Электроискровое легирование

Разработан метод электроискрового легирования хромистых сталей и титана катодными присадками палладия, [c.52]

Для улучшения захвата материала валками применяют наплавку их поверхности электроискровым легированием, что обеспечивает получение плитки толщиной 7—10 мм и выход ее 30—50 %, Производительность валковых прессов по товарному продукту составляет 8—13 т/ч, а одной грануляционной установки (прк 3—4 работающих прессах) 30—60 т/ч. [c.148]

В связи с выходом работы [102] по изучению закономерностей формирования упрочненного слоя в процессе электроискрового легирования, структуры и свойств покрытий, освещающей также технологию и оборудование для осуществления этого процесса, ограничимся рассмотрением лишь отличительных особенностей электрофизического способа поверхностного легирования, основателями которого являются Б. Р. Лазаренко и Н. И. Лазаренко. [c.158]

В процессе электроискрового легирования различают три этапа сближение, контакт и расхождение электродов. [c.158]

Исследования показали, что формирование покрытия и его качественных характеристик происходит в результате суммарного действия физико-химических процессов на всех этапах. Однако в зависимости от сочетания материалов электродов и режимов обработки процессы, происходящие на одном из этапов, могут оказывать превалирующее влияние на весь ход электроискрового легирования [102]. [c.158]

Рис. 104. Принципиальная электрическая схема установки для электроискрового легирования [53]

В настоящее время опытным заводом НИИ прикладной физики (г. Кишинев) выпускаются компактные маломощные установки, позволяющие наносить различные металлы и сплавы на токопроводящую основу. Все применяемые для электроискрового легирования установки состоят из понижающего трансформатора, выпрямителей, конденсаторов и приспособлений для коммутации цепи разрядного контура вибрационного или вращающегося типа. [c.159]

Принципиальная электрическая схема (рис. 104) установок различных конструкций и назначений остается неизменной. На обкладках конденсатора вначале накапливается электрическая энергия, которая затем мгновенно освобождается между электродами. Пробой газового промежутка происходит периодически при сближении электрода с деталью, которое в показанном на рис. 104 варианте осуществляет электромагнитный вибратор. Опыт показал, что качество (сплошность, шероховатость) и толщина покрытий зависят от режима и механизации процесса электроискрового легирования. При работе с ручным вибратором качество легированного слоя во многом зависит от навыков и опыта оператора. Различают так называемое чистовое и грубое легирование. Чистовое легирование производится с применением небольших токов короткого замыкания (до 10—15 А), при этом достигается наименьшая шероховатость упрочняемой поверхности (до 7 класса) при небольшой толщине покрытия (0,1 мм). Грубое легирование характеризуется током короткого замыкания 15—20 А, толщиной покрытия до 1—3 мм при высокой шероховатости поверхности (2—4-й классы). [c.159]

Основной отличительной особенностью электроискрового поверхностного легирования от ранее рассмотренных способов является весьма малая доля диффузионного взаимодействия при формировании покрытия. У электроискрового легирования много общего с другими противоестественными способами получения покрытий (газоплазменным, плазменным, детонационным), которые освещены в работе [83] и в данном случае не рассматриваются. [c.161]

Однако после выбора оптимальных режимов нанесения и механизации процесса электроискровое легирование может получить еще более широкое применение в ряде отраслей машиностроения, так как покрытия из металлов и твердых сплавов имеют большую прочность сцепления с материалом основы, а простота технологии и оборудования делает способ общедоступным. [c.161]

Влияние режимов обработки на формирование упрочненного слоя при механизированном электроискровом легировании/Н- П. Коваль, Е. А. Зайцев, [c.219]

Необходимо отметить, что наряду с изложенными методами для повышения износостойкости режущего и металлообрабатывающего стального инструмента его покрывают карбидом вольфрама или сплавами ШС—Со электроискровым легированием [338—390]. В последнее время этот метод находит широкое практическое применение и является, как и метод детонации, очень перспективным. [c.121]

Для решения этой задачи большое значение приобретает разработка оптимальных методов поверхностного легирования, таких, как термодиффузионная обработка, электроискровое легирование, ионная имплантация, электронно-лучевая обработка, которые позволяют обрабатывать поверхности, непосредственно соприкасающиеся с рабочими средами, расширяют возможности и эффективность использования катодных покрытий. Перспективным методом поверхностного легирования металлов и сплавов является ионная имплантация. Она позволяет регулировать толщину легированного слоя, концентрацию вводимых компонентов, их распределение по глубине за счет изменения энергии и рпзы внедрения. Толщина имплантированного слоя в зависимости от энергии может составлять от 0,1 до 3 мкм. Изменение коррозионной стойкости после ионной имплантаций происходит за счет обеспечивания пассивного состояния при имплантации металлами, разупрочнения структуры, приводящего к повышению сродства поверхности к кислороду, изменения дефект-но сти решетки. При этом важно, что для повышения защитных свойств вводимый элемент может образовывать с защищаемым металлом или сплавом метастабильный твердый раствор внедрения или замещения в широком диапазоне концентраций. [c.73]

Повышение пассивируемости и коррозионной стойкости нержавеющей стали Х18Н10Т методом электроискрового легирования поверхности/Г.П. Чернова, Н.Д. Тамашов, Т.А. Федосеева и др. - Защита металлов. 1984, № 6, с. 872. [c.209]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология