Плазмотрон фирмы СКФ

Рис. 2.20. Принципиальная схема плазмотрона фирмы Вестингауз

Существуют три типа дуговых плазмотронов — одноструйные, двухструйные и трехструйные схема маломощного трехэлектродного трехструйного дугового плазмотрона показана на рис. 14.12. Плазма, возникающая между тремя электродами (двумя графитовыми анодами и вольфрамовым катодом), имеет форму перевернутой буквы У. Плазмотрон работает при напряжении 70-80 В и суммарной силе тока = 20 А в потоке аргона с расходом 6-8 л/мин и применяется главным образом для анализа жидкостей, непрерывно распыляемых потоком газа. Аэрозоль пробы вводится в область слияния анодных струй. Пределы обнаружения многих элементов с помощью такого устройства находятся в диапазоне 0,01-0,1 мг/л. Фирма АРЛ (США) комплектует трехструйными плазмотронами выпускаемые ею спектрометры. [c.368]

Рис. 2.24. Принципиальная схема плазмотронов фирмы СКФ

Рис. 2.17. Принципиальная схема плазмотрона фирмы Хюльс

Рис. 2.18. Принципиальная схема плазмотрона фирмы Юнион Карбайд

Плазмотрон фирмы СКФ (SKF) (рис. 2.24). Плазмотрон косвенного действия прямой полярности с трубчатыми электродами [c.62]

Рис. 2.26. Принципиальная схема плазмотронов фирмы Вест Альпин

На рис. 9 показан в разрезе плазмотрон фирмы Сименс-Шук-керт (ФРГ) тае применено газовое охлаждение электродов [c.17]

Некоторые иностранные фирмы, например Линде (США), выпускают электросталеплавильные печи, оборудованные плазмотронами. По конструкции эти печи являются модификацией обычных дуговых печей, но вместо электродов через отверстия в своде проходят в рабочее пространство печи один или несколько плазмотронов. В подину таких печей закладывают токоведущие штыри, позволяющие при желании перенести анод на расплавляемый металл. При этом зажигание дуги происходит на анод—сопло плазмотрона, электрически соединенное с подиной. Такой прием позволяет улучшить к. п. д. печи. Однако слабым местом плазменных печей является наличие подового электрода. В связи с тем, что здесь источник энергии не зависит от хода технологического процесса, такая печь значительно более гибка в управлении и дозировании энергии, передаваемой в металл, чем обычная дуговая. [c.255]

Отношение интенсивности излучения в ультрафиолетовой области к излучению в инфракрасной области — 1,25. Фирма выпускает плазмотроны мощностью до 250 кет. [c.251]

Фирмой Бабкок-Вилкокс (США) разработан плазмотрон мощностью Р= 108 кВт, использование которого позволяет осуществлять розжиг угля с теплотой сгорания 25,4 МДж/кг при расходе 0,4 кг/с. По энергозафатам этот метод экономичнее системы мазутного розжига в 5-6 раз, а эксплуатационные затраты составляют 28 % этих зафат для мазутной системы розжига. [c.52]

Плазмотроны с тороидальными электродами работают как на переменном, так и на постоянном токах. Плазмотроны такого типа разработаны фирмой Вестингауз (США) [127]. Мощность таких плазмотронов достигает 20 ООО кет. В настоящее время фирмой разрабатываются плазмотроны этого типа мощностью до 100—300 тыс. кет. [c.31]

В 1964 г. появилось сообщение о применении фирмой Дюпон новых реакторов для процесса получения ацетилена электродуговым способом. Новые реакторы — плазмотроны коаксиального типа с магнитной стабилизацией электрической дуги. Среднемассовая температура в зоне реакции составляет около 1500° С. Закалка продуктов реакции двухступенчатая. Основными преимуществами этого процесса являются высокий выход ацетилена и [c.127]

Плазмотрон фирмы Хюльс (Huis) (рис. 2.17). Плазмотрон косвенного действия с двумя полыми электродами различного диаметра диаметр медного входного электрода (катода) больше, чем диаметр анода, вынолненного из стали. Плазмообразующий газ вводят [c.58]

Плазмотрон фирмы Юнион Карбайд (Union arbide) (рис. 2.18). Плазмотрон косвенного действия с двумя полыми электродами одинакового диаметра, оба электрода выполнены из меди. Катодный конец дуги вращается магнитным полем. Плазмообразующий газ вводят тангенциально в зоне межэлектродной вставки диапазон изменения электрической мощности — 2 50 МВт. [c.59]

Плазмотрон фирмы Вестингауз (Westinghouse) (рис. 2.20). Плазмотрон косвенного действия, работает и на переменном, и на постоянном токе. Выходной электрод (анод) имеет диаметр меньше, чем диаметр фронтального электрода (катода). Оба конца дуги вращаются в магнитном поле. Электрическая мощность изменяется в интервале 150 -Ь 2000 кВт, напряжение на электродах 500 -Ь 1000 В, электрический ток — 300 -Ь 2000 А. [c.59]

Плазмотрон фирмы Тиоксаид (Tioxide) (рис. 2.21). Плазмотрон косвенного действия, работает на постоянном токе, суп] ествует в двух модификациях стандартный и с вводом нлазмообразуюш,е-го газа через секционированный изолятор. Стандартный плазмотрон представляет собой модернизированный вариант плазмотрона Юнион Карбайд. В плазмотроне с секционированным изолятором последний выполнен в виде нескольких дисков, изолированных друг от друга и от электродов потенциал на этих дисках регулируют в процессе запуска плазмотрона, чтобы постепенно растягивать электрическую дугу. Газ инжектируют между секциями тангенциально в обоих модификациях катодный конец дуги врап] ается в магнитном поле. Электрическая моп] ность изменяется в интервале 500 -i- 5000 кВт, минимальный уровень напряжения на электродах 1700 В, минимальный электрический ток — 350 А. [c.60]

Рис. 2.22. Принципиальная схема плазмотрона фирмы Плазма Енерджи

Плазмотрон фирмы Даидо (Daido) (рис. 2.25). Металлургический плазмотрон постоянного тока, прямой полярности для резки и сварки, работает на аргоне и других газах. Стержневой вольфрамовый катод закреплен в водоохлаждаемой обойме перед водоохлаждаемым медным соплом. Мощность плазмотрона регулируется до верхнего предела 1 МВт. [c.63]

Рис. 2.25. Принципиальная схема плазмотронов фирмы Даидо

Рис. 2.31. Схема действующего электродугового плазмотрона фирмы Аего8ра11а1е/ЕВР в разрезе (а) и фотография плазмотронов мощностью до

Плазмотрон фирмы Тетроникс (Tetroni s) (рис. 2.27). Металлургический плазмотрон постоянного тока, прямой полярности, внешне аналогичен предыдущим плазмотронам за исключением того, что стержневой электрод не заглублен внутрь сопла. Электрод защищен потоком инертного газа, текущего через узкую кольцевую щель, образованную электродом и сонлом. Мощность плазмотрона регулируется до верхнего предела 3 МВт. [c.64]

Рис. 2.28. Принципиальная схема плазмотронов фирмы Крунн

Плазмотрон фирмы Айонарк (lonar ) (рис. 2.29). Металлургический плазмотрон постоянного тока, прямой полярности, прямого действия, внешне подобный плазмотрону на рис. 2.25 за исключением того, что выходной электрод снабжен каналом для ввода порошка непосредственно в дугу. Дуга при пуске плазмотрона сначала замыкается на сопло, затем вытягивается на внешний вращающийся графитовый электрод, как это показано на рис. 2.29. В длинной дуге создаются хорошие условия для обработки порошка. Мощность плазмотрона 0,35 МВт. [c.65]

Для инициирования дуги используют высокочастотный или высоковольтный источник электропитания малой мош,ности. В первом случае в промежутке между электродами, на которые подано напряжение, инициируют высокочастотную искру при этом пробое в меж-электродном промежутке возникает проводящий канал, по которому протекает ток от основного источника электропитания. Мощность разряда регулируется изменением напряжения на электродах или изменением силы тока, или тем и другим одновременно. На рис. 2.31 показан разрез действующего плазмотрона фирмы Aerospatiale/EDF и фотография плазмотронов со следующими параметрами мощность — [c.70]

Плазмотрон прямого действия фирмы Юнион Карбайд (Union arbide) (рис. 2.19). Диапазон изменения мощности — 100 -Ь 750 кВт, напряжение на дуге — 200 250 В, ток дуги — 500 3000 А. [c.59]

Практически все фирмы, разрабатывающие электротехническое оборудование для электропитания дуговых плазмотронов, используют для этой цели тиристорные выпрямители, преобразующие трехфазный переменный ток в постоянный. Существует, однако, проблема стабилизации, обусловленная отрицательной производной напряжения по силе тока дуги, в результате чего напряжение на дуге падает с ростом тока. Стабилизация достигается подсоединением дросселя со стороны выпрямленного тока. Это лимитирует скорость возрастания тока после инициирования дуги и стабилизирует контур управления по отношению к высокочастотным возмущениям. Дроссель также обеспечивает непрерываемость тока па период запуска и действует как сглаживающий дроссель относительно пульсаций в тиристорном выпрямителе. Без дросселя плазменный капал мог бы бессистемно распадаться. [c.69]

Дисульфид молибдена содержится в низкообогащенных молибденито-вых рудах, однако последние после измельчения подвергаются флотации, в результате чего дисульфид молибдена отделяют от пустой породы. Плазменный процесс разложения молибденита на молибден и элементную серу исследован в работе, проведенной канадской фирмой Норанда [17] на сравнительно высоком уровне мощности на различного вида оборудовании. Здесь особое внимание уделено аппаратурным разработкам. В одной из них использован широко применяемый многодуговой плазменный реактор (рис. 3.8), в другой — уже упомянутый выше плазменный реактор Национальной физической лаборатории Великобритании (рис. 3.9), в третьей — плазменный реактор с переносной электрической дугой. На основании накопленного опыта авторами [17] сделан вывод о том, что плазменная печь НФЛ соответствует специфике разложения сульфидного сырья. В основе плазменного реактора НФЛ лежит работа электрической дуги с общего катода на три факела плазмы, создаваемые тремя маломощными вспомогательными электродуговыми плазмотронами. Реактор имеет два экрана (молибденовый и стальной), чтобы уменьшить потери [c.149]

В 1940 г. фирма Хюльс [115] построила промышленную установку для производства ацетилена из углеводородного сырья в дуге постоянного тока. В 1961 г. производительность этой установки достигла 100 ООО т ацетилена в год. Наряду с ацетиленом вырабатывается 55 ООО ш эти 1эна, 30 ООО т водорода и 29 ООО т сажи. Общая мощность электродуговых реакторов завода фирмы Хюльо С9Ставляет 180 Мет. Получение ацетилена осуществляется в электродуговом осевом плазмотроне мощностью в 200 кет и силой тока 1150 а, коэффициент полезного действия составляет 75%, в реакторе Хюльс применена вихревая стабилизация электрической дуги. [c.126]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология