Очистка подложек нагреванием

Метод химического осаждения из газовой или паровой фазы. Это химический процесс, в результате которого алюминий осаждается из разложившихся соединений алюминия. Алкил газ (такой, как диэтил-гидрид алюминия, точка кипения 55— 56° С) вводят в рабочую камеру после очистки в смеси с инертным газом, таким как аргон или азот. После разрушения гидрида при нагревании (180° С) алюминий осаждается на подложку. Толщина слоя от 0,075 до 2,5 мм для различных материалов. Покрытие, полученное этим способом, эластичное, блестящее, с хорошей адгезией. [c.402]

Очистка подложек нагреванием. Эффективным методом очистки неглазурованной керамики является отжиг при высокой температуре (1000°С), Стекла и глазурованная керамика также могут нагреваться, но до меньших температур. Если позволяет их геометрия, они могут быть также отожжены в газовоздушном пламени. В этом случае происходит удаление поверхностных загрязнений, если пламя сообщает достаточную анергию для десорбции поверхностных молекул. Загрязнения из органических материалов окисляются и удаляются в виде летучих составляющих. Поскольку пламя содержит ионизованные частицы, которые на поверхности рекомбинируют, то выделяющаяся энергия способствует удалению адсорбированных молекул. Подобный механизм действует и при очистке тлеющим разрядом [58]. Важно, однако, подобрать соответствующую газовую смесь и предупредить таким образом неполное сгорание, которое может привести к осаждению сажи на поверхиость подложки. Бели температура слишком высока, то это может вызвать коробление или расплавление подложки. Неоднородный нагрев также вреден, так как может вызывать напряжения и последующее растрескивание подложки. Нильсен на стеклянных образцах с пленками из пермаллоя исследовал чистоту поверхности, получаемую различными обработками [107]. Мерой чистоты, получаемой перед осаждением пленки, служил метод царапин. Усилие, прикладываемое к титановому зонду и требующееся для получения царапины на поверхности, служило качественным индикатором чистоты. Было найдено, что наиболее чистые поверхности имели стекла, расплавленные в платиновом тигле в вакууме. Нагрев в высоком вакууме может применяться также при очистке поверхности кремния. Механизм удаления включает образование летучей моноокиси кремния согласно S1O2 + 51 = 2SiO, Для получения атомарно-чистых кремниевых поверхностей требуется по меньшей мере температура 1280° С [108]. [c.540]

Весьма эффективными являются также промежуточные адгезионные слон, получаемые на металле из раствора полимеров [67, 68]. Процесс получения изделий литьем под давлением при использовании подслоев из полимерных растворов включает операции очистки арматуры от загрязнений (предпочтительна механическая очистка), нанесения на нее раство.ра полимера, нспаренпя растворителя, нагрева арматуры до температуры, превышающей температуру плавления материалов подслоя и адгезива, установки арматуры в форму и заливки ее расплавом. Промежуточный слой при этом наносят на поверхность арматуры в виде иленкп толщиной 0,1 —1,5 мкм из 0,5—2%-ного раствора полимера, содержащего в составе макромолекул амидные группы. При формированип подслоя природа применяемого растворителя и концентрация раствора не оказывают существенного влияния на адгезионную прочность. Растворитель должен быть химически инертным по отношению к подложке, легко удаляться из подслоя при нагревании, а раствор полимера в нем с целью увеличения площади фактического контакта должен иметь минимальную вязкость. Этим объясняется необходимость использования разбавленных до ,1—2% (масс.) растворов. [c.124]

Исследуемый образец помещался в установку на подложку из поликристаллической окиси алюминия. После достижения максимальной разряженности (Ю —10 мм рт. ст.), включался нагреватель и температура поднималась до величины, позволяющей проводить вакуумную очистку жидкой капли от окислов и легколетучих металлических примесей. При максимальной температуре образец выдерживался, как правило, в течение 2—3 часов, после чего проводились измерения а при охлаждении и нагревании. Образец фотографировался фотокамерой ФК 18X24 с объективом И-37. Коэффициент увеличения в экспериментах составлял величину 4,5378. Для получения плоскопараллельного пучка света использовались конденсор, смотровые окна были изготовлены из оптического кварца, осветитель представлял собою фотовспышку ФИЛ-11. Обмер снимка капли проводился на универсальном микроскопе УИМ-21 методом, предложенным в работах [27, 29] с использованием таблиц Башфорта и Адамса. Если исходить из суммарной ошибки измерения плотности и поверхностного натяжения, получаемой только из измерений снимка капли, то она не превышает 0,4% по и 0,6% по а. Однако из-за неучтенных погрешностей (нечеткость при обмере и др.) общая ошибка увеличивается до 1,5% при определении й и 2,5% —для сг. Косвенно этот вывод подтверждается сравнением данных по (1, определенных методом большой капли и, например, пикнометрически или методом проникающего излучения [5, 12, 13]. [c.35]

Очистка масок. Все маски, независимо от материала, из которого они изготовлены и технологии их получения, перед использованием необходимо подвергать тщательной очистке и контролю. Частицы пыли, волокна или отходы, образующиеся в результате меха (пческой обработки, могут привести к образованию разрывов в иапылетюм рисунке микросхемы. Загрязнения поверхности, в частности, масляные, жировые пятна или другие органические вещества в процессе нагревания маски могут испаряться н конденсироваться на подложке, что может служить причиной плохой адгезии пленки к подложке. Обычные способы очистки масок сострят из обезгаживания или обработки ультразвуком в органических растворителях или водных моющих растворах. [c.564]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология