Зонная плавка, использование для очистки мономеров

Как известно, наиболее чистые вещества (металлы и полупроводниковые соединения) были получены именно с применением кристаллизационных методов очистки, в частности зонной плавкой, так что последнюю можно по праву считать чемпионом в семействе других способов ультраочистки. Применение данного метода для очистки жидкостей целесообразно, например, в следующих случаях 1) при очистке мономеров и других термолабильных веществ 2) в том случае, если примесь образует азеотропную смесь с основным веществом 3) при глубокой очистке агрессивных и склонных к гидролизу жидкостей типа хлоридов элементов 1П, IV и V групп периодической системы Д. И. Менделеева. В последнем случае использование кристаллизационных методов очистки особенно перспективно по той причине, что очищаемый объект находится в основном в малоактивном твердом состоянии и не контактирует ни с чем, за исключением стенок контейнера, что почти исключает возможность попадания внешних загрязнений. [c.471]

По опыту производства полимеров в промышленных масштабах известно, что получение весьма чистых мономеров не всегда можно достигнуть одной ректификацией, тем более что это связано с большими техническими затруднениями и высокими затратами — необходимы ректификационные колонны высотой до 100 м. По-видимому, возможен несколько иной путь решения этой задачи, а именно комбинацией методов ректификации и зонной плавки. При очистке металлов методом зонной плавки были достигнуты очень хорошие результаты. По этому методу можно получать металлы с количеством примесей не более Ю" —10- %. Таких результатов не было получено при использовании всех других известных методов очистки. В настоящее время известны методы непрерывной зонной плавки, что существенно для поточных методов производства [29]. Естественно попытаться применить метод зонной плавки для очистки мономеров. Во время очистки мономер должен находиться в твердом состоянии. Температуры кристаллизации большинства органических мономеров лежат в области от -Ь150 до —165°. Необходимыми для них хладоагентами являются обычный лед, твердая углекислота и жидкий азот, которые получаются в больших количествах и доступны для промышленного использования. Таким образом, есть основные необходимые условия для применения зонной плавки при очистке мономеров 3 промышленности. Известны работы по применению зонной плавки для очистки таких органических веществ, как бензол [28], нафталин [29], бензойная кислота [30], [c.217]

Криоскопический метод является интегральным методом, т. е. позволяет определять все растворимые в жидкой фазе римеси, поэтому он естественно должен дополнять химические методы анализа мономера на специфические примеси. Б нашей практике было начато исследование чистоты некоторых низкоплавких мономеров мгтилметакрилата (температура кристаллизации —48,5°. чистота 99,2 и 99,9%), стирола (температура кристаллизации — 30,6°, чистота 98,8 и 99,7%), ацетонитрила (температура кристаллизации —44,9°, чистота 99,0%) и др. Следует отметить, во-первых, худшую повторность кривых кристаллизации некоторых мономеров по сравнению с обычными углеводородами, например, парафинового ряда (н-гексан, н-гептан, н-октан). Так, акриловая кислота и бутилакрилат дали очень большой разброс. Одной из возможных причин этого является влияние примесей. Во-вторых, в некоторых мономерах наблюдается, по-видимому, частичная самопроизвольная полимеризация, например в стироле, поэтому существенно определять их чистоту во времени непосредственно после последней стадии очистки, например, с помощью ректификации, хроматографии или зонной плавки. Наконец, некоторые мономеры поли-меризуются под влиянием малых концентраций воды или кислорода. Определение их чистоты следует вести в условиях изоляции от атмосферного воздуха в атмосфере аргона. Для мономеров, по-видимому, особенно цешесообразно вести исследование примесей совместным использованием криоскопии и хроматографии. [c.107]

Для очисгки органических создинений приманяются также зонная плавка и родственные ей кристаллофизические методы 15, 6]. Использованные вначале для получения органических полупроводников и ультрачистых стандартов простых органических веществ [7—101, эти методы были перенесены на более сложные соединения. В настоящее время теория, технология и аппаратура зонной плавки разработаны настолько, что возможны разделение и очистка органических веществ с температурами плавления от 300 °С и выше до —70 °С и ниже [11, 5, 6]. Так, зонной плавкой разделяются и очищаются такие сложные природные вещества, как воски [12] и неустойчивые мономеры с температурой плавления —76 °С [13]. [c.60]