Пропускание Эталона Фабри Перо

О повышении разрешающей силы и прозрачности эталонов Фабри—Перо. При исследовании тонкой структуры спектральных линий помимо высокой разрешающей силы и малой величины фона большое значение имеет прозрачность эталона, мерой которой может служить отношение интенсивности в максимуме интерференционной картины к интенсивности падающего света. Эту величину мы назовем пропусканием эталона Фабри—Перо. В соответствии с выражением (12.14) [c.109]

Необходимость предварительной монохроматизации и сложность сканирования спектра затрудняют широкое внедрение спектрометров с эталоном Фабри—Перо поэтому пока еще широко распространены установки лабораторного типа (рис. 43.2) [43.1 ]. Установка работает в видимой и ближней инфракрасной областях спектра. Для повышения пропускания эталона Фабри—Перо на рабочие поверхности его пластин были нанесены диэлектрические покрытия химическим методом. Эталон помещался в герметичную камеру, наполненную азотом, давление которого изменялось от нескольких мм рт. ст. до атмосферного. Равномерность сканирования спектра обеспечивалась подачей азота из баллона с давлением порядка 100 атм через узкий капилляр. Применялась внешняя установка эталона с двумя монохроматорами — дифракционным 2 и призменным 4. Дифракционная решетка 300 штрих мм с углом блеска ЗГ работала в седьмом порядке для зеленой области спектра и в пятом порядке — для красной. Призменный монохроматор, установленный перед эталоном, устранял возможность наложения нерабочих порядков спектра решетки [c.324]

При сканировании спектра одновременно с изменением разности хода в эталоне Фабри—Перо необходимо перемещать и полосу пропускания монохроматора, работающего совместно с эталоном. Для того чтобы не было наложения спектральных линий соседних порядков, величина АЯ , должна быть меньше постоянной эталона Д Я. При рассмотрении различных способов [c.320]

Пропускание идеального эталона Фабри — Перо в максимуме (Т), контрастность У = -Гтах/ тШ и эффективное число пучков У эфф в зависимости от коэффициента отражения г и поглощения е [c.169]

Пропускание идеального эталона Фабри — Перо в максимуме, [c.164]

Общая схема установки для исследования рассеяния света в жидкостях изображена на рис. 1.2.1 (1 - гелий-неоновый лазер, работающий в одночастотном режиме). Для выделения одной частоты использовался метод Ю.В.Троицкого /26/. При этом применялась полупрозрачная пластинка (кварцевая пластина с нанесенным слоем никеля пропускание 70%), помещенная в узел стоячей волны генерируемого излучения на расстоянии 100 мм от выходного плоского зеркала. Пластинка укреплялась на пьезокерамической подставке и могла перемещаться вдоль оптической оси 2 - фотоэлемент, предназначенный для контроля интенсивности изл -чения лазера 3 - линза, фокусирующая излучение лазера на кювете 6 4 - прерыватель излучения, управляемый звуковым г.енератором 9 (частота 73 Гц) 5 - воздушный термостат, представляющий собой цйлиндрический нагреватель на медном корпусе (стабильность и однородность температуры в кювете составляла 0,1°К). Рассеянное излучение через поляризатор (10), плоскопараллельную пластину (11) и линзу (12) направлялось на эталон Фабри - Перо, сканируемый давлением (напускание азоте из баллов (36) через вентиль (35), редуктор (33) и капилляр-натека-гель (32) насос (34) и клапан (31) служили для предварительной откачки воздуха) линейность развертки на четырех порядках интерферен- [c.10]

Составляя аналогично сложным эталонам Фабри — Перо мультиплексные фильтры, можно значительно увеличить фильтрующую способность, хотя и при существенно меньшем пропускании. При этом ширина полосы-в основном определяется фильтром высокого порядка, а устранение добавочных максимумов достигается фильтром низкого порядка. Часто такие слоншые фильтры изготовляют на одной подложке, комбинируя отражающие и промежуточные слои. [c.239]

Для того чтобы получить узкополосную генерацию, внутри резонатора обычно устанавливают один или два селектирующих элемента, что может обеспечить генерацию только одной продольной моды. Устройство грубой перестройки ограничивает ширину полосы генерации до менее 0,1 нм (рис. 3.2). Обычно для этой цели используют поляризационный фильтр, дифракционную решетку илн призму. Высокие плотности мощности излучения могут повредить решетку. Диапазон генерации (рис. 3.2) контролируется точкалш пересечения контура спектральной полосы пропускания элемента перестройки с пороговым уровнем. Пороговый уровень определяется суммарным усилением лазерного резонатора. Для того чтобы получить более узкую спектральную полосу, в резонатор обычно вводят интерферометр Фабри — Перо (или эталон). В эталоне имеются две отражательные поверхности с диэлектрическим напылением, отстоящие друг от друга менее чем на 1 см. Как и в случае лазерного резонатора, у этого эталона тол> е есть интервалы между продольными модами, или свободный спектральный интервал, пропускающий только те длины волн, для которых на один проход мел<ду отражающими поверхностями точно укладывается целое число длин волн. Поскольку остальные длины волн не пропускаются, а отражаются, эталон слегка наклоняют относительно оси лазерного иучка, чтобы отраженные лучи не попадали в генерирующую среду. [c.152]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология