Контактный угол

Интерферометрическое определение контактного угла основано на измерении расстояний между кольцами Ньютона — максимумами интенсивности света, отраженного в канале Гиббса — Плато (см. рис. X—8). Поскольку толщины, отвечающие максимумам интенсивности, известны (см. рис. X—5), такие измерения позволяют рассчитать профиль канала Гиббса — Плато, а тем самым — контактный угол и натяжение пленки. [c.281]

В Контактный угол зависит от трех [c.60]

Метод основан на том, что если порошок погружается в жидкость, он смачивается, причем степень смачивания будет зависеть от интенсивности сил притяжения между жидкостью и порошком. Чем хуже смачивается порошок, тем больше контактный угол между ним и жидкостью и тем больше требуется жидкости,, чтобы покрыть гранулы порошка пленкой жидкости. Следовательно, чем хуже порошок смачивается жидкостью, тем больше будет объем осевшего порошка. [c.64]

Как видно из рис. 1.81, максимальные участки устойчивости для случая положительных перегрузок простираются до значения р = я. Применительно к каплям или пузырькам (см. рис. 1.78, а) это означает, что в точках пересечения интегральных линий (рис. 1.81) с пунктирной линией 1 контактный угол 6. = 0. С учетом (1.135) [c.89]

Неустойчивым состояниям жидкости внутри цилиндра отвечает дуга FH (см. рис. 1.84). Вдоль линии OIF контактный угол 0, = О, так что устойчивым осесимметричным состояниям жидкости в цилиндре ( перевернутый контейнер , рис. [c.91]

Метод скольжения, позволяющий определять контактный угол с точностью О, Г. [c.226]

Сила вязкости важна при течении в слое пленки, но пренебрежимо мала в области статической поверхности жидкости в резервуаре, в которой форма мениска определяется балансом силы поверхностного натяжения и гидростатического давления. Переход от статической поверхности к поверхности установившейся пленки происходит через искривленную в форме мениска поверхность. Поскольку установившаяся толщина пленки мала, то поверхность пленки должна быть полностью смачиваема и контактный угол должен быть равен нулю. Если К — радиус кривизны мениска в переходной области, то характерный линейный масштаб течения в этой области равен К. Следовательно, условие малости толщины пленки сводится к неравенству Ъf К. Течение в пленке можно считать почти параллельным поверхности пластины. [c.440]

Для определения постоянной кривизны мениска в переходной области воспользуемся условием на свободной поверхности, образующей нулевой контактный угол с твердой поверхностью (см. рис. 17.6). Это условие вытекает из равенства гидростатического давления капиллярному [c.442]

Катионы расположены в порядке их возрастающей поляризуемости. Так как обменная реакция между глиной и солями металлов обратима, результаты могут рассматриваться только как качественные. Тем не менее они указывают на то, что с ростом поляризуемости адсорбированного катиона начальный контактный угол возрастает и что на глине, обработанной солями свинца и ртути, он приближается к контактому углу для поверхности, обработанной лаурил-амииом. Это можно объяснить снижением свободной поверхностной энергии твердого тела в результате поляризации ионов и поверхность становится более нейтральной. [c.67]

Эта зависимость отличается от выражения для работы гомогенного зародышеобразования наличием множителя со скобками. Наличие этого множителя приводит к тому, что энергетический барьер образования зародышей на контактной поверхности оказывается меньше, чем при гомогенном образовании зародышей. Если угол смачивания будет равен, например 60°, энергетический барьер составит лишь около /б энергии гомогенного зародышеобразования если контактный угол равен нулю, системе вообще не приходится преодолевать какой-либо энергетический барьер. [c.353]

Не только затравочные кристаллы, но и многие другие твердые вещества ускоряют образование зародышей кристаллизации. Если контактный угол между кристаллическим осадком и поверхностью твердой частицы меньше 180°С, работа образования кристаллического зародыша на примеси меньше работы образования зародыша в объеме раствора и, следовательно, механические примеси будут увеличивать вероятность образования зародышей, [c.363]

Смачиваемость - это адгезия жидкости на поверхности твердого тела, т.е. образование малого контактного угла (<90°) между поверхностью жидкости и поверхностью твердого тела. В случае полного смачивания этот контактный угол равен 0°. [c.627]

На поверхности неорганических твердых веществ часто встречаются свойственные этим веществам нарушения структуры. Они вызываются присутствием на указанной поверхности иснов, загрязняющих данное вещество. Получить чистую поверхность весьма трудно и считать реальную поверхность гладкой можно в очень редких случаях. Адам (641 показал влияние шероховатости поверхности на величину контактного угла и продемонстрировал, что при передвижении капли по поверхности она имеет по фронту движения значительно больший контактный угол, чем с тыльной части. Он приписал наличие гистерезиса контактного угла вязкостному сопротивлению движению кромки жидкости на твердой поверхности. Поэтому термодинамические соотношения адгезии практически могут быть приложимы только к жидкостям, у которых имеется точное соответствие между чистой работой, затраченной на образование новой поверхности, и приростом свободной энергии, согласно уравнению (74). [c.63]

Если принять, что вода прошла ky см, то битум отступает до точки k(h — у) см. Сила, необходимая для расслоения, образуется в результате изменения свободной энергии при контактировании образца смеси с водой она равна 2nvyi os 0, где j — межфазовое натяжение между водой и битумом 6 — соответствующий контактный угол. Эта сила направлена против сил вязкости воды t]j и битума за вычетом сил тяжести для случая вертикального направления расслаивания. Уравнивая эти силы, получим [c.80]

Однако предположение k onst а широком интервале потенциалов для всех систем строго не выполняется. Непостоянство к связано с зависимостью от потенциала контактного угла на границе трех фаз ртуть/стекло/раствор. Этот эффект обусловлен электростатическим взаимодействием между ионными двойными слоями на границах стекло/раствор и ртуть/раствор. Стекло в водных растворах электролитов заряжено отрицательно. В связи с этим между стеклом и отрицательно заряженной поверхностью ртути имеет место отталкивание. Следовательно, в этих условиях отсутствует смачивание стекла ртутью и О 0°. В то же время при > О возникает эф( )ект прилипания ртути к стеклу, образуется хорошо определяемый контактный угол > 0°. Чем больше положительный заряд ртути, тем сильнее смачивание ею стекла, больше и, следовательно, согласно уравнению [c.160]

При условии Тдл < 2<т, т. е. избыточное натяжение пленки отрицательно (Ао-ц, < 0), образунэтся устойчивые пленки, находящиеся в равновесии с макрофазой. В этом случае между пленкой и каналом Гиббса-Плато образуется контактный угол в (рис. IX-3). Этот угол определяется соотношением [c.294]

Рис. 1Х-4. Зависимость интенсив- тать профиль канала Гиббса-Пла-ности / отраженЕюго монохрома- ТО, а, тем самым контактный угол тического света от толщины 0 и натяжение пленки.

Образец с припоем помещали в специальную установку, обеспечивающую нагрев, освещение и горизонтальное положение образца. Образец размером 40 X 40 X 3 из меди М1 был фрезерован по краям и правлен на прессе. В центре образца по стороне 40 X 40 снизу сверлили глухое отверстие для горячего спая термопары. Поверхность образца обрабатывали наждачным полотном (№ 280 перпендикулярно к направлению съемки), травлением (в 10%-ном водном растворе персульфата аммония) и полировкой. Перед загрузкой в печь поверхность образца обезжиривали и на нее помещали припой в виде компактного куска, объемом 64 и 300—400 мм флюса. При загрузке в печь образец укладывали на подложку из нержавеющей стали, расположенную на уровне съемки и нагретую до температуры пайки. Температуру образца замеряли хромель — алюмелевой термопарой. При температуре несколько ниже температуры начала плавления припоя включали кинокамеру и на секундомере фиксировали начало съемки. Контактный угол смачивания и линейный размер капли в процессе растекания определяли при проектировании кинопленки на экран (X 6). По времени, фиксированном на секундомере, и записи температуры определяли температуру в контакте медной пластины и припоя в различные моменты его растекания. Для исследования были выбраны три припоя РЬ (С-000), практически не взаимодействующий с медью и цинком, вытесняемым из реактивных флюсов 8п (ОВЧ-000)— способное к химическому взаимодействию с медью и контактно-реактивному плавлению с цинком припой П0С61 эвтектического состава (61% 8п, РЬ — остальное, Гпл = 183° С), слабее взаимодействующий с медью, чем олово. [c.81]

Температура начала смачивания меди припоями олова и П0С61 и начала их растекания зависела от применяемого флюса и температуры печи. Температура начала смачивания этими припоями с флюсом Прима П при нагреве печи на 70° С выше температуры плавления была несколько выше температуры их автономного плавления припой П0С61 смачивал медную пластину при 229° С, а олово — при 234° С (см. таблицу). В первые секунды после расплавления припоев и смачивания ими медной пластины растекания не происходило контактный угол смачивания капли припоя сначала даже несколько возрастал до значения 0а лишь спустя некоторое время происходило уменьшение контактного угла смачивания и растекание припоя (рис. 1 и 2). [c.82]

В данной работе было обнаружено явление повышения контактного угла смачивания Зп и РЬ после затвердевания, что, возможно, связано с переходом припоя из жидкого в твердое состояние. Заметное влияние иа кинетику смачивания и растекания припоев ПОС61, 5п и РЬ по меди оказывает шероховатость поверхности. При грубой обработке наждачным полотном поверхности меди, скорость уменьшения фиксируемого контактного угла смачивания меньше, чем на поверхности, подвергнутой травлению, несколько меньше и контактный угол и площадь растекания. На грубо обработанной поверхности вдоль рисок происходит интенсивное растекание легкоплавкой эвтектики 5п—РЬ—2п—Си (блестящей каймы), что, вероятно, связано с капиллярным эффектом. Такое растекание уместно назвать капиллярным. Контактный наблюдаемый угол при капиллярном растекании П0С61 по меди больше, чем при растекании этого припоя на относительно ровной (травленой) поверхности. Смачивание и растекание припоя П0С61 по меди с флюсом Прима III происходит медленнее и с большим контактным углом по полированной поверхности, чем по травленой или грубо зачищенной. [c.84]

Сеченне иилиндрич. тонкой пленки, находящейся в контакте с мениском объечшой фазы. Л-толщина пленки, Л радиус, О-контактный угол, капиллярное давление в канале Гиб а Плато. [c.607]

Влечина k называется коэффициентом смачивания. Очевидно, что -1 < /е < 1. Если контактный угол 6 = 0, то = 1 и жидкая капля полностью растекается пб твердой поверхности. В этом случае поверхность называется полностью смачиваемой. При О < й < 1 имеем О < 6 < п/2. В этом случае говорят, что поверхность твердого тела смачиваемая, точнее, нужно говорить, что она частично смачиваемая. Другой предельный случай соответствует fe = —1, т. е. 0 = я. При этом твердая поверхность называется полностью несмачиваемой. Из (17.8) следует, что этот случай соответствует большим значениям близким к S. При -1 < < О имеем я/2<6<л. В этом случае говорят, что поверхность несмачиваемая. Примером может служить капля ртути на стекле, для которой угол контакта 0 140 °. [c.436]

Две чистые жидкости редко образуют стабильные эмуль сии — почти всегда необходимо присутствие третьего вещества Это, конечно, всегда происходит в экстракционных процессах Третье вещество обычно понижает межфазовое натяжение ме жду стабильностью эмульсии и степенью понижения межфазо вого натяжения существует по крайней мере качественная связь Особенно сильно понижают межфазовое натяжение и повы шают стабильность эмульсий поверхностно-активные вещества, адсорбирующиеся на поверхности раздела жи.п кость — жидкость. Присутствие твердых частиц способствует повышению стабильности эмульсий. Если контактный угол между твердыми частицами и двумя жидкостями имеет конечную величину, то твердые частицы накапливаются на поверхности раздела при [c.493]

Тепло- и массообмен Теплотехнический эксперимент (1982) -- [ c.88 ]

Экспериментальные методы в химии полимеров - часть 2 (1983) -- [ c.2 , c.226 ]

Экспериментальные методы в химии полимеров Ч.2 (1983) -- [ c.2 , c.226 ]

Свойства и химическое строение полимеров (1976) -- [ c.98 , c.99 ]

Свойства и химическое строение полимеров (1976) -- [ c.98 , c.99 ]

Трение и смазка эластомеров (1977) -- [ c.105 ]

Введение в мембранную технологию (1999) -- [ c.174 , c.175 , c.177 , c.182 , c.209 , c.363 , c.364 ]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология