 мин после нее. [c.277]

    Однако встречаются случаи, когда оптические датчики имеют существенное преимущество перед другими типами датчиков. Это относится к методам радиочастотного ионного распыления, при котором работа всех датчиков, в которых используются электрические измерения, нарушается помехами от тлеющего разряда. В связи с этим, как сообщили Шейбл и Стендли [321], в последнее время вновь возник интерес к оптическим датчикам. Это привело к разработке систем, в которых осветитель и фотоэлемент размещены вне вакуумной системы [322]. Система такого типа, приведенная на рис. 56 для установки радиочастотного катодного распыления, была разработана Дэвидсом и Мейселом [323]. Поскольку в этой установке используется большой кварцевый катод, расположенный в непосредственной близости от подложки, то необходимо использовать углы падения 0 порядка 80°. Поскольку угол 0 приближается к углу Брюстера или [c.152]

    Вакуумная сушка (см. рис. 38, стр. 112). Масло пз приемной емкости 11 через фильтр 1 грубой очистки забирается насосом 2 и подается в электропечь 3, в которой нагревается до 70° С. Из электропечи масло под давлением подается через форсунки в распыленном состоянии в отгонный куб 4, в котором при помош,и вакуум-насоса BH-4G1M поддерживается остаточное давление 160—110 мм рт. ст. Водяные пары из отгонного куба направляются в холодильник 5, откуда конденсат поступает в сборник воды 8. Обезвоженное масло из нияагей части отгонного куба насосом 2а откачивается в емкость чистого сухого масла (на схеме не показана) через фильтрпресс 10 (вак гумная сушка) или на дальнейшую регенерацию (адсорбционная очистка). Следовательно, установка нри обезвоживании масла работает по схеме фильтр 1 — насос 2 — электропечь 3 — отгонный куб 4 — насос 2а — фильтрпресс 10. [c.111]

    Так как для создания в рабочей камере вакуума порядка 10 — 5-10" Па необходимо 1,5 -2ч (даже при разогретом диффузионном насосе), а время нанесения одного слоя обычно не превьппает 1—1,5 мин, в вакуумных установках применяют шлюзовые камеры, позволяющие, не нарушая вакуума (за один вакуумный цикл), последовательно или одновременно обрабатывать несколько партий подложек. При этом в шлюзовой камере размещается только сменный подложкодержатель с подложками, а технологическая оснастка (в том числе усройства испарения или ионного распыления) все время находится в условиях вакуума. Кроме увеличения производительности такой принцип работы установок способствует повышению воспроизводимости параметров наносимых тонких пленок, так как рабочая камера не сообщается с атмосферой. [c.88]


Смотреть страницы где упоминается термин Работа Установка вакуумного распыления УВР: [c.200]    [c.112]    [c.139]   
Смотреть главы в:

Учебная лаборатория вакуумной техники -> Работа Установка вакуумного распыления УВР




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Вакуумная установка

Распыление

Установка вакуумного распыления УВР

Установки вакуумные установки



© 2024 chem21.info Реклама на сайте