Зонная очистка

Конечным продуктом приведенных выше реакций является поли-кристаллический кремний. Для получения монокристаллов кремния и дальнейшей очистки применяют бесконтейнерную зонную плавку. В вакууме или в инертной атмосфере с помощью высокочастотного индуктора в вертикально установленном стержне кремния создается расплавленная зона, которая не растекается благодаря силам поверхностного натяжения жидкого кремния. Расплавленная зона с определенной скоростью многократно перемещается в одном и том же направлении. В результате получаются совершенные монокристаллы кремния с суммарным содержанием примесей не более 10 —10 мае. доли, %. Только бестигельная зонная очистка (1958) дала возможность кремнию стать ведущим современным полупроводниковым материалом. Дело в том, что из-за высокой температуры плавления (1414 °С) жидкий кремний реагирует с материалом контейнера (тигля, лодочки, трубок и т. д.). Поэтому для финишной очистки и получения монокристаллов кремния в принципе непри- [c.199]

Нитрат кальция, тетрагидрат и его зонная очистка [c.149]

Математическое описание процесса зонной очистки. Рассмотрим диаграмму состояния бинарной системы с ограниченной областью твердых растворов. При равновесной кристаллизации из жидкости состава X при температуре выпадают первые кристаллы состава у. При дальнейшем охлаждении состав жидкости будет меняться в направлении, соответствующем аа, а состав кристаллов — в направлении ЬЬ (см. рис. 32). Если кристаллизация происходит в неравновесных условиях, то в сплаве сохраняется неоднородность состава. В реальных условиях при понижении температуры диффузия в кристаллах подавлена. Содержание тугоплавкового компонента оказывается больше в центре кристалла (зерна), а к его периферии уменьшается (ликвация или сегрегация). Можно рассчитать содержание примеси в твердой фазе после однократной зонной перекристаллизации. Для простоты расчетов допускают (приближение Пфаниа), что 1) диффузия в твердой фазе практически отсутствует D,, = 0 2) в расплавленной зоне происходит полное перемешивание D,, = оо 3) величина равновесного коэффициента распределения постоянна А о = onst = k 4) объем материала при плавлении и затвердевании не изменяется 5) можно пренебречь газообменом между твердой фазой, расплавом и паром. Тогда распределение примеси в основном веществе при к < 1 [c.91]

Рекомендуется при расчете зоны осушки принимать влагоемкость цеолита равной 10% (по массе). Зону очистки следует рассчитывать на основании данных об адсорбции СО2. Учитывая, что одновременно с адсорбцией СО2 происходит адсорбция ацетилена, рекомендуется динамическую емкость цеолита по СО2 принимать равной 50% соответствующей статической емкости. [c.120]

Катализатор стекает в нижнюю часть реакционного слоя и самотеком проходит через паровой поток, распределительные решетки паров и зону очистки. Затем очищенный отработанный катализатор самотеком поступает в катализаторную печь, в которой из него выжигают кокс. Далее регенерированный катализатор проходит через охладители, где отдает излишнее тепло, и стекает в нижний бункер катализаторного пневмоподъемника. Отсюда катализатор подается в сепаратор, в котором отделяется от транспортирующего его воздуха и медленно стекает вниз по вертикальной трубе-затвору, вновь возвращаясь в реактор. [c.321]

Как известно, кристаллизация из расплава используется для очистки многих веществ, в том числе и таких тугоплавких, как кремний, германий, различных металлов и солей. Однако высокая температура процесса увеличивает вероятность взаимодействия очищаемого вещества с материалом разделительной аппаратуры, что приводит к загрязнению этого вещества. Например, в процессах зонной очистки и выращивании монокристаллов германия он долго находится в расплавленном состоянии при температуре 1000°С в контакте с контейнером (лодочкой). Хотя контейнер обычно изготавливают из графита высокой чистоты, тем не менее оказывается, что в ходе процесса имеет место переход некоторых примесей, содержащихся в графите, в германий. Следовательно, задача подбора подходящих конструкционных материалов в подобных случаях приобретает важное значение. С целью выработки рекомендаций по повышению их качества или замены представляет интерес оценка загрязняющего действия этих материалов. Рассмотрим кратко некоторые оценки загрязнения очищаемого вещества примесью, одноименной с отделяемой. [c.144]

Схематически процесс зонной очистки металлического стержня, содержащего равномерно распределенную примесь при концентрации Со, при помощи передвигающегося кольцевого нагревателя Н (например, индуктора высокочастотного генератора) показан на рис. V.6. [c.101]

Из экспериментальных важнейшим является метод химических реакций, который служит основой качественного и количественного анализа веществ и их синтеза. Здесь главную роль играют изменение состава веществ и количественные соотношения между реагирующими веществами. При проведении химических реакций и получении веществ в чистом виде важное значение имеют разнообразные препаративные методы осаждение, кристаллизация, фильтрование, перегонка, сублимация и т. п. За последние годы они получили большое развитие и широко применяются для получения веществ высокой степени очистки. Сюда можно отнести методы зонной очистки, направленной кристаллизации, вакуумной перегонки и сублимации. [c.8]

После зонной очистки примерно 75% всего слитка содержит электрически активные примеси в количестве 1-10" —1-10" %. [c.203]

Индукционный нагрев металлов в настоящее время широко применяется в различных областях промышленности для самых разнообразных целей для плавки металлов и сплавов, горячей деформации металла, термообработки, зонной очистки металлов и т. п, [c.108]

Электронно-лучевые установки используются также для спекания и зонной очистки тугоплавких металлов и для выращивания монокристаллов. В этих случаях с успехом могут быть применены установки с кольцевым катодом и с радиальными пушками для стабилизации режима используются параметрические источники питания. [c.253]

Электроннолучевые установки, в которых мощный пучок электронов, попадая пол действием ускоряющего электрического поля на нагреваемый материал, разогревает его или расплавляет. Это самостоятельная группа электротермических установок, но ее удобно рассматривать совместно с луговыми. Источником электронного пучка могут служить кольцевой катод (рис. 0-2,и) и радиальная или аксиальная пушка (рис. 0-2,к). Эти установки применяются для выплавления слитков, литья и спекания, зонной очистки и разных видов термообработки активных жаропрочных материалов и полупроводников. [c.7]

I) плавка тугоплавких и химически активных металлов 2) сварка электронным лучом 3) спекание тугоплавких металлов 4) зонная очистка тугоплавких металлов 5) выращивание монокристаллов 6) металлизация и напыление 7) термообработка тугоплавких металлов. [c.235]

Описать принципы и применение зонной очистки и зонного выравнивания концентрации (стр. 332—335). [c.310]

Все эти приемы рассмотрены на примерах при описании приложения метола зонной очистки к конкретным неорганическим объектам. [c.329]

Одно из достоинств метода зонной очистки — возможность многократного прохода расплавленной зоны, которое можно [c.329]

Ряс. 33(. Схема процесса зонной очистки (а) и диаграмма состояния системы с не-прерывным рядом твердых растворов (б) / —перекрнсталлизованныЛ материал [c.380]

I — реактор-газификатор 2 — зона сушки (343 С) 3, 4 — реакционная зона соответственно низкотемпературная (673°С) и высокотемпературная (954°С, 33,2 кгс/см , или 3,32 ГГТа) 5 — зона синтеза 6 — зона очистки сырого газа 7 — метаннзатор (300—450°С, 30— 100 кгс/см , или 3—10 ГПа) /—кислород // — пар III — водоугольная суспензия /1 — полукокс V —ЗПГ [c.162]

Однако не всегда зонная пла1вка эффективна. Сплавы, характеризуемые диаграммой плавкости, показанной на рис. 272, в, недоступны зонной очистке. [c.590]

Рис. 3.26. Схема процесса зонной очистки (а) и диаграмма состояния системы с непрерыаным рядом твердых растворов (в)

Парр Н, Зонная очистка и ее техника, Металлургиздат, 1963. [c.95]

Хорошие результаты дает зонная очистка эвтектического сплава хлорида индия с хлоридом натрия [143]. Как видно на диаграмме состояния (рис. 75), в этой системе образуется инконгруэнтно плавящий хлороиндат натрия Маз1пС1в, который дает эвтектику с хлоридом индия, содержащую 21,5 [c.322]

Вакуумные индукционные печи применяют для плавки высококачественных сталей и жаропрочных сплавов на железной, никелевой и кобальтовой основе, а также цветных металлов и сплавов. Кроме того, эти печи могут быть применены для зонной очистки, варки стекла, термообработки металлических деталей, по. 1учения монокристаллов. Плавку и термообработку можно производить в вакууме или в среде нейтрального газа. Металлы, полученные в вакуумных печах, обладают улучшенными механическими свойствами, большой износостойкостью, антикоррозийностью, жаропрочностью. Потребность в качественной стали и других металлах в народном хозяйстве возрастает, поэтому растут число и мощность вакуумных индукционных печей. [c.145]

Оовоен также серийный выпуск электронных плавильных и нагревательных установок мощностью до 250 кет в виде высоковольтных агрегатов, питаемых постоянным током от ионных или полупроводниковых выпрямителей. В этих установках можно производить плавку и рафини-ровку любых металлов с очень высокой степенью их очистки и дегазации, зонную очистку и спекание. [c.17]

Лодочки — прямоугольные и круглые, как открытые, так и с крышкой, применяют для спекания твердых сплавов, плавки редких и полупроводниковых металлов в электрических печах в защитной атмосфере. Для их изготовления используют графит марок ГМЗ, МГ, МГ-1, ППГ. Для получения материалов для полупроводниковой и электронной техники наряду с графитами ГМЗ, МГ, МГ-1, ППГ используют более плотные марки графита ЗОПГ, МПГ-6, МПГ-8, ГТМ. После дополнительной очистки в среде активных газов при графитации из этих г рафитов чистотой классов ОСЧ-7-3 и ОСЧ-7-4 изготавливают различные конструкционные элементы технологического оборудования. Лодочки и тигли используют для восстановления диоксида германия, синтеза интерметалличе-ских соединений, зонной очистки и вытягивания монокристаллов [38]. Срок службы лодочек из графита марки ГМЗ-ОСЧ при восстановлении достигает 20000 ч, в течение которых она выдерживает до 500 операций, а при зонной плавке - 5000 ч. Графитовые нагреватели, пьедесталы, экраны и другие детали работают в установках для получения монокристаллов кремния, эпитаксиальных структур, карбида кремния и т.п. [38]. [c.253]

Стеклоуглерод используется для изготовления лабораторной посуды и химической аппаратуры, технологической оснастки для высокотемпературных процессов получения особо чистых соединений, при обработке материалов полупроводников, при получении фтористых соединений, а также при зонной очистке различных металлов и соединений и вакуумном испарении металлов. Кроме того, из сте слоуглерода производится крупка и порошок различной тонины помола для применения в качестве теплоизоляционного и фильтрующего материала. Помимо вышеуказанных марок стеклоуглерода производятся марки СУ-12, СУ-20, СУ-30. Свойства этих материалов приведены в таб.л. 3.23 в сравнении со свойствами стеклоуглерода зарубежных марок. [c.63]

Метод зонной очистки был разработан в начале 1950-х го-дон как раз для этих нужд. Метол можно обосновать, рассматривая бинарную систему жи ткость — тиердос вешество (рнс. 10.13). [c.333]

Зонная очистка (плавка) многих полупроводниковых матариалов также происходит, когда они находятся в виде расплава. [c.5]

Чтобы после конечного распределения достигнуть дальнейшей очистки, мож)ш удалить загрязненную часть образца, расплавить последний до прежней длины и вновь проподить зонную очистку. [c.325]

Перевести очищаемый объект в другое химическое соединение (например, хлорид в бромид или безводную соль в кристаллогидрат), для которого коэффициенты распределения удаляем f=ix примесей имеют более благоприятное значение, пронести зонную очистку этого соединения, после чего реге[1ерировать ис- ходный объект. [c.328]

В качестве об1 екта для зонной плавки использонать не само очищаемое вещество, а его эвтектическую смесь, характеризуемую более благоприятными значениями к, с венгеством, которое после зоной очистки легко удалить. [c.328]

Эффективиостъ зонной очистки во многом определяется рядом факторов, которые необходимо учитывать при конструировании соответствуюп1ей аппаратуры и практическом осуществлении процесса. [c.329]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология