Угол смачивания контактный

Краевой угол смачивания определялся скоростным методом [11. Пленка помещалась на горизонтальную поверхность между осветителем и отсчетным микроскопом. Сверху с помощью пипетки на пленку наносилась капля воды размером 0,03 мл. Изображение капли фокусировалось в микроскопе, после чего измерялись ее диаметр (2г) и высота к. Вычисление контактного угла проводится по известным формулам [c.517]

Степень смачивания жидкостью поверхности твердого тела характеризуется контактным углом 0 (рис. 2-103) для капли этой жидкости на данной поверхности. Если контактный угол меньше 90°, считается, что жидкость смачивает поверхность (рис. 2-103,а) если этот угол больше 90°, жидкость считается несмачивающей (рис. 2-103,6). При абсолютном смачивании контактный угол равен нулю, а при полном не-смачивании — 180°. [c.158]

Эта зависимость отличается от выражения для работы гомогенного зародышеобразования наличием множителя со скобками. Наличие этого множителя приводит к тому, что энергетический барьер образования зародышей на контактной поверхности оказывается меньше, чем при гомогенном образовании зародышей. Если угол смачивания будет равен, например 60°, энергетический барьер составит лишь около /б энергии гомогенного зародышеобразования если контактный угол равен нулю, системе вообще не приходится преодолевать какой-либо энергетический барьер. [c.353]

При этом гидрофильными телами называются тела, имеющие контактный угол смачивания, меньший 90 , а гидрофобными — имеющие угол, больший 90°. [c.105]

В более гидрофильных волокнах влияние воды на величину Гст проявляется сильнее. Были сделаны попытки связать снижение Тст, вызванное присутствием воды, с изменением таких свойств волокна, как водопоглощение, контактный угол смачивания при натекании и количество воды, поглощенной в результате всасывания (табл. 31.4). [c.489]

При исследовании обработанных пластиковых поверхностей методом фотоэлектронной спектроскопии [26] хорошую клеточную адгезию связывают прежде всего с возникновением карбоксильных групп в результате окислительного воздействия обработки как физическими, так и химическими агентами. Такие данные были получены при обработке полистирола плазмой кислорода при очень коротких экспозициях или при обработке азотной кислотой. Контактный угол смачивания поверхности полистирола, обработанной плазмой кислорода, составлял 18—38°, а для необработанного полистирола он был равен примерно 90°. Первостепенную роль в этом процессе приписывают карбоксильным группам [26]. [c.43]

Известно [129], что если хранить стеклянную ровницу в атмосфере повышенной влажности, то она хуже смачивается эпоксидным связующим, а прочность полученного стеклопластика снижается. Водостойкость соединений полиэтилена снижается при длительном хранении в комнатных условиях подготовленного материала перед склеиванием [130]. Увеличение сроков хранения древесины перед склеиванием также снижает прочность соединений, причем контактный угол смачивания при этом возрастает [5, 131]. Снижение прочности соединений имеет место и при длительном хранении перед склеиванием [122, 41, 21] оксидированного алюми- [c.193]

Угол 0 — контактный угол между кристаллическим осадком и посторонней твердой поверхностью — соответствует краевому углу смачивания в системах жидкая фаза—твердая фаза. [c.154]

Конформационные и фазовые переходы привитых слоев. Температура является одним из основных термодинамических параметров, определяющим свойства поверхности. В связи с этим значительный интерес представляет исследование структуры привитых слоев, смачиваемости и адсорбционных свойств в зависимости от температуры. Особый интерес представляют т.н. термочувствительные покрытия, для которых какое-либо свойство (контактный угол смачивания, величина адсорбции и др.) претерпевает значительное изменение (скачок) в узком температурном интервале, что дает возможность дистанционного управления свойствами таких поверхностей путем изменения температуры. [c.218]

На рис. 14 приведена схема изменения V, I, I в процессе затекания припоя в зазор для случая, когда припой одновременно смачивает обе пластинки под углом 2 и входит в зазор (этап Т ). При этом образуется симметричный мениск припоя, который движется по зазору с постоянным углом смачивания, одинаковым как для нижней, так и для верхней пластины (этап тг). Вблизи выхода из зазора обнаруживается эффект увеличения контактного угла смачивания до значения из с одновременным уменьшением скорости заполнения зазора, что, по-видимому, обусловлено достижением припоем конца зазора и снижением вследствие этого капиллярного давления. Затем при образовании галтельного участка угол смачивания снижается до значения г)4. [c.52]

Температурный интервал активности флюса при пайке зависит от состава применяемого припоя, паяемого материала и времени выдержки при температуре пайки. Критерием активности флюса может быть площадь растекшейся дозированной порции припоя или его контактный угол смачивания. [c.150]

Контактный угол смачивания, градусы..... г/,У i [c.303]

Сразу же при расплавлении припоя наступает смачивание паяемой поверхности при этом контактный (неравновесный) угол смачивания за время тз уменьшается от я до из (рис. 48). В процессе продолжающегося нагрева до температуры пайки и последующего охлаждения до температуры затвердевания значение краевого угла смачивания не изменяется. При затвердевании растекшегося припоя его краевой угол увеличивается до значения 134, что вероятно, может быть обусловлено усадочными явлениями и увеличением поверхностного натяжения при переходе металла из жидкого в твердое состояние. [c.243]

Такие участки тормозят процесс затекания припоя. Вблизи выхода припоя из зазора контактный угол смачивания увеличивается, что обусловлено, по-видимому, снижением капиллярного давления при выходе жидкой фазы из зазора. На этой стадии затекания в условиях расширяющегося зазора и резкого снижения капиллярного давления формируется галтельный участок паяного соединения. С понижением температуры пайки длительность заполнения зазора и углы смачивания 2 и г51 возрастают. [c.246]

Сравнение кинетики заполнения вертикального зазора жидким припоем в различных условиях температурного контакта Мк и М показало, что при неизотермическом контакте и увеличении ширины зазора заметно возрастает контактный угол смачивания и. Применение менее активных флюсов также приводит к увеличению этого угла и снижению высоты подъема припоя. [c.247]

На время подъема припоя в зазор существенно влияет его смачивающая способность чем она больше, тем скорее заполняется зазор. Наименьший контактный угол смачивания меди при использовании флюса Прима 3 среди исследованных припоев имеет ПОС 61. Этот припой имеет максимальную среднюю скорость заполнения вертикального зазора [c.303]

Метод основан на том, что если порошок погружается в жидкость, он смачивается, причем степень смачивания будет зависеть от интенсивности сил притяжения между жидкостью и порошком. Чем хуже смачивается порошок, тем больше контактный угол между ним и жидкостью и тем больше требуется жидкости,, чтобы покрыть гранулы порошка пленкой жидкости. Следовательно, чем хуже порошок смачивается жидкостью, тем больше будет объем осевшего порошка. [c.64]

Смачиваемость - это адгезия жидкости на поверхности твердого тела, т.е. образование малого контактного угла (<90°) между поверхностью жидкости и поверхностью твердого тела. В случае полного смачивания этот контактный угол равен 0°. [c.627]

Существенным недостатком исследований, в данной области являлось то, что авторы выясняли влияние материалов на гидродинамику и маооопередачу (теплопередачу) без учета физических констант контактных устройств (тарелки, насадки) [I, 2, 7], либо изучали физические константы (шероховатость, твердость материала, краевой угол смачивания твердой поверхности жидкостью), не связывая их с работой маюсообменных аппаратов [3—10]. [c.96]

Смачиваемость и контактный угол. В связи с тем, что введение смазки в зону контакта при скольжении сильно изменяет фрикционные свойства пары трения, были проведены исследования [3, 13, 17] по выяснению степени смачивания различных поверхностей путем измерения контактного угла жидкости (обычно воды) на исследуемой поверхности. Говорят, что поверхность гидрофобна, если она отталкивает смачивающий агент (при этом контактный угол 0 имеет большое значение). Гидрофильная поверхность имеет сродство к воде, контактный угол 0 в этом случае имеет малые значения (см. рис. 5.14). Если уь, ysL и ys обозначают свободные энергии на [c.105]

Как видно из рис. 5.14 контактный угол 0 изменяется от 0° для случая полного смачивания и до некоторого значения меньшего 180° для случая несмачиваемых поверхностей. Ниже приведены значения 0 для поверхностей различных пластиков [13] [c.106]

Определение смачивания порошков водой, т. е. их гидро-фильность, причем определенное значение может быть получено даже в случае, когда контактный угол равен нулю . [c.296]

Контактный угол, обратимая работа адгезии или значение теплоты смачивания представляют собой физические величины, связанные с характеристиками смачивания в данной системе твердое тело — жидкость. Исследование каждой из них ограничено определенными условиями, и иногда их трудно экспериментально измерить. Например, измерения угла смачивания с целью установления различий во взаимодействии твердого тела с жидкостью бесполезны, если для жидкости все контактные углы равны нулю. Очень часто величины работы адгезии приходится рассчитывать из адсорбционных данных, которые трудно получить с большой степенью точности, особенно в области очень малых равновесных давлений или давлений, близких к насыщению. [c.298]

Некоторые авторы [25, 44] подходят к вопросу с чисто термодинамической точки зрения, используя представления Гиббса о поверхностной энергии раздела трех фаз, находящихся в контакте. Они считают, что в случае, когда контактный угол между кристаллическим осадком и поверхностью твердой частицы (соответствующей краевому углу смачивания для систем жидкость— твердое тело) меньше 180°, работа образования кристаллического зародыша на примеси меньше работы образования зародыша в объеме раствора и, следовательно, механические примеси будут увеличивать вероятность образования зародышей. [c.79]

Краевые углы, которые измерены при отклонении системы от состояния термодинамического равновесия, называются неравновесными. Иногда неравновесные краевые углы называют контактными, а термин краевой угол используют только для характеристики равновесного состояния при смачивании. [c.12]

Образец с припоем помещали в специальную установку, обеспечивающую нагрев, освещение и горизонтальное положение образца. Образец размером 40 X 40 X 3 из меди М1 был фрезерован по краям и правлен на прессе. В центре образца по стороне 40 X 40 снизу сверлили глухое отверстие для горячего спая термопары. Поверхность образца обрабатывали наждачным полотном (№ 280 перпендикулярно к направлению съемки), травлением (в 10%-ном водном растворе персульфата аммония) и полировкой. Перед загрузкой в печь поверхность образца обезжиривали и на нее помещали припой в виде компактного куска, объемом 64 и 300—400 мм флюса. При загрузке в печь образец укладывали на подложку из нержавеющей стали, расположенную на уровне съемки и нагретую до температуры пайки. Температуру образца замеряли хромель — алюмелевой термопарой. При температуре несколько ниже температуры начала плавления припоя включали кинокамеру и на секундомере фиксировали начало съемки. Контактный угол смачивания и линейный размер капли в процессе растекания определяли при проектировании кинопленки на экран (X 6). По времени, фиксированном на секундомере, и записи температуры определяли температуру в контакте медной пластины и припоя в различные моменты его растекания. Для исследования были выбраны три припоя РЬ (С-000), практически не взаимодействующий с медью и цинком, вытесняемым из реактивных флюсов 8п (ОВЧ-000)— способное к химическому взаимодействию с медью и контактно-реактивному плавлению с цинком припой П0С61 эвтектического состава (61% 8п, РЬ — остальное, Гпл = 183° С), слабее взаимодействующий с медью, чем олово. [c.81]

Температура начала смачивания меди припоями олова и П0С61 и начала их растекания зависела от применяемого флюса и температуры печи. Температура начала смачивания этими припоями с флюсом Прима П при нагреве печи на 70° С выше температуры плавления была несколько выше температуры их автономного плавления припой П0С61 смачивал медную пластину при 229° С, а олово — при 234° С (см. таблицу). В первые секунды после расплавления припоев и смачивания ими медной пластины растекания не происходило контактный угол смачивания капли припоя сначала даже несколько возрастал до значения 0а лишь спустя некоторое время происходило уменьшение контактного угла смачивания и растекание припоя (рис. 1 и 2). [c.82]

Приведенный расчет справедлив для шаровидного зародыша, который образуется в объеме раствора или на поверхности электрода при полном его смачивании жидким электролитом, когда краевой угол смачивания а 0 (рис. 15.1, а). Если смачивание неполное (рис. 15.1,6), то из-за уменьшения контактной поверхности электрод/электролит работа образования зародыша заметно уменьшается. Она уменьшается также, если на поверхности имеются шероховатости, микротрещины и т. д. Таким образом, уравнение (15.8) выражает тол1.ко преле.п.но возможное значение [работы [c.299]

После расплавления припой сначала смачивает паяемую поверхность, но не растекается по ней, а контактный угол смачивания возрастает. Лищь спустя некоторое время тз припой начинает растекаться по поверхности. При этом угол смачивания резко уменьшается за время тз от значения я >2 до значения Я5з и остается таким до начала затвердевания, после чего угол может немного возрастать, приобретая значение 154. [c.243]

