Проявление систематической ошибки

Проявление систематической ошибки [c.61]

Если анализируемая проба исследуется в различных лабораториях, то в одних лабораториях возникают систематические ошибки разной величины со знаком плюс, а в других — со знаком минус. Эти систематические отклонения гораздо больше случайной ошибки метода. Так как они обладают различными величинами и разными знаками, они проявляются в форме беспорядочного рассеивания результатов, т. е. в форме увеличенной случайной ошибки. Одновременное проявление систематических ошибок различной величины и разных знаков ведет таким образом к росту случайной ошибки. [c.27]

В аналитической практике выделяют три разновидности погрешностей, которые могут искажать результаты анализов при проявлении причин различной природы случайные погрешности, систематические погрешности и промахи. Случайные погрешности обусловлены неявными факторами, меняющимися от опыта к опыту, и характеризуют понятие воспроизводимости метода (методики) анализа. Систематическая погрешность обусловлена причинами известной природы (или же причинами, которые могут быть выявлены при детальном рассмотрении методики). Ей соответствует понятие правильность метода анализа . Понятие точность объединяет воспроизводимость и правильность метода анализа. Разница между случайными и систематическими отклонениями ( ,) заключается в том, что первые могут принимать различные значения с различными знаками, и для выборки достаточно большого объема число положительных отклонений должно быть равно числу отрицательных, вторые постоянны как по значению, так и по знаку, хотя постоянство их по значению может быть абсолютным или относительным. Наконец, третий вид погрешности — промах — предст авляет собой отклонение, которое резко отличается по значению от других отклонений выборки и причиной которого является невнимательность или некомпетентность аналитика. Промахи и систематические ошибки, присутствующие в выборке результатов анализа, выявляются в результате ее статистической обработки. [c.84]

Это 5ке явление, по нашим наблюдениям, оказывает некоторое влияние и на интенсивность линий рентгеновских спектров, получаемых в спектрографах, в которых изогнутые кварцевые пластинки используются в качестве анализаторов рентгеновских лучей. Снятые с интервалом в 3 месяца и проявленные в стандартных условиях спектрограммы от одного и того же веш ества заметно отличались друг от друга интенсивностью и основных лпнин спектра п общего фона. Так как основная серия опытов, о которых речь будет итти ниже, проводилась в течение нескольких лет, то было необходимо выяснить, не появляется ли, по мере увеличения за время опытов интенсивности окраски кристалла, систематическая ошибка в измерениях. [c.55]

Точность воспроизведения размеров рисунка — вопрос более сложный, потому что отклонения от заданных первоначальных размеров накапливаются на протяжении всего технологического процесса изготовления и фотошаблонов, и фоторезистов. С этой точки зрения, очень трудно оценить два непрерывно изменяющихся параметра — это качество оборудования и аппаратуры и опыт операторов. Принимая идеально воспроизводимыми процессы нанесения фоторезиста, экспонирования, проявления и травления, тем не менее необходимо отметить, что конечные размеры рисунка после травления будут воспроизведены, но будут отличаться от первоначально заданных. Отклонения, возникающие при вырезании оригинала, изменении режимов технологии изготовления фотошаблонов и другие, непременно имеющие место ошибки, даже в случае самых лучших условий выполнения технологического процесса получения фоторезиста, увеличивают возникающие систематические ошибки. Ошибки, возникающие при мультиплицировании и совмещении фотошаблонов, здесь не рассматриваются, так как они оказывают воздействие только на расположение элементов рисунка относительно друг друга, но не на размеры. Оценим значения вносимых ошибок. По данным, опубликованным Шутцем и Хенингом, при самых благоприятных условиях работы эти отклонения составляют от 0,5 до I мкм на каждой из перечисленных выше операций. Суммарная ошибка, по-видимому, не очень велика. Отклонение размеров рисунка в 2,5 мкм является обычным явлением для линий шириной в 25 мкм, а ошибка при последующих совмещениях отдельных фрагментов рисунков может увеличить ее ровно вдвое [23]. [c.616]

Систематическиё ошибки действуют длительное время в одну сторону. Например, по какой-то причине изменилось сопротивление контактов в электрической схеме искрового или дугового генератора, от этого изменились условия возбуждения в плазме, разряда результат определения будет отклоняться в какую-то одну сторону все время, пока действует эта причина. При длительном использовании одной и той же группы эталонов изменяются свойства эталонов (например, вследствие многократного теплового воздействия разряда) и изменяется выход вещества в зону разряда. Это приводит к смещению аналитических кривых и к ошибкам определения в одну сторону, пока не будут сменены эталоны. Случайные ошибки действуют в разных направлениях и приводят к тому, что при многократном повторении анализа одной и гой же пробы результаты определения будут колебаться в обе стороны относительно некоторого среднего значения для данной серии измерений. Длительно действующая систематическая ошибка будет смещать это среднее значение в какую-то одну сторону. Случайные ошибки вызываются неоднородностью пробы, неоднородностью фотографической пластинки, плохой воспроизводимостью межэлектродного промежутка при установке электродов, неоднородностью проявления и другими случайными причинами. [c.114]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология