Экспериментальная часть Напряжение разложения

Напряжение разложения может быть вычислено и теоретически из свободных энергий и теплоемкостей всех компонентов, участвующих в процессе. Нужно подчеркнуть, что экспериментально измеренное напряжение разложения никогда не бывает выше этой теоретической величины. Поэтому считают, что никакие явления перенапряжения, анодного пассивирования и т. п., повидимому, не имеют места в расплавах. Это объясняют большой скоростью всех процессов при высоких температурах. Наоборот, очень часто измеренное напряжение разложения оказывается значительно ниже теоретического. Иными словами, при электролизе расплавов имеет место деполяризация. Она обусловлена растворением катодно выделенного металла в электролите и обратным взаимодействием продуктов электролиза. [c.593]

Сульфидная коррозия в дымовых газах наблюдается при концентрациях сероводорода 0,01—0,2 %. Зондирование топочного пространства показало, что в неблагоприятных случаях вблизи поверхности экранов пылеугольных котлов содержание кислорода снижается с 2,0 до 0,2 %, а содержание оксида углерода и сероводорода увеличивается с 2,6 до 8,2 и с 0,013 до 0,066 % соответственно [21. При этом наблюдалось увеличение скорости коррозии труб из стали 12Х1МФ с нескольких десятых до 5—6 мм/год. В результате коррозии происходит существенное утонение стенки труб с огневой стороны, что приводит к их разрыву (из-за соответствующего роста напряжений) через 23—24 тыс. ч эксплуатации. Сероводородная коррозия сопровождается образованием на поверхности труб из перлитных сталей двухслойной пленки, наружная часть которой состоит из оксида железа РваОз, а внутренняя — из сульфида железа РеЗ. Влияние сероводорода увеличивается при повышении температуры до 550 °С, а затем уменьшается из-за его разложения (рис. 12.2). Скорость сероводородной коррозии возрастает линейно с увеличением концентрации сероводорода в дымовых газах (рис. 12.3). Экспериментально обнаружен линейный рост концентрации сероводорода в топочных газах при увеличении соотношения СО (СО + СО ). Отрицательное воздействие сероводорода проявляется не только в усилении коррозии металлических поверхностей, но и в постепенном разрушении защищающего их огнеупорного (в частности, хромитового) слоя, который наносится на экран нижней радиационной части (НРЧ) котлов. [c.222]

Локальные поля имеют случайное направление, а направление магнитного момента каждой частицы совпадает с направлением этого поля. Упрощенно можно считать, что в отсутствие внешнего поля, т. е. в нена-магниченной суспензии, направления магнитных моментов всех частиц распределены поровну между тремя осями координат (х, у, г). Из трети частиц, ориентированных своими моментами вдоль какой-либо оси, половина (шестая часть всех частиц) направлена вдоль этой оси, а другая половина имеет встречное направление и каждая из них равна Л/ / 6. Намагниченность суспензии М является вектором, который может быть разложен на параллельные осям координат компоненты М, М, М. Каждая из трех компонент намагниченности и их векторная сумма М в ненамагниченной суспензии равны нулю. Систему координат можно выбрать так, чтобы одна из координатных осей, например ось г, совпадала с направлением внешнего по тя. Тогда процесс намагничивания в этом поле в его начальной стадии (в слабом поле) сведется к изменению ориентации тех двух третей всех частиц, которые были ориентированы своими магнитными осями вдоль координат хи у. Направление осей магнитных диполей должно совпадать с направлением действующего на них суммарного поля с напряженностью Н = Не + Нь. Нетрудно установить, что при наличии слабого внешнего поля синус угла между направлением суммарного поля и первоначальной ориентацией осей частиц приближенно равен отношению Н / Я . Этой же величине равен косинус угла между направлением внешнего поля и новым направлением ориентации упомянутых двух третей всех частиц, поэтому намагниченность суспензии М (проекция магнитных моментов всех частиц на направление внешнего поля) равна (2/3) М (Я / Я ). Магнитная восприимчивость, экспериментально определяемая как величина Л/ / Я ,, равна в таком случае (2/3) М / [c.660]

Если конформационное изменение индуцируется силами связывания субстрата, как в механизмах индуцированного соответствия или деформационном, индуцирующие силы не могут быть одинаковыми для различных субстратов, и маловероятно, однако не невозмоншо, что для различных субстратов будут наблюдаться одинаковые скорости. Если конформационные изменения являются спонтанными и происходят в присутствии и в отсутствие субстрата, они не могут вызвать индуцирования напряжения, но могут привести к изменению каталитически активной конформации фермента. Такое изменение может произойти со скоростью, которая не зависит от природы субстрата. В связи с этим интересно отметить, что максимальные константы скорости для реакции родственных субстратов, которые, как полагают, имеют общее ковалентное промежуточное соединение, часто точно не эквивалентны. Такие малые различия, которые, по-видимому, превышают экспериментальные ошибки определения констант скоростей, наблюдаются, например, для папаина и ацетилхолинэстеразы [59]. Причиной этого может быть либо то, что разложение общего ковалентного промежуточного соединения не является полностью лимитирующей стадией, так как скорость его образования вносит известный вклад в наблюдаемую максимальную скорость реакции, или то, что скорость определяющей стадией является конформационное изменение, а не разложение промежуточного соединения. [c.244]

Здесь То — температура плавления Ъ, I — ширина и длина пластины Я — радиус цилиндра дф — эффективный коэффициент черноты, д — поток излучения, иадаюш,ий на кристалл из окружающей среды. Для вычисления д использовались результаты измерений температуры формообразователя и экранов. Результаты расчета сравнивались с экспериментальным распределением температуры но оси кристалла. Найденные температурные ноля подставлялись в уравнения изотропной термоупругости, которые решались численно. При этом выражения для термоупругих напряжений в средней части длинных и тонких кристаллов были получены в явном виде с помощью метода сращиваемых асимптотических разложений. [c.91]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология