Обратная линейная дисперсия

Таблица 8.1-3. Влияние плотности штрихов (плоская решетка) и порядка на обратную линейную дисперсию (при 230 нм) для однометрового монохроматора (а — Р = 14,74°)

Обратная линейная дисперсия, к/мм. ... — [c.115]

Спектральный прибор характеризуется линейной дисперсией, которая представляет собой отношение линейного расстояния в миллиметрах между двумя спектральными линиями на фотографической пластинке к разности их длин волн. Значительно удобнее пользоваться ее обратной величиной йХ/сИ, называемой обратной линейной дисперсией. Ее физический смысл определяется интервалом длин волн спектра, который приходится на 1 мм фотографической пластинки. [c.652]

Рабочий диапазон дифракционной решетки 1800 штр/мм в спектре первого порядка 190—500 йм с обратной линейной дисперсией 0,27 нм/мм. На участок спектра первого порядка 380 —500 нм налагается спектр второго порядка 190—250 нм с дисперсией [c.692]

Пример 2. Вычислить расстояние I между линиями основного компонента сплава и определяемой примеси на фокальной поверхности спектрального прибора, если обратная линейная дисперсия прибора D = lSA/лл, а длины во.тн линий соответственно равны 4104 и 4102 А. [c.110]

Установка ДФС-40 предназначена для анализа сложных сплавов на легирующие элементы и примеси, включая серу, фосфор и углерод. Рабочий диапазон спектра 170—550 нм обеспечивается двумя вогнутыми (Я = 1,5 м) дифракционными решетками с 1800 и 2400 штрих/мм, работающими одновременно. Соответственно обратная линейная дисперсия равна 0,36 и 0,27 нм/мм. Полихроматор имеет два оптических входа для двух неподвижно установленных штативов, работающих попеременно от двух источников (ИВС-2 или ИВС-6 и УГЭ-4) возбуждения спектра, и 40 приемных каналов. [c.71]

Одной из основных характеристик призмы является обратная линейная дисперсия — dkl dl, которая показывает, сколько нанометров укладывается на расстоянии 1 мм в фокальной плоскости собирающей линзы. Обратная линейная дисперсия дает определенное представление о разрешающей способности спектральных приборов. [c.236]

Таблица 8.1-2. Изменение обратной линейной дисперсии (ОЛД) в зависимости от длины волны. Плоская решетка 3600 штрих/мм с фокусным расстоянием 1 м и величиной а — Р = 14,74°

Обратная линейная дисперсия улучшается при увеличении фокусного расстояния и числа штрихов решетки. [c.31]

Характеристики оптической диспергирующей системы в части спектрального выделения характеризуются обратной линейной дисперсией и практическим разрешением. Обратная линейная дисперсия dX/dx (нм/мм)—это способность диспергирующей системы развертывать спектр в фокальной области. Чем лучше обратная линейная дисперсия, тем меньше ее величина. Дифференцирование уравнения решетки, выраженного через угол дифракции /3, приводит к уравнению [c.31]

Чтобы улучшить обратную линейную дисперсию, т. е. уменьшить ее значение, необходимо увеличить, по крайней мере, один из трех параметров к, п или /. Исходя из соображений размера и термической стабильности, большинство производимых дисперсионных систем имеет фокусное расстояние порядка 0,5-1 м. Следовательно, необходимо увеличивать плотность штрихов и использовать порядки больше единицы. Влияние этих двух параметров показано в табл. 8.1-3. [c.31]

Обратная линейная дисперсия, нм/мм 0,382 0,235 0,157 0,061 [c.32]

В УФ-области спектра теоретическое разрешение всегда меньше, чем 2пм. Большинство современных решеток обеспечивает теоретическое разрешение лучше 1 пм. Вторым фактором, влияющим на практическое разрешение, является спектральная полоса пропускания дисперсионной системы. Спектральная полоса пропускания есть результат произведения обратной линейной дисперсии на результирующую спектральную ширину щели. Эта ширина равна или ширине выходной щели, или ширине изображения входной щели, в зависимости от того, которое из двух больше. Ширины щели обычно составляют 10-100 мкм. Некоторые примеры спектральной полосы пропускания приведены в табл. 8.1-5. [c.33]

Каково влияние плотности штрихов решетки на обратную линейную дисперсию [c.38]

Основным отличием от атомно-эмиссионной спектрометрии является тот факт, что практическое разрешение менее существенно в ААС. Обычно используют короткие фокусные расстояния (0,25-0,5 м), решетки 1200-1800 штрих/мм и ширины щелей 0,2-1 мм. Полезный спектральный диапазон составляет 180-860 нм, а обратная линейная дисперсия —от 0,1 до 2 нм/мм. [c.48]

Для анализа используют вакуумный квантометр с обратной линейной дисперсией 0,3—0,8 нм/мм, продувка штатива аргоном, скорость продувки [c.154]

Обратная линейная дисперсия, нм/мм (л = 300 нм) 0,55 0,15 [c.383]

Имеются специальные голографические решетки, обеспечивающие обратную линейную дисперсию во втором порядке 0,27 нм, 1м и примерно ту же яркость спектров. [c.383]

Обратная линейная дисперсия, нм/мм [c.384]

Обратная линейная дисперсия 1,536 нм/мм. [c.929]

Чаще используют понятие обратной линейной дисперсии [c.214]

В описаниях к спектрометрам для ультрафиолетовой и видимой областей обратную линейную дисперсию обычно выражают в ангстремах на миллиметр. Типичный интервал значений обратной линейной дисперсии — [c.214]

Обратная линейная дисперсия о [c.196]

Установка ДФС-51 предназначена для решения наиболее массовой задачи эмиссионного спектрального анализа в металлургической промышленности — экспрессного и маркировочного анализа простых и среднелегированных сталей, а также чугунов на содержание углерода, серы, фосфора и других элементов. В состав установки входят вакуумный полихроматор с решеткой 2400 штрих/мм (обратная линейная дисперсия 0,416 нм/мм, спектральный диапазон 175—340 нм, 24 выходных канала), источник возбз ждения спектра ИВС-6, ЭРУ-18, УВК Спектр 2-2 с печатающим устройством и стенд для очистки и осушки аргона. [c.71]

Обратной линейной дисперсией прнзмы определяется разрешающая сила и прибора, которая представляет собой отношение средней длины волны двух самых близких линий, разрешаемых данным прибором, к разности их длин волн. Две спектральные линии равной интенсивности считаются разрешенными, если дифракционный максимум одной из них находится против минимума другой линии (рнс. 71). [c.237]

Обратная линейная дисперсия зависит как от материала призмы, так и от конца спектра для данной призмы различна для длин волн в ИК- и УФ-областях. Поэтому выбор оптического материала для работы в той или иной части спектра определяется не только его прозрачностью, но также его преломляющими свойствами. По мере приближения к области максимального поглощения материала, из которого сделана иризма, показатель преломления возрастает (рис. 72), а следовательно, уменьшается обратная линейная дисперсия призмы н увеличивается разрешающая способность прибора, но при этом падает его светосила. Поэтому приборы с кварцевой оптикой пригодны для работы не выше > 600 нм, так как при больших длинах волн сильно возрастает обратная линейная дисперсия, хотя кварц прозрачен ие только в ультрафиолетовой части спектра, но также в видимой и ИК-области до 3,5 мкм. [c.237]

Наибольшее распространение при определении фосфора в шлаках имеет метод брикетирования без предварительного сплавления [543, 642, 666, 769, 852, 1079]. Спектральный прибор — вакуумный квантометр с обратной линейной дисперсией 0,3—0,8 нм/мм продувка штатива аргоном, скорость продувки 2 л/мин. Аналитическая линия Р 178,3 нм. В качество противоэлектро-да используют серебряный пруток диаметром 5—6 мм, заточенный на конус с углом при вершине, равным 90°. После каждого обыскривания противоэлектрод очищают жесткой волосяной кисточкой. Межэлектродный промежуток составляет 5 мм, проба — катод. Время обжига 20 сек. Продолжительность экспонирования 20 сек. Каждая проба обыскривается 3 раза. [c.119]

Спектрографы. В фотографических методах анализа широкое распространение получили призмениые спектрографы с кварцевой оптикой ИСП-28 и ИСП-30 (рабочая область спектра 200-600 нм). Они позволяют различать спектральные линии, отстоящие друг от друга не менее, чем на 0,03 нм. Если дисперсия спектрографов ИСП-28 или ИСП-30 оказывается недостаточной для тех или иных целей, применяют длиннофокусные призменные спектрографы, например, КС-55 или КСА-1. Их обратная линейная дисперсия в ультрафиолетовой области в 2,5-3 раза выше, чем ИСП-30. [c.384]

Рабочий диапазон 2000—6000 нм относительное отверстие 1 3 дифракционные решетки 1200, 600, 300, 100 штрих/мм обратная линейная дисперсия 0,8, 1,6, 3,2, 9,6 нм/мм фокусное расстояние объективов 600 мм 1400X1000X500 мм 300 кг [c.121]

Рабочий диапазон 200—2500 нм относительное отверстие 1 2,5 дифракционные решетки плоские 1200, 600, 300 штрих/мм обратная линейная дисперсия 2, 4, 8 нм/мм фокусное расстояние объективов 400 мм 91 ОХ X 385X415 мм 100 кг [c.121]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология