Триметилфторсилан

Триметилфторсилан получается также при фторировании гексаметил-дисилоксана [c.56]

Трифенильное соединение с алкоксидной уходящей группой вступает в реакцию замещения почти с такой же скоростью, как и триметильное производное (для соответствующих фторидов сравнение затруднено из-за высокой скорости замещения фтора в триметилфторсилане) трифенильные соединения с бензильной или гидридной уходящими группами реагируют быстрее, чем их триметильные аналоги (см. табл. 13.2) [46, 47]. [c.78]

Превращение неорганических фторидов в триметилфторсилан можно использовать для их определения в фармацевтических материалах. Этим методом было проанализировано 17 фармацевтических препаратов. Содержания фторид-иона колебались от ОД ррш (в КС1) до 162 ppm (в Саз(Р04)2). Предел обна-Р)жения составляет 0,01 ppm при коэффициенте вариации 0,6—0,8 [214]. [c.349]

К числу наиболее важных ионов (см. табл. IV. 10), определяемых при помощи ИСЭ, относятся ионы натрия, кальция, калия, фторид-, хлорид-, нитрит- и сульфид-ионы. Ионометрия позволяет также определять содержания растворенных в воде газов, например аммиака, оксидов азота и диоксида углерода. В качестве примера рассмотрим методику определения в воде очень реакционноспособного фтора. Это определение по причине высокой агрессивности фтора трудно выполнить спектральным или хроматографическим методом. В последнем случае такое определение (см. главу I) возможно лищь после перевода этого газа в триметилфторсилан по реакции с триметилхорсиланом [6]. [c.354]

В более поздних работах основное внимание уделяли влиянию силиконовой смазки на процесс диффузии. Найдено [42, 43], что диффузия фторида значительно возрастает в присутствии силиконовой смазки, используемой для герметизации в микродиффузион-ных ячейках (рис. 40). В присутствии простейшего силикона — гексаметилдисилоксана фторид выделяется из образца за 1 ч при комнатной температуре, т. е. за время в 10 раз меньшее, чем в предыдущей диффузионной методике. Предполагают, что образуется триметилфторсилан по реакциям [c.336]

I — триметилфторсилан 2 — к-пентан 3 — избыток кремннйсодержащего реагента и раствори теля (бензол). [c.434]

В 1968 г. был опубликован метод быстрого синтеза триметил-фторснлана из триметилхлорсилана в кислых растворах [8]. Эту реакцию использовали для разработки быстрого метода определения общего и растворимого ( свободного ) фторида в смесях, содержащих монофторфосфат [9]. Триметилфторсилан экстрагировали бензолом, содержащим н-пентан в качестве внутреннего стандарта. Разделение осуществляли в стеклянных колонках, содержащих 10% силикона OVI на целите AWDM S с размером зерен [c.435]

Рядом авторов предложены методы разделения азеотропной смеси ТМХС — ЧХК путем перевода ее компонентов во фторпро-изводные [315, 330, 361, 369, 532]. Температуры кипения метил-фторсиланов отличаются одна от другой более значительно, чем у метилхлорснланов (четырехфтористый кремний минус 65 °С триметилфторсилан — плюс 17 °С). Метилфторсиланы находят самостоятельное применение в производстве кремнийорганических продуктов. [c.106]

В последние годы появились сообщения [162—165], указывающие на то, что связь Si—F может образоваться и в результате расщепления связей Si—Hg, Si—S, Si—Se и др. Так, при фотохимической реакции бис-(триметилсилил)ртути с хлортрифторэтиле-ном одним из продуктов реакции является триметилфторсилан Г163] [c.52]

Как и в случае третичных силиламинов, реакция очевидно проходит через комплекс дисилазана с ВХ3. Во всяком случае, зафиксировано образование стойкого аддукта (1 1) гексаметилдисилазана с трехфтористым бором [816, 986]. В мягких условиях (О—20° С) продукты его разложения соответствуют схеме (3-64). При 200° С получается триметилфторсилан и В-трифторборазол, однако достаточно твердо можно говорить о промежуточном образовании триметилсилиламинобортрифторида, поскольку замещен- [c.217]

Фторсилан и триметилфторсилан образуют при —128° С аддукты 1 1 с ВРз, а триметилхлорсилан в подобных условиях координационного соединения с ВС1з не образует [689, 1186]. При комнатной температуре ВС1з с триметилхлорсиланом и тетраметилсиланом также не реагирует [649], однако в присутствии уАЬОз или кремнемедного сплава при комнатной температуре или при нагревании смеси до 350° С протекает диспропорционирование, имеющее равновесный характер [c.235]

При взаимодействии шестифтористого вольфрама с гексаметилдисилоксаном образуется триметилфторсилан [1205, 1206] [c.115]

Органилсилиловые эфиры фторсульфоновой кислоты получены взаимодействием алкилфторсиланов с серным ангидридом [613]. Так, например, триметилфторсилан реагирует с SO3 при комнатной температуре, образуя триметилсилиловый эфир фторсульфоновой кислоты с выходом 89% [c.191]

Фтористоводородная кислота наиболее энергично разрушает силокса-новую связь в полиорганосилоксанах. При действии на гексаметилдисилоксан фтористого аммония в присутствии серной кислоты происходит разрыв связи 51—0—51 и образуется триметилфторсилан. Реакция протекает в мягких условиях. [c.21]

Связь кремния с галогенами. В отличие от углерода, кремний обладает повышенной способностью к образованию соединений с электроотрицательными элементами, и это резко выражено в его реакциях с галогенами. Связи кремний — галоген обладают очень высокой термостабильностью. Например, тетрахлорсилан 81С14 пе разлагается при температурах выше 600° С. Введение в молекулы силана органического радикала приводит к заметному снижению тепловой устойчивости полученных соединений, шсключение составляют лишь фториды. Так, триметилфторсилан разлагается при 600° С. , [c.527]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология