Установка вакуумного распыления УВР

На рис. 1-7 показана принципиальная схема установки для распыления материалов в плазме газового разряда низкого давления с искусственным катодом. В верхней части вакуумного колпака помещается анод ], в нижней —вольфрамовый катод 2. Третьим электродом или зондом Ленгмюра служит мишень 3, используемая в качестве источника распыляемого материала. [c.23]

Работа Установка вакуумного распыления УВР-2 [c.241]

Этот способ распыления является наиболее простым, надежным и экономичным, и на нем основана работа ряда выпускаемых промышленных сложных приборов, а также приставок для катодного распыления для вакуумных термических испарителей. Такие приборы, которые работают при энергиях от 1 до 3 кэВ, иногда называют установками для диодного распыления, а также установками для распыления при постоянном токе. Установка для распыления при постоянном токе состоит из небольшого стеклянного колпака, в котором находится мишень — катод и охлаждаемый водой держатель образца — анод и который помещается на контрольном блоке, включающем измеритель вакуума, высоковольтный источник питания, клапан напуска воздуха и небольшое реле времени (рис. 10.10,6). Детальное описание режима работы этого устройства и его использование описано в [292]. Одна из возможных проблем, связанная с распылителем такого типа, заключается в том, что непрочные образцы могут термически повреждаться. [c.201]

Цель работы. Ознакомиться с различными процессами распыления, совершаемыми при высоком вакууме (термическое испарение веществ и нанесение тонких пленок, катодное распыление и травление металлов). Освоить приемы работы с промышленной установкой вакуумного распыления УВР-2. [c.241]

Аппаратура. В лабораторную установку (рис. 115) входят следующие элементы. Комплект оборудования промышленной установки вакуумного распыления УВР-2, смонтированный в общем шкафу-каркасе со следующими основными элементами. 1. Распылительный стенд со съемными колпаками и устройствами перемещения объектов. 2. Диффузионный насос ЦВЛ-100 с ловушкой. 3. Масляно-ротационный насос ВН-461. [c.241]

Рис. 115. Вакуумная установка к лабораторной работе Установка вакуумного распыления УВР-2 .

Метод декорирования заключается в том, что на поверхность (обычно свежий излом) конгломерата или монокристалла способом вакуумного распыления наносится небольшое количество вещества, не образующего с исследуемым материалом химического соединения. В результате напыленное вещество, количество которого обычно меньше, чем нужно для образования сплошной моно-молекулярной пленки, концентрируется только на активных участках поверхности объекта (дефектах, узлах и т. п.), образуя зародыши кристаллов и делая эти участки видимыми ( декорируя их). Наиболее широкое распространение получило декорирование минералогических объектов золотом. Последовательность операций при декорировании, например, конгломерата каолинита следующая конгломерат разламывают в руках для обнажения свежей поверхности, один из кусочков материала помещают в вакуумную установку и нагревают до 300—450°С в течение 15—30 мнн для очистки поверхности от примесей и приставших частиц через несколько минут после прекращения нагрева без нарушения вакуума производят распыление золота, а затем на поверхность наносят угольную пленку (реплику), которую отделяют растворением образца в плавиковой кислоте. [c.135]

На рис. 8 изображена современная установка для распыления металлов в вакууме. Вертикальный, охлаждаемый водой, катод помещен в центре цилиндрической рабочей камеры, причем с этого катода металл распыляется в обе стороны. На каждом конце камеры установлены двери, на которых крепят покрываемые изделия. Двери и камера охлаждаются водой. Для откачивания применяется систе.ма из двух насосов — фор-вакуумного и диффузионного. Такая система позволяет поддерживать высокую скорость откачивания во время покрытия материалов, выделяющих газы, а также пополнять потерю инертного газа во время распыления. При объеме камеры в 60 л время откачивания равно 7 минутам. [c.75]

Установка алюминирования, предназначенная для нанесения алюминиевой пленки на экраны специальных ЭЛТ, работает с использованием вакуумного распыления алюминия, и ее электрооборудование аналогично электрооборудованию ранее описанной установки вакуумного напыления. [c.217]

Рис. 14. Установки для вакуумного распыления типа УВР-2

При вакуумной сушке отработанное трансформаторное масло из приемной емкости (не входящей в комплект установки и устанавливаемой на месте ее эксплуатации) через фильтр грубой очистки шестеренчатым насосом подается в электропечь За (см. рис. 61), где нагревается до 70° С. Из электропечи масло под давлением подается в форсунки и в распыленном состоянии поступает [c.168]

Было установлено, что сорбционные свойства пленок молибдена и нержавеющей стали при температуре —196° С практически близки к сорбционным свойствам иодидного титана. Вместе с тем оба эти металла легкодоступны и имеют значительно меньшую стоимость по сравнению с титаном, что делает их перспективными для использования в охлаждаемых геттерно-ионных насосах. Кроме того, нержавеющая сталь имеет более низкую температуру начала заметного испарения и требует меньшей мощности для испарения, чем титан. Для повышения сорбционной емкости пленок при обычных температурах нержавеющая сталь может применяться совместно с небольшим количеством иодидного или технического титана (около 10%). Пленки (налеты), получающиеся в результате распыления материала, из которого изготовлена вакуумная установка, при конденсации на охлаждаемых поверхностях также могут понижать давление в откачиваемом объеме. [c.105]

В связи с тем, что форсунка -с вкладышем может засоряться, несмотря даже на наличие фильтр-пресса в схеме вакуумной установки, применяется более простое и надежное распыление масла с помощью форсунки без вкладыша. В этом случае происходит растекание тонкой пленки масла по поверхности последовательных поддонов, как это показано на рис. 14. [c.61]

Утечки в магнитном электроразрядном манометре, работающем в чистой вакуумной установке, были бы легко устранимы, если бы при разряде, в особенности при высоких давлениях, не происходило заметное распыление металлических электродов манометра, в результате которого на изоляторах могут появляться проводящие налеты. [c.141]

При ионном распылении отсутствуют трудности, связанные с разбрызгиванием (испусканием более крупных агломератов), которое часто происходит при вакуумном испарении, а также нет ограничений, связанных с гравитационными силами, в расположении электродов и подложек. Во многих системах часто используется распыление в направлении сверху вниз, так как это упрощает установку и закрепление подложек. [c.362]

Прохождение через систему больших количеств газа при относительно высоком давлении является все же тяжелой нагрузкой для большинства насосов. Ионные вакуумные насосы, например, не подходят для систем ионного распыления, за исключением систем низкого давления. В установках для ионного распыления наиболее широко используются диффузионные насосы, которые можно считать вполне пригодными, если в них отсутствует значительный обратный поток паров диффузионного масла. Двумя основными критериями, определяющи.ми скорость обратного потока паров в диффузионном насосе при данных давлении и скорости откачки, являются наибольшее выпускное давление и пропускная способность (более подробно [c.425]

Имеются возможности получать диэлектрические пленки методом вакуумного высокочастотного распыления на установке диодного типа при горизонтально расположенной мишени. При этом распыляемый материал используется в виде порошка с размером частиц около 1 мкм [41, с. 286]. [c.42]

Одним из условий нормальной работы установки является хорошее распыление масла форсункой. Из форсунок масло должно выходить в виде конуса, состоящего из мельчайших частичек масла. При вакуумной сушке из масла удаляется влага, находящаяся в свободном [c.78]

Высоковакуумные агрегаты. Кроме отдельных диффузионных паромасляных насосов разработаны и выпускаются типовые вакуумные установки для сушки, распыления, плавки металлов и других специальных целей. Разработаны высоковакуумные агрегаты различных типов, основные характеристики которых при- [c.201]

Получение угольных реплик с пористых образцов. Угольную пленку на поверхности пористых объектов получают путем распыления углерода с помощью вольтовой дуги между свободно контактирующими между собой угольными электродами. Угольные электроды дуги 1 (рис. 99) подвижно укрепляются в клеммах верхнего испарителя 2 установки для вакуумного препарирования (ВУП-1) с помощью медной проволоки 3 диаметром 2,5—3 мм. Угольные электроды контактируют между собой, как показано на рис. 99, под действием собственной силы тяжести. Оба электрода должны быть заточены. Заточенная поверхность представляет со- [c.246]

В установках для получения покрытий в вакууме различны способы нагрева испаряемого вещества. Применяют термическое испарение с электрическим или электроннолучевым нагревом и катодное распыление. В некоторых случаях требуется сочетание вакуумного напыления с ионной бомбардировкой. Для испарения тугоплавких материалов использовали луч лазера [65] с длиной волны 1,06 мкм, генерируемый в стекле, легированном N(1, мощностью —100—150 Дж в 2—4 мс. Луч проектировался в вакуумную установку через стеклянное окно и фокусировался на испаряемом [c.237]

Часто перед напылением реплик исследуемая поверхность предварительно подтеняется металлом под определенным углом. Современные установки вакуумного распыления позволяют напылять последовательно металл и углерод (или кварц), не нарушая вакуум. [c.191]

Оттенение поверхности образца хромом и получение углеродной реплики методом напыления. Предварительное оттенение поверхности травленой и нетравленой медной фольги, а также получение углеродной реплики проводят в нанылительной вакуумной установке. Кусочек медной фольги (2x4 см) помещают под колокол вакуумной установки, укрепляют в специальной рамке и устанавливают рамку на расстоянии 80—80 мм от испарителя под углом 60° к направлению напыления. В испаритель вносят около 2 мг хрома. Затем включают вакуумный насос. После достижения необходимого вакуума (10 —10 мм рт. ст. остаточного давления) проводят напыление хрома. Затем на медную фольгу напыляют углеродную реплику, напыление проводят под углом 90° к поверхности фольги. Подробно работа на установке вакуумного распыления описана во введении к этой главе (см. стр. 191). [c.200]

Регенерацию трансформаторных масел ведут на ва куумно-адсорбционной установке РТМ-200, технологич ская схема которой предусматривает предварлтельно фильтрование масла через фильтр грубой очистки, ва куумную осушку масла в распыленном состоянии, а сорбционную очистку силикагелем и фильтрование чере фильтр-пресс. Для осушест1Вле 1Ия этих операций уста новка оборудована электрическими печами, вакуумны кубом с форсунками для распыления масла, адсорберг ми, фильтрами, рабочими насосами- и вакуум-насосо [c.136]

Полимерные пленки получают при испарении тонких слоев растворов полимеров, нанесенных на поверхность воды или стекла. Углеродные и кварцевые пленки получают распылением материалов в электрической дуге в специальных вакуумных установках. Пары углерода и кварца осаждают на чистые стеклянные пластинки, покрытые слоем полимера, на поверхность слюды илп монокристаллов хлорида натрия. Затем нленки отделяют от поверхности и переносят на поддержчгваю-щие сетки. Такие пленки в отличие от полимерных устойчивее к действию электронного луча и химически инертны. К недостаткам углеродных пленок следует отнести их гидрофобность. [c.124]

Установка, в которой проводится разложение нитридов, состоит из перегонной колбы (250 мл), которая соединена с манометром и вакуумным насосом. Для предотвращения чрезмерного распыления металла при раэложеиин в отводную трубку помещают небольшое количество стеклянной ваты. [c.993]

После завершения температурной или газовой обработки трубку с образцом отключают от вакуумной установки и образец вытряхивают в ампулу спектрометра. Ампулу можно отпаять и поместить в резонатор спектрометра. В устройстве на фиг. 7.11 ампула направлена в сторону и образец может быть введен в нее, а затем в резонатор без отпайки трубки, и после измерения вновь подключен к вакуумной установке для дальнейшей обработки. Вакуумную систему можно сконструировать так, чтобы обрабатывать образец непосредственно в резонаторе in situ. Когда работают с порошками, внезапный скачок давления может привести к распылению образца. Образец легко отпаять под вакуумом без его предварительной обработки, если ампулу с образцом подключить к насосам через трехходовой кран и позаботиться об изоляции диффузионного насоса от форвакуумного на время отпайки и на 1—2 мин после нее. [c.277]

На рис. 4 показана типичная аппаратура, используемая для измерения адсорбции весовым методом. Это схема установки с вакуумными микровесами Вольского и Ждашока [88], на которой они исследовали адсорбцию кислорода и распыление на ориентированных монокристаллах германия и кремния. В установке имеются два ртутных диффузионных насоса, двойная ловушка, охлая<даемая жидким азотом, и ультравысоковакуумные металлические вентили. Для предотвращения нежелательного влияния сил плавучести во время проведения опыта оба плеча весов (гильзы, содержащие подвесы с чашечками) нагревают или охлаждают до одинаковой температуры. [c.77]

На рис. 104 приведена экспериментальная вакуумно-распылительная установка, разработанная ВВС Мосэнерго [И]. Она состоит из сушильной камеры, индукционного обогревателя, трубопроводов и насосов. Для распыления масла использована механическая форсунка Кертинга, несколько измененная с целью получения более мелкого распыления. Общий вид и детали форсунки показаны на рис. 105. Вращательное движение масла создает вкладыш форсунки, вынвлненный в виде двухходового винта. Установка пбзвоЯйет осуществлять сушку от 500 до 1000 л час масла при температуре от 20 до 60° С [16]. [c.249]

Другим недостатком манометра является то, что его прудно хорошо обезгазить. Этим и объясняется то, что с помощью одного только магнитного манометра не удается откачать вакуумную установку до очень высокого вакуума, несмотря на то, что сам манометр одновременно является насосом. Откачивающее действие манометра связано с адсорбцией ионов на постоянно обновляющемся слое металла на стенках манометра, возникающем вследствие распыления электродов. Поэтому магнитный электроразрядный манометр может так же, как и ионизационный манометр с горячим катодом, искажать результаты измерений. Нестабильность разряда вносит неточности в показания магнитного манометра, которые при давлении Ю- —10 мм рт. ст. примерно соответствуют 20%, что существенно больше, чем у ионизационного манометра. [c.147]

Помимо описанных выше способов, устраняющих газоотпеле-ние в случаях, когда необходимо получить достаточно низкое давление (10 мм или ниже) без продолжительной затраты времени, особое внимание следует уделять выбору вакуумных материалов. Особенно следует быть внимательным при использовании различных вакуумных смазок, резины и других уплотняющих веществ. Данные по упругости пара некоторых веществ приведены в гл. IV и в приложениях в конце книги. Сведения по другим веществам, которых нет в этих таблицах, можно найти в соответствующей ли-тературе ). Эти сведения весьма полезны при конструировании вакуумных систем. В тех случаях, когда необходимо после откачки плотно закрыть систему, так чтобы в ней длительное время сохранялось низкое давление (нанример, радиолампы, катодно-лучевые трубки и т. д.), применяют специальные газопоглотители (геттеры). Для этого используют такие химически активные металлы, как барий, алюминий, кальций, тантал и магний, которые поглощают остаточные газы. Газопоглотитель распыляется в баллоне после того, как достигнуто нужное давление перед отпайкой прибора. Во время распыления газопоглотитель соединяется с остаточными газами, находящимися в баллоне, и это химическое соединение осаждается на стенках баллона. Некоторые газопоглотители, в частности барий, адсорбируют небольшие количества газа уже после того, как прибор отпаян от установки ). [c.246]

Однако встречаются случаи, когда оптические датчики имеют существенное преимущество перед другими типами датчиков. Это относится к методам радиочастотного ионного распыления, при котором работа всех датчиков, в которых используются электрические измерения, нарушается помехами от тлеющего разряда. В связи с этим, как сообщили Шейбл и Стендли [321], в последнее время вновь возник интерес к оптическим датчикам. Это привело к разработке систем, в которых осветитель и фотоэлемент размещены вне вакуумной системы [322]. Система такого типа, приведенная на рис. 56 для установки радиочастотного катодного распыления, была разработана Дэвидсом и Мейселом [323]. Поскольку в этой установке используется большой кварцевый катод, расположенный в непосредственной близости от подложки, то необходимо использовать углы падения 0 порядка 80°. Поскольку угол 0 приближается к углу Брюстера или [c.152]

Угольные реплики можно применять также для исследования пористой структуры отдельных частиц порошков. Для этого порошок наносят на свежеприготовленный скол плавленого кварца. Затем поверхность кварца с нанесенными на нее частицамя объекта (рпс. 100, а) покрывают угольной пленкой путем термического распыления углерода под колоколом вакуумной установки для препарирования, так же, как и в случае приготовления реплик с пористых тел. Угольную пленку укрепляют парафином (рис. 100, б). После застывания парафина кварц и нанесенные на кварц частицы объекта растворяют в плавиковой кислоте. После вторичной промывки в плавиковой кислоте и дистиллированной воде угольный отпечаток подтеняют (рис. 100, в). [c.249]

Вакуумная сушка (см. рис. 38, стр. 112). Масло пз приемной емкости 11 через фильтр 1 грубой очистки забирается насосом 2 и подается в электропечь 3, в которой нагревается до 70° С. Из электропечи масло под давлением подается через форсунки в распыленном состоянии в отгонный куб 4, в котором при помош,и вакуум-насоса BH-4G1M поддерживается остаточное давление 160—110 мм рт. ст. Водяные пары из отгонного куба направляются в холодильник 5, откуда конденсат поступает в сборник воды 8. Обезвоженное масло из нияагей части отгонного куба насосом 2а откачивается в емкость чистого сухого масла (на схеме не показана) через фильтрпресс 10 (вак гумная сушка) или на дальнейшую регенерацию (адсорбционная очистка). Следовательно, установка нри обезвоживании масла работает по схеме фильтр 1 — насос 2 — электропечь 3 — отгонный куб 4 — насос 2а — фильтрпресс 10. [c.111]

Так как для создания в рабочей камере вакуума порядка 10 — 5-10" Па необходимо 1,5 -2ч (даже при разогретом диффузионном насосе), а время нанесения одного слоя обычно не превьппает 1—1,5 мин, в вакуумных установках применяют шлюзовые камеры, позволяющие, не нарушая вакуума (за один вакуумный цикл), последовательно или одновременно обрабатывать несколько партий подложек. При этом в шлюзовой камере размещается только сменный подложкодержатель с подложками, а технологическая оснастка (в том числе усройства испарения или ионного распыления) все время находится в условиях вакуума. Кроме увеличения производительности такой принцип работы установок способствует повышению воспроизводимости параметров наносимых тонких пленок, так как рабочая камера не сообщается с атмосферой. [c.88]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология