Катодное падение потенциала аномальное

Нормальное и аномальное катодное падение потенциала. Аномальный тлеющий разряд [c.10]

При очень малых токах (обычно меньше 10 а), когда диаметр катодного пятна меньше ширины катодного пространства, катодное падение потенциала увеличивается из-за радиальной диффузии зарядов (поднормальное катодное падение потенциала). При большой плотности тока, когда уже вся поверхность катода покрыта разрядом, катодное падение потенциала также нарастает (аномальное катодное падение потенциала). На рис. 23.8 даны значения напряженности поля в положительном столбе разряда для различных газов. Даже небольшая примесь электроотрицательного газа приводит к резкому возрастанию напряженности поля положительного столба. Примесь молекулярных газов приводит также к появлению в положительном столбе страт, т. е. расположенных поперек градиента электрического поля темных и светящихся зон. В тлею- [c.432]

Разряд в полом катоде является аномальной формой тлеющего разряда, отличающейся значительно большей плотностью тока при одинаковом катодном падении потенциала. Такой разряд возникает при небольшом давлении газа в случае применения катода, имеющего полость [102]. [c.142]

Когда при увеличении тока вся поверхность катода покрывается свечением, катодное падение начинает возрастать с дальнейшим увеличением силы и плотности тока и называется аномальным катодным падением потенциала. [c.264]

Аномальное катодное падение потенциала возрастает [c.265]

Нормальное и аномальное катодное падение потенциала. Закон постоянства нормального катодного падения. Если вследствие большого внешнего сопротивления сила тока в тлеющем разряде невелика, то имеет место закон поверхность катода, покрытая свечением и принимающая участие в явлении разряда. [c.459]

Основные электрические свойства дуги таковы огромная электропроводность разрядного промежутка с увеличением тока катодное падение потенциала быстро уменьшается. Если при аномальном тлеющем разряде катодное падение потенциала измеряется сотнями вольт, то ч дуге оно порядка 10 в. [c.11]

Рис. 5.1. Универсальная характеристика аномального катодного падения потенциала.

G переходом к так называемому аномальному тлеющему разряду, когда вся поверхность катода покрыта свечением, катодное падение начинает увеличиваться с увеличением силы тока, притом в большей степени, чем уменьшается падение потенциала в положительном столбе при не слишком большой длине последнего. Поэтому характеристика становится вновь возрастающей (часть кривой DEF). [c.262]

Катодное распыление тем больше, чем больше плотность тока в трубке. Так как вместе с ростом тока увеличивается и аномальное падение потенциала, количество распылённого металла растёт примерно пропорционально квадрату плотности тока. [c.271]

В начале тлеющего разряда от точки С ло О характеристика падающая потому, что при малых силах тока катодное падение остаётся постоянным, между тем как градиент поля в положительном столбе уменьщается с увеличением плотности тока. Поэтому и вся разность потенциалов между электродами, складывающаяся из катодного падения и падения потенциала в положительном столбе, уменьшается с увеличением силы тока в разрядной трубке. С переходом к так называемому аномальному тлеющему разряду катодное падение начинает увеличиваться с увеличением силы тока, притом в большей степени, чем уменьшается падение потенциала в положительном столбе при не слишком большой длине последнего. Поэтому в дальнейшем характеристика становится вновь возрастающей до начала заметной термоэлектронной эмиссии катода. [c.457]

Рис. 118. Зависимость аномального катодного падения потенциала Vq от приведенной плотности тока для разряда с железным катодом в различных газах [192j.

При большом (аномальном) катодном надонии потенциала количество распыляемого в единицу времени металла приблизительно пропорционально разности между имеющим место катодным падением потенциала и некоторым его критическим значением 7кр 500 б. При меньших катодных падениях потенциала эта пропорциональность нарушается и количество распылённого металла соответствует кривой, более или менее полого приближающейся к оси абсцисс (рис. 110). При катодном падении иотенциала, равном или близком по своей величине к нормальному, распыление может быть столь незначительным, что обнаруживается лишь после очень продолжительного действия разряда (сотни часов). [c.270]

При катодном падении напряжения, равном или бл 1зком по своей величине к нормальному, распыление столь не.51 ачительно, что обнаруживается лишь после продолжительного (сот и часов) непрерывного действия разряда. Однако с увеличением катодного падения потенциала распыление растет и при аномальном тлеющем разряде становится существе шым. В этом случае распыление катода растет примерно пропорционально квадрату плотности тока. [c.15]

Обсуждение. Анализ энергетических кривых позволяет сделать заключение о местонахождении первичного образования лишь некоторой части ионного потока, бомбардирующего катод. Несомненно то, что ионы, обладающие энергией, близкой к величине еУг и образующие острый пи к [4], относятся к числу первичных, возникших в отрицательном свечении. Заметное появление этих ионов наблюдалось уже при слабоаномальном режиме разряда. Но большая часть ионного пучка обладает энергиями, меньшими еУк, и поэто.му их происхождение мол<ет быть двояким как результат первичной ионизации в т. к. п. и как результат превращений, с потерей энергии, ионов, движущихся к катоду со стороны отрицательного свечения. Тот факт, что относительное положение максимума кривых рис. 1 остается практически одним и тем л<е для основных форм тлеющего разряда (нормального, переходного и среднеаномального), позволяет утверждать, что происхождение ионов широкого максимума и место их конечного образования, по-видимому, одно и то же во всех этих случаях. Следовательно, мнение некоторых авторов, что в нормальном разряде ионы образуются главным образом в т. к. п. путем первичной ионизации, а в аномальном — преимущественно в отрицательном свечении [6], вряд ли справедливо. Существенного различия здесь, вероятно, нет. Однако, основываясь только на определенном местонахождении максимального содержания ионов в т. к. п., еще не удается однозначно ответить на вопрос о первичном или вторичном их происхождении. Казалось бы, наличие максимума в области небольших энергий можно объяснить тем, что основным механизмом образования ионов в т. к. п. является первичная ионизация. Но тогда положение этого максимума определялось бы разностью потенциалов для такого расстояния от катода, которое необходимо электронам для набора энергии, соответствующей максимуму функции ионизации (для воздуха - 120 эв), и независимо от величины катодного падения отвечало бы одной и той же энергии ионов. В действительности же энергия ионов в максимуме растет пропорционально Ук. С другой стороны, положение этого максимума отвечает одной и той же точке (сечению) т. к. п., а именно х 0,15 (1, как это следует из простейшей формулы распределения потенциала в т. к. п. й — ширина т. к. п.) [c.184]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология