Кремний осаждение

Для повышения вязкости герметиков в их состав вводят тиксотропные добавки — двуокись кремния, осажденный мел. силикат алюминия, поливиниловый спирт и др. [77, 78]. [c.150]

С целью получения кремния высокой чистоты изучались способы приготовления и очистки силана ЗШ и его термическое разложение. Количественный выход силана был получен при восстановлении тетрахлорида кремния алюмолитиевым гидридом. Процесс термической диссоциации силана оценивался по чистоте получаемого кремния и скоростям разложения и осаждения. Разложение силана проводилось на индукционно нагреваемом монокристалле кремния. Осажденный микрокристаллический кремний высокой чистоты подвергали нейтронному активационному анализу. [c.24]

Очистка сточных вод от кремния — осаждением, коагуляцией, методами гидрометаллургии и современными методами физико-химической очистки. При очистке сточных од методом обратного осмоса концентрация силикатов снижается на 90% [2]. [c.67]

Оставляя в стороне спектрографические методы определения кремния, осаждение кремнекислоты раствором желатины и некоторые другие предложения, опишем фотометрический метод. [c.92]

Неорганические загустители диоксид кремния (осажденный или тонкодисперсный из газовой фазы) например, аэросил [12.37 ], которому может быть придана гидрофобность путем обработки диизоцианатом или эпоксидными смолами для улучшения его водостойкости [12.38], Органофильные бентониты — монтмориллонит, гекторит, получаемые обменом ионов натрия с ионами четвертичного аммония [12.39—12.42]. [c.420]

Свойства пленок нитрида кремния, осажденных в процессах [c.96]

Частицы двуокиси кремния осаждаются (адсорбируются) на поверхности зерен люминофора и на поверхности стеклянной подложки. Частицы двуокиси кремния, осажденные на зернах люминофора, полимеризуются между собой и с частицами, осажденными на стеклянной подложке. При этом образуется прочная [c.250]

Алкалоид цинхонин осаждает вольфрамат из растворов минеральных кислот. Определению мешают мышьяк(V) и фосфор (V), образующие комплексы с цинхонином. Осаждается также кремний. Осаждение цинхонином позволяет отделять микросодержания вольфрама, в том числе от молибдена (VI). Этот метод используют для определения вольфрама в стали [6]. Отделение проводят путем гидролиза с введением цинхонина как дополнительного осадителя. [c.234]

Нанесение 26—-1Ю мкм эмали (глазурование). Нанесение пленки моноокиси кремния. Осаждение кремния на расплавленную эмаль методом реотаксни Осаждение нескольких микрон моноокиси кремния Осаждение моноокиси кремния [c.544]

Для повышения вязкости герметиков и придания им тик-сотропных свойств, исключающих стекание с вертикальных и потолочных поверхностей, применяют тиксотропные добавки дисперсный диоксид кремния, осажденный мел, бентонит, различные марки белых саж. Эффективно также сочетание 1,2 ч. (масс.) коллоидного диоксида кремния с 0,25 ч. (масс.) эти-ленгликоля, что позволяет увеличить вязкость герметика с 500—600 Па-с до 3000 Па-с [159]. С этой же целью рекомендуется вводить поливиниловый спирт в виде водного раствора в количестве 0,2—2 ч. (масс.) на 100 ч. (масс.) полимера или гидрированное касторовое масло, дозировка которого может изменяться от 2 до 5 ч. (масс.) на 100 ч. (масс.) тиокола. [c.64]

Для получения защитных пленок на полупроводниковых изделиях, в частности на поверхности кремния, осаждение производится чаще при 500—800° С. Низкотемпературное нанесение пленок на поверхность изделий из кремния возможно при разложении алкоксисиланов в газовой плазме. В частности, разработан метод нанесения пленок Si02 путем разложения различных соединений [c.38]

В работе [262] микроколичества мышьяка отделяли от кремния и особой чистоты двуокиси кремния осаждением на платиновом катоде в виде АзНз- Электролитическое концентрирование микропримесей на угольном порошке с последзгющим спектральным определением использовано для анализа сурьмы высокой чистоты [263].— Прим. ред. [c.106]

Концентрация водорода в пленках нитрида кремния, полученных в плазмоактивированных процессах ХОГФ, зависит от условий осаждения и особенно оттемпературы. Например, пленки нитрида кремния, осажденные в процессе 3, при Г= 400 С содержат 25 ат. % [c.131]

Пленки двуокиси кремния, осажденные на стеклянные поверхности разложением тетраэтоксисилана или других алкоксисоедипений кремния при температурах между точками размягчения и плавления стекла, увеличивают химическую устойчивость стекла [83]. Обработанная поверхность остается при этом чистой и прозрачной. [c.341]

Установлено [2, 38], что температура прокаливания двуокиси кремния, осажденной гидролизом тетраэтокснсилана в жидкой фазе, в пределах 650— 750 С является оптимальной. В этом случае в двуокиси кремния не образуется черных вкраплений мелкодисперсного углерода, а в кварцевом стекле, полученном из нее, не появляются пузырьки воздуха. [c.400]

Стеклянная подложка состоит в основном из силикатов калия и натрия. Силикаты, входящие в поверхностный слой стекла, при соприкосновении с водным раствором распадаются на положительные К+ и Ыа+ и отрицательные ионы 510з-2. При этом положительные ионы натрия и калия покидают поверхность стекла и переходят в водный раствор, а отрицательные ионы 8 Оз 2 остаются на поверхности стекла (так как они прочно связаны с атомами кремния и кислорода, лежащими в глубине стеклянной подложки). Вследствие этого процесса поверхность стеклянной подложки приобретает отрицательный заряд. Поэтому одноименно отрицательно заряженные коллоидные частицы двуокиси кремния, осажденные на частицах люминофора, отталкиваются не только друг от друга, но и от поверхности стеклянной подложки. Эти электрические силы отталкивания затрудняют закрепление люминесцентного покрытия, но в то же время препятствуют комкованию и слипанию частиц двуокиси кремния (а следовательно, и частиц люминофора) и соответст- [c.251]

Методам получения н нсслсдования параметров пленок двуокиси кремния из газовой и жидкой фазы на основе тетраэтоксисилапа (ТЭС) посвящен ряд работ [1 —15]. В больщинстве из них осаждение и исследование свойств пленок ЗЮг проводилось на подложках кремния и инертных средах. Имеющиеся в литературе сведения о свойствах пиролитических пленок двуокиси кремния, осажденных на германш" н арсс-иид галлия, незначительны п в некоторых случаях противоречивы [6-10]. [c.40]

Сульфидные образования этих гидротермальных полей богаты п и обеднены Си, в них также отмечаются очень высокие концентрации Ка, Аи и Ag (см. табл. 6.3). Постройки сложены сфалеритом, вюртцитом и аморфным кремнием, осажденными на внутренних частях внешних стенок, состоящих из марказита и барита. Особенностью состава сульфидных отложений горы Осевой является большое содержание золота, сопоставимое лишь с сульфидами южного сегмента хребта Эксплорер [275]. [c.205]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология