Полиамиды фотолиз

Рафиков и Сюй Цзи-пин 2905-2007 изучали химические превращения, происходящие в полиамидах под действием УФ-света, и установили, что при облучении в вакууме в отсутствие кислорода в основном протекает процесс структурирования в результате отщепления атома водорода и рекомбинации макрорадикалов. Наблюдается также частичный разрыв С — С-связи и выделение низших углеводородов. Прочность пленки падает незначительно. При исследовании скорости газовыделения и квантового выхода при фотолизе поликапролактама было показано, что водород выделяется с постоянной скоростью, а скорость выделения СО быстро падает и достигает постоянной величины через 20 час. облучения. Авторы предполагают, что непостоянство скорости выделения СО в начальный период связано с разрушением окисленных участков поликапролактама. [c.422]

Изменение механических свойств полиамидов сильно зависит от условий облучения. Так, при фотолизе в среде сухого азота под действием коротковолнового излучения (2537 A) были получены кривые, приведенные на рис. 108, показывающие значительное падение разрывного удлинения и разрывной прочности при облучении полиамидов при 40° С [68]. Для поликапроамидных волокон в результате 92-часового облучения разрывное удлинение падает на 42%, для полигексаметиленадипинамида — на 30%. Прочность на разрыв при этом для поликапроамида падает на 28%, для полигексаметиленадипинамида— на 10%. [c.222]

При фотолизе и фотоокислении полиамидов число конечных карбоксильных и аминогрупп изменяется, причем формы кинетических кривых для содержания —СООН- и —МНг-групп различны. [c.223]

Во многих работах исследовались продукты, получающиеся при фотолизе и фотоокислении полиамидов [15, 16, 68, 70, 71, 74]. Так, при облучении пленок смешанного полиамида [15] ультрафиолетовым светом при 95° С масс-спектроскопически были обнаружены газообразные продукты СО, СОа, НгО и углеводороды [15]. Как и [c.227]

Действительно, как указывалось, при фотолизе поликапроамида вначале повышается вязкость раствора облученного полиамида в трикрезоле, а затем образуется гель-фракция. [c.228]

На основании изучения состава газов, образующихся при фотолизе полиамидов, предлагается схема процессов, протекающих при облучении в вакууме [71] [c.228]

Количество образующегося водорода такое же, как при фотолизе, окиси углерода выделяется в 10 раз больше, чем в отсутствие кислорода. Образование больших количеств СО объясняется появлением новых карбонильных групп при окислении полиамида. [c.230]

Реакция Норриша I типа играет важную роль в фотолизе полиуретанов (1), поликарбонатов (2), полиамидов (3) [c.356]

При поглощении полиамидом УФ-излучения в результате фотодиссоциации образуются свободные радикалы. Такая схема была предложена Моором [11] на основании исследования фотодеструкции ПА 66 в атмосфере азота и воздуха. Он предположил, что реакция фотолиза, инициированная световой энергией [c.93]

Выбор светочувствительных компонентов для этого материала чрезвычайно широк. Практически к использованию предлагаются любые светочувствительные системы хинондиазиды солн диазония азиды композиции, генерирующие при фотолизе радикалы, напрнмер, содержащие полигалогениды СНСЦ СВг4, СВгзЗОгСбНв с дифениламином или нафтолом композиции хинонов с комплексами теллура или кобальта коллоиды, очувствленные бихро-матами поливинилциннаматы. В них дополнительно могут быть включены стабилизаторы, увеличивающие срок хранения, красители или промоторы сухого проявления. В качестве полимерных связующих для этих композиций рекомендуются феноло-формальдегидные смолы, ПВБ, поливинилформаль, ПС, полиакриловая кислота, ПММА, ПВА, сополимеры винилиденхлорида, акрилонитрила, винилацетата с малеиновым ангидридом, водорастворимые полимеры — желатина, ПВП, ПВС. Термореактивные полимеры, например эпоксидные смолы, могут быть введены в некотором количестве в термопластичное связующее, но при этом необходимо соблюдать осторожность при нагревании светочувствительного материала. Толщина светочувствительного слоя может быть от 0,5 до 500 мкм, предпочтительно 20—100 мкм. В качестве материала листа, принимающего переносимое изображение, могут быть использованы полиамиды, сополимеры винилиденхлорида, бумага, ламинированная полиэтиленом или полипропиленом. Этот лист [c.201]

Установлено, что содержащие распаренные спины полисопряженные фрагменты, образующиеся при термолизе резитов и фотолизе полиуретанов и ароматических полиамидов, являются эффективными стабилизаторами собственных или других полимеров (рис. VI.15 и VI.16). По-видимому, благодаря наличию сопряженных фрагментов у ряда насыщенных полимеров наблюдается эффект са мостабилизации Подобные эффекты наблюдались при введении активированных содержащих ПМЦ и блоки сопряжения полимеров в предназначенный для переработки в изделия полимерный материал. [c.254]

Светостабилизация. Исследование механизма реакций, протекающих в ароматических полиамидах под действием света, позволило установить, ЧТО фотолиз соответствующих полимеров сопровождается расщеплением амидной связи и образованием бензоильного радикала и радикала анилина [103]. Фотодеструкция полиамидных волокон, проходящая на воздухе, в инертной атмосфере, а также в присутствии паров [c.110]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология