Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Выпарной аппарат как объект регулирования

    Для правильного протекания технологического процесса в однокорпусном выпарном аппарате необходимо регулировать следующие параметры концентрацию, уровень раствора в аппарате, давления греющего и вторичного паров. При этом, как и в любом сложном тепловом объекте, существует внутренняя связь между регулируемыми физическими параметрами. Поэтому нарушение режима и вступление в работу одного из регуляторов (из-за отклонения какой-либо регулируемой величины) естественно приводит к изменению других регулируемых величин и, следовательно, включению в работу других регуляторов. Более того, имеется следующая характерная особенность аппарата для выпарки электролитической щелочи как объекта регулирования любые возмущения, независимо от того, по какому каналу они поступают, вызывают изменения всех регулируемых величин. Последнее объясняется наличием значительной температурной депрессии, вследствие чего изменение концентрации приводит к изменению полезной разности температур по корпусам п перераспределению тепловых потоков. [c.173]


    Выпарной аппарат представляет собой достаточно сложный тепловой объект регулирования, имеющий внутренние связи меноду отдельными регулируемыми параметрами. В процессе работы выпарной установки (ВУ) возникают различные внепшие и внутренние возмущения, нарушающие нормальный режим ее работы. Для многокорпусных выпарных установок (МВУ) хлорных заводов характерны следующие возмущения изменение концентрации и температуры поступающей на выпарку электролитической щелочи (ЭЩ) изменение давления и температуры греющего пара изменение расхода сокового (вторичного) пара в теплообменники изменение вакуума изменение коэффициента теплопередачи из-за засоления поверхностей нагрева греющей камеры, и т. д. [c.190]

    Динамические свойства выпарного аппарата как объекта регулирования по каналу концентрации зависят от принятой схемы регулирования уровня и концентрации. При воздействии регулятора уровня на приток раствора коэффициент передачи в случае возмущения но теплу меньше, а в случае возмущения по концентрации и расходу больше, чем при воздействии регулятора уровня на сток раствора. Указанное различие в значениях передаточных коэффициентов тем больше, чем больше разность между концентрациями входящего и выходящего растворов. [c.193]

    Несмотря на кажущуюся простоту процесса выпарки, выпарной аппарат представляет собой достаточно сложный тепловой объект регулирования, имеющий несколько регулируемых участков. [c.173]

    Рассмотрим концентрирующее выпаривание, которое осуществляется на многокорпусной выпарной батарее, состоящей из шести корпусов пленочного типа (см. рис. 1Х.2). Последний корпус включает два параллельно работающих аппарата. Особенность схемы — установка перед последним корпусом батареи промежуточной емкости 4. Схема автоматизации установки построена по принципу подавления возмущений параметров входных потоков перед объектом и регулирования выходной величины — концентрации упарен- [c.138]

    Если концентрация средних щелоков почему-либо стала ниже заданной, уменьшается отбор средних щелоков из третьего корпуса I/. Уменьшение отбора вызовет повышение уровня раствора в третьем корпусе, что в свою очередь приведет к срабатыванию регулятора уровня 4, который несколько прикроет регулирующий клапан 4 , установленный перед третьим корпусом V. Уменьшение проходимости регулирующего клапана 4" вызовет повышение уровня раствора во втором корпусе IV. Когда изменение уровня превысит величину зоны нечувствительности прибора 3, последний подаст сигнал на прикрытие регулирующего клапана 3". Срабатывание клапана 3" приведет к повышению уровня раствора в первом корпусе ///.Когда изменение уровня в первом корпусе превысит величину зоны нечувствительности прибора 2, регулирующий клапан 2" получит сигнал на уменьшение подачи щелочи. Если концентрация отбираемых средних щелоков окажется выше заданной, цепочка взаимодействия регуляторов через объекты регулирования останется прежней, но ре-гулипующие клапаны последовательно получат сигналы на увеличение подачи щелочи. Аналогично происходит работа регулятора выпарного аппарата X с принудительной циркуляцией. [c.253]


    Принимая среднее значение постоянной времени выпарного аппарата по каналу концентрации = 30 мин, а передаточный коэффициент объекта = 0,75, получим значение 2,65. В этом случае остаточная неравномерность регулируемой величины Стстат. изменении нагрузки аппарата лишь на 30% для средних щелоков составит около 25, а для каустической соды — примерно 35 г/л NaOH. Такое отклонение регулируемой величины в аппарате окончательной упарки, как правило, недопустимо. Следовательно, П-регулятор можно использовать на АПЦ только при более стабильной нагрузке аппарата или уменьшением степени зат хания процесса ф ниже 0,75, снижая тем самым также качество процесса регулирования. [c.209]

    Выпарная установка непрерывного действия является объектом многосвязанного регулирования. Схему и параметры САР ВУ можно выбрать, основываясь на методе ограниченного синтеза системы. Суть этого метода заключается в совместном математическом моделировании объекта и регулирующей части системы, задаваемой в виде множества вариантов, отличающихся по своей структуре и параметрам [61]. Искомой частью САР является регулирующая часть системы, состоящая из средств автоматического контроля и регулирования (измерительные приборы, регуляторы, преобразователи и др.) и вспомогательного оборудования (клапаны, насосы, эжекторы и др.). Если в процессе синтеза САР ВУ, как и любой производственной установки, возникает необходимость улучшения динамических свойств основных технологических процессов или создания возможности применения более эффективных методов и средств контроля регулируемых величин, основное оборудование (аппараты, подогреватели и конденсатор) также может претерпеть некоторые изменения. [c.169]


Автоматизация хлорных производств Издание 2 (1975) -- [ c.190 ]

Автоматизация хлорных производств Издание 2 (1975) -- [ c.190 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Объект регулирования



© 2026 chem21.info Реклама на сайте