Однако предположение k onst а широком интервале потенциалов для всех систем строго не выполняется. Непостоянство к связано с зависимостью от потенциала контактного угла на границе трех фаз ртуть/стекло/раствор. Этот эффект обусловлен электростатическим взаимодействием между ионными двойными слоями на границах стекло/раствор и ртуть/раствор. Стекло в водных растворах электролитов заряжено отрицательно. В связи с этим между стеклом и отрицательно заряженной поверхностью ртути имеет место отталкивание. Следовательно, в этих условиях отсутствует смачивание стекла ртутью и О 0°. В то же время при > О возникает эф( )ект прилипания ртути к стеклу, образуется хорошо определяемый контактный угол > 0°. Чем больше положительный заряд ртути, тем сильнее смачивание ею стекла, больше и, следовательно, согласно уравнению [c.160]

В данной работе было обнаружено явление повышения контактного угла смачивания Зп и РЬ после затвердевания, что, возможно, связано с переходом припоя из жидкого в твердое состояние. Заметное влияние иа кинетику смачивания и растекания припоев ПОС61, 5п и РЬ по меди оказывает шероховатость поверхности. При грубой обработке наждачным полотном поверхности меди, скорость уменьшения фиксируемого контактного угла смачивания меньше, чем на поверхности, подвергнутой травлению, несколько меньше и контактный угол и площадь растекания. На грубо обработанной поверхности вдоль рисок происходит интенсивное растекание легкоплавкой эвтектики 5п—РЬ—2п—Си (блестящей каймы), что, вероятно, связано с капиллярным эффектом. Такое растекание уместно назвать капиллярным. Контактный наблюдаемый угол при капиллярном растекании П0С61 по меди больше, чем при растекании этого припоя на относительно ровной (травленой) поверхности. Смачивание и растекание припоя П0С61 по меди с флюсом Прима III происходит медленнее и с большим контактным углом по полированной поверхности, чем по травленой или грубо зачищенной. [c.84]

Влечина k называется коэффициентом смачивания. Очевидно, что -1 < /е < 1. Если контактный угол 6 = 0, то = 1 и жидкая капля полностью растекается пб твердой поверхности. В этом случае поверхность называется полностью смачиваемой. При О < й < 1 имеем О < 6 < п/2. В этом случае говорят, что поверхность твердого тела смачиваемая, точнее, нужно говорить, что она частично смачиваемая. Другой предельный случай соответствует fe = —1, т. е. 0 = я. При этом твердая поверхность называется полностью несмачиваемой. Из (17.8) следует, что этот случай соответствует большим значениям близким к S. При -1 < < О имеем я/2<6<л. В этом случае говорят, что поверхность несмачиваемая. Примером может служить капля ртути на стекле, для которой угол контакта 0 140 °. [c.436]

Термин смачивание был весьма неопределенным. Иногда границей между смачиванием и несмачиванием считали контактный угол в 90 . Иногда в качестве граничного значения принимали угол 0 Разумеется, даже среди систем, имеющих нулевой контактньи угол, энергия взаимодействия и, таким образом, степень смачивания могут меняться. [c.296]

Смачивание - явление самопроизвольного (при принудительном осу-шествлении - вынужденного) снижения энергии системы в результате взаимодействия ее компонентов-может быть полностью интерпретировано в терминах термодинамики (по крайней мере для низкомолекулярных соединений, когда нет необходимости в учете реологических эффектов). Такая система обычно характеризуется величиной угла, образуемого поверхностью капли жидкой фазы по отношению к твердой поверхности. Для равновесных систем этот угол называют краевым 9 (равновесное смачивание), для неравновесных-контактным ф (оттекание и натекание). При анализе поверхностных явлений, в том числе адгезии, изучают контактное смачивание, поскольку во взаимодействии принимают участие три фазы, а не две, как при иммерсионном смачивании (т.е. при полном погружении твердой фазы в жидкость). [c.21]

Взаимодействие жидкости с привитым слоем. Исследованию смачивания привитых слоев посвящено значительное число работ, однако зачастую сравнительный анализ данных затруднен, поскольку в работах использовались различные подложки и/вли разные методы синтеза монослоев. Так, например, для ковалентнопривитых монослоев алкилдиметилсиланов сообщалось, что контактный угол воды увеличивается с ростом длины цепи для монослоев, закрепленных на кремнеземных пластинах [136,233]. В работе [249] авторы наблюдали незначительное уменьшение угла смачивания с ростом длины цепи для монослоев в кварцевых капиллярах. Минимум угла смачивания для средних цепей в 4-8 атомов углерода наблюдался [137,251) для монослоев, закрепленных на пластинках боросиликатного стекла. В связи с этим наиболее надежными представляются исследования [15,252], выполненные на монокристаллах окисленного кремния — химически и геометрически однородной (атомно-гладкой) кремнеземной подложке. [c.225]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология