Очистка двуокиси углерода цеолитами

Цеолит NaA (4А) не адсорбирует углеводороды, начиная с пропана и выше, позтому его используют для предварительной очистки природного газа. Перед сжижением газа из него необходимо удалить такие примеси, как вода и двуокись углерода. В этом важном процессе широко применяется цеолит NaA, обладающий высокой селективностью при адсорбции воды и СО2- Если эти при- [c.719]

Примеси воздуха—влага, двуокись углерода, ацетилен — имеют различные коэффициенты адсорбции на цеолитах. Самый низкий коэффициент адсорбции у Og, поэтому величина адсорбции СОз определяет продолжительность цикла работы адсорбера и его размеры. Наиболее эффективно очистка воздуха от двуокиси углерода протекает на цеолите NaX. [c.457]

Благодаря тонкой высокопористой структуре цеолиты способны при пропускании через них воздуха хорошо улавливать содержащиеся в нем пары воды, двуокись углерода и углеводороды (ацетилен, продукты разложения масел и др.). Процесс очистки воздуха от этих примесей происходит при положительных температурах. Проведенные во ВНИИКИМАШ Н. Ф. Катиной и И. Я. Ардашниковым исследования цеолитов показали их полную пригодность для одновременной осушки и очистки воздуха от указанных выше примесей в установках высокого и среднего давления. Для использования рекомендован цеолит NaX. Высота слоя адсорбента равна 1500 мм. Температура поступающего воздуха 20 °С . Объемная скорость потока воздуха через адсорбент в рабочих условиях должна быть не более 0,05. г1 мин-сл ). Время защитного действия 10—20 ч. Достигается осушка воздуха до точки росы —70 °С, очистка от двуокиси углерода—до остаточного содержания не более 1,5 m im и полная очистка воздуха от углеводородов (ацетилена и др.). Процесс регенерации продолжается от 2 до 5 ч и производится очищенным воздухом или азотом при температуре выхода из блока очистки [c.417]

Одновременно с сероводородом, из газа можно удалить двуокись углерода, однако присутствие последней в углеводородном газе снижает активность цеолито по сероводороду иа 5—10%. Очистка газов на цеолитах от примесей является очень глубокой. Так, в пропане остаточное содержание соединений серы после очистки на цеолитах составляет 0,0042 г/м , а двуокиси углерода 0,0091 г/м . Для удаления из природного газа меркаптанов, сульфидов, дисульфидов, тиофена и других в качестве адсорбента применяют цеолит КаХ. Синтетические цеолиты способны адсорбировать 15—20% тиофена. Адсорбционная емкость цеолита МаХ по зтилмеркаптану при 25 °С составляет 0,13 г/г. [c.45]

Самоочистка производится в несколько этапов. Сначала сдроссели-рованный и нагретый до 400° воздух регенерирующим потоком пропускается через адсорбент одного из баллонов. При этом десорбируется практически вся влага и двуокись углерода. Затем производится охлаждение адсорбента этим же сдросселированным, но ненагретым воздухом. При охлаждении в лобовом слое адсорбируется влага и в остальнод слое СОа в количестве, соответствующем парциальному давлению СОз в воздухе при 1 атм. Таким образом, первый этап самоочистки связан с частичной активацией цеолита в одном из баллонов блока очистки, второй осуществляется путем адсорбционной очистки воздуха высокого давления па частично отрегенерированном цеолите, последующем его дросселировании, нагреве и использовании в качестве регенерирующего газа для проведения обычной регенерации цеолита во втором баллоне. В случае необходимости аналогично проводят и третий этап самоочистки. [c.221]

Кроме воды во многих промышленных газах содержатся в качестве примесей такие нежелательные вещества, как двуок . и окись углерода, сероводород и др. Выбором типа цеолита и со ответствующих условий процесса можно удалить из газового по тока одновременно в одном адсорбере примеси вместе с водой. Этот процесс получил название соадсорбции и широко используется в промышленности. Он легко осуществим на синтетических цеол i-тах. Так, им пользуются [5941 для осушки и очистки этилена, идущего на полимеризацию в полиэтилен. Одноступенчатая адсорбция в неподвижном слое гранулированного цеолита СаА позволяет уменьшить содержание углекислоты в этилене от 3 до 0,0001 % при одно- [c.175]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология