Анизотропия пленки

Так как реальные пленки обладают одноосной анизотропией, у них в отличие от обычных массивных образцов петля гистерезиса (см. гл. VI) в легком направлении имеет высокую прямолинейность, что обусловливает два стабильных остаточных состояния. Эти состояния можно использовать для записи О и 1 в двоичной системе, иначе говоря, пленки можно, применять как элементы памяти. Петля гистерезиса пленок в трудном направлении в большинстве случаев имеет вид прямой линии, наклон которой равен PJH , где — намагниченность, а Н/, — поле анизотропии пленки. При квазистатическом перемагничивании изменение намагниченности в легком и трудном направлениях обусловлено двумя различными процессами. Перемагничивание в легком направлении происходит путем движения доменных стенок, а в трудном направлении — в основном путем когерентного вращения намагниченности. [c.500]

На рис. 19 показано расположение оптических осей измерительной системы прибора (диагональное положение образца материала) для положительного значения оптической анизотропии пленки. Положения всех оптических частей в соответствии с приведенной схемой могут быть заранее отмечены на приборе. [c.31]

Магнитная анизотропия пленок Со-Н1-Р (с( =8а/ал 2) [c.86]

Чтобы научиться свободно получать пленки воспроизводимой толщины, нужно обладать определенными навыками и аккуратно работать кроме того, следует использовать стандартные методы препарирования, точно соблюдая требования к температурному режиму, давлению и количеству взятого вещества. Толщину пленки иногда можно уменьшить за счет однократного или многократного растяжения во взаимно перпендикулярных направлениях. Но так можно поступать, если анизотропия пленки, вызванная деформацией, или же возможные структурные изменения не скажутся на результатах исследования. [c.61]

Фиксация пленки на подложке и воздействие на нее силового поля твердой поверхности существенно влияют и на физические процессы в адгезионном слое усадку, стеклование, ориентационные эффекты и т. д. Все это определенным образом сказывается на структуре пленок (рис. 1.2). В адгезионном слое молекулы пленкообразователя подвержены плоскостной ориентации, при этом формируется, как правило, менее совершенная структура, чем в массе полимерной пленки. По мере удаления от подложки степень ориентации и анизотропия пленок резко падают, а степень надмолекулярной организации полимера возрастает. Структурная неоднородность особенно заметна у покрытий, изготовленных из кристаллических полимеров. Из-за большого числа центров кристаллизации и малой [c.10]

Обобщенная Э. X X X Анизотропия пленок [c.322]

Анизотропия пленки, возникающая вследствие адгезии к подложке, иа которой производится отлив, и в результате натяження в процессе формования, приводит к нежелательным усадкам ее при эксплуатации. В то же время сочетание одноосной вытяжки с последующей релаксацией внутренних напряжений приводит к ориентационному уирочпению, что имеет значение для пленок, которые в процессе эксплуатации подвергаются одноосным механическим воздействиям (наиример, кино-иленки). [c.316]

Рис. 11.27. Зависимость критической дефориации от степени механической анизотропии пленок иа основе различных фторопластов

Двухосная ориентация возникает в том случае, когда нленка полимера растягивается в двух направлениях, перпендикулярных друг другу. Сегменты полимерных цепочек стремятся расположиться параллельно плоскости пленки, но в самой этой плоскости ориентируются в более или менее случайных направлениях. В общем случае пленки, подвергнутые двухосной вытяжке, все еще обладают некоторым направлением преимущественной ориентации, хотя степень анизотропии пленки сущестйенно меньше по сравнению с одноосно вытянутым образцом. [c.333]

Геометрический фактор, т. е. анизотропия пленки. Даже при отсутствии влияния трех рассмотренных выше эффектов он сказывается в том случае, когда толщина пленки сопоставима с размером кристалла. Таким образом, разница между пленками, обычно применяемыми для исследования морфологии (толщиной от 0,1 до 10 мкм), и блоком не должна сказываться ка структуре лaмeлeй , имеющих толщину ЮО А, но, безусловно, скажется на структуре поликристаллов (сферолитов и зерен). Таким образом, переход от пленки к блоку больше всего повлияет на строение поликристаллов. [c.52]

На магнитные пленки, которые имеют магнитострикцию, равную нулю, разность термических коэффициентов не влияет, Такахаши [67] не нашел разницы в температурной зависимости анизотропии пленок, осажденных на различные подложки. [c.526]

На рис. 1.26 показано изменение линейных размеров пленочных образцов в направлении экструзии. Анизотропия пленок необычна при температуре, превышающей температуру стеклования сополимера, в области, соответствующей дополнительной кристаллизации, пленки удлиняются в направлении фильерной вытяжки на 10 - 15% и сокращаются в поперечном направлении. В температурном интервале 130 - 160 °С, соответствующем аморфизации кристаллической структуры сополимера при отжиге (см. рис. 1.25), наблюдается обращение усадки пленок. Пленки сокращаются в направлении экструзии, утолщаются и расширяются в перпендикулярном направлении. Различие усадочных характеристик пленок различных партий соответствует различной степени разрыхления их структуры при вытяжке в жидкости. Наибольшее количество жидкости захватывают изотропные пленки, усадка. которых во всем исследованном интервале температур незначительна. Разрыхление структуры таких пленок при вытяжке в жидкости имеет характер растрескивания (аналогичный крейзингу амор- [c.41]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология