Конденсированная фаза внутренняя энергия

Суть этого процесса заключается в следующем. Нагретый до сравнительно невысоких температур (порядка 30-70 °С) исходный раствор (горячий) подается с одной стороны гидрофобной микропористой мембраны. Вдоль другой стороны мембраны движется менее нагретый (холодный) растворитель (обычно вода). Поскольку мембрана гидрофобна, а размеры пор ее достаточно малы (порядка одного микрометра и менее), то жидкая фаза в поры мембраны не проникает. Испаряющийся с поверхности горячего раствора пар (поверхностью испарения в этом случае являются образующиеся на входе в поры мениски раствора) проникает в поры мембраны, диффундирует через слой воздуха в поре и конденсируется на поверхности менисков холодной жидкости. При этом в порах создается разрежение, что ускоряет процесс испарения и, следовательно, повышает его эффективность. Так как температура исходного раствора невысока, то для проведения процесса мембранной дистилляции можно применять низкопотенциальную тепловую энергию - тепло нагретой после холодильников воды, отходящих газов (например, выхлопных газов двигателей внутреннего сгорания и др.), геотермальных вод и, наконец, солнечную энергию. [c.338]

По мере движения газа основных струй в осевом направлении из его элементов, попавших в приосевую область, начинают формироваться струи противотока, располагающиеся в межструйном пространстве и взаимодействующие со струями основного потока. Формирование струй противотока идет из внутренних слоев основного потока, обедненного конденсирующимся компонентом, т.е. противоток должен иметь значительно меньшую концентрацию в паровой фазе этого компонента. По мере продвижения противотока к диафрагменному отверстию масса его увеличивается, возрастает энерго- и массообмен со струями основного потока, что может привести к росту концентрации в нем конденсирующегося компонента, т.к. противоток распространяется в межструйное пространство основных струй до периферийной области и может частично захватывать слои газа, содержащие и жидкую фазу сконденсированного компонента. Поэтому степень очистки или содержание конденсирующихся компонентов в парогазовом потоке и в противотоке во многом должна зависеть от конструктивных параметров закручивающего устройства (Р, ЬхЬ, п), технологических параметров (Т,, л) и режима работы вихревой трубы. [c.164]

При вакуумно-диэлектрической сушке (рис. 90) электроды рабочего конденсатора 2 высокочастотной установки 1 монтируют внутри герметичной камеры или автоклава 3. Расход тепла на нагревание древесины и испарение из нее влаги компенсируется, как и при диэлектрической сушке, энергией высокочастотного электромагнитного поля. Часть испарившейся из древесины влаги в виде пара отсасывается из сушилки вакуум-насосом 5 через конденсатор 4, а часть влаги конденсируется на внутренней поверхности ограждений и может удаляться в жидкой фазе. [c.142]

Характерной особенностью процесса ректификации является то, что паровая и жидкая фазы находятся в состоянии насыщения. Причем температура пара Тт выше температуры жгщкости Т], что означает наличие одновременно протекающих процессов конденсации и испарения в элементарном объеме, при этo i из.менение температур фаз происходит по линии насыщения. Это позволяет сделать вывод, что вследствие того, что Т2>Т1, на границе раздела фаз пар конденсируется, отдавая тепло жидкой фазе, в результате чего жидкость испаряется. Поскольку из.менение внутренней энергии системы происходит только за счет внешнего воздействия, 1ю никак не за счет внутренних процессов перехода вещества из фазы в фазу, то. можно записать [c.234]

Окисление магния под действием водяного пара при давлен НИИ 31—208 мм рт. ст. и температурах 425—575° С изучали Свек п Гиббс [540] (см. гл. 3). Оказалось, что скорость окисления изменяется линейно, и что прн всех условиях единственным образующимся окислом является MgO. Эти особенностн определяются высоким давлением пара магния при температзфах выше, скажем, 500° С и пористостью окиси магния. Прн 425— 500° С во всем исследованном интервале давления реакция взаимодействия, можно сказать, развивается на самой поверхности металла или непосредственно около нее. По мере снижения давления испарение металла, по-видпмому, отодвигает реакцию все дальше от поверхности металла в полном соответствии с постепенным ростом энергии активации до уровня, близкого к величине теплоты возгонки металла. При 500— 575° С и более высоком давлении водяного пара реакция развивается по расщелинам между отстающей окалиной и металлом, так что давление, по-видимому, уже не влияет на величину энергии активации. При наивысших температурах и умеренном давлении атомы магння ускользают из окисного покрытия, так что реакция протекает либо в газовой фазе, либо на стенках аппаратуры магний конденсируется и на внутренней поверхности окисного слоя, образуя как бы чехол, из которого можно вынуть остальной металл после его охлаждения. [c.371]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